[發(fā)明專利]一種輻射流體機

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710695351.2
• 申請日: 2017-08-15
• 公開（公告）號: CN107689748A
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊培應(yīng)
• 申請（專利權(quán)）人: 楊培應(yīng)
• 主分類號: H02N11/00
• 分類號: H02N11/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種輻射流體機，其特征在于，其包括：接收單元，包括接收框架和設(shè)置于所述接收框架上的回流線圈和真空頻率線圈，所述回流線圈的鐵芯和所述真空頻率線圈的鐵芯是永磁鐵空心鐵體，回流線圈處理電流通過流經(jīng)所述真空頻率線圈，而將所述電能轉(zhuǎn)換至所述輸出線圈；接收單元，包括輸出線圈和液體線圈和接收線圈，所述接收線圈和輸出線圈和液體線圈的鐵芯是永磁體，所述液體線圈的能源以感應(yīng)電能供給真空頻率線圈，以真空頻率線圈的電能供給輸出線圈以輸出線圈的能源供給元器件使用。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射流體機，其特征在于，所述接收框架上設(shè)置有接收線圈，所述接收框架構(gòu)造為方形框架，所述接收線圈的能源以接收邊緣流體力能體系變化，所述接收線圈相對于回流線圈兩邊對稱設(shè)置，位于處理線圈和回流線圈和真空頻率線圈和輸出線圈和感應(yīng)線圈的變化磁場中。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻射流體機，其特征在于，所述接收框架上還設(shè)置有處理線圈，所述處理線圈的變化在回流線圈和流體線圈和真空頻率線圈和輸出線圈和感應(yīng)線圈的變化而來，所述處理線圈相對于流體線圈邊緣設(shè)置，位于回流線圈和輸出線圈和真空頻率線圈和感應(yīng)線圈和接收線圈和流體線圈的變化磁場中。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的輻射流體機，其特征在于，所述接收框架上還設(shè)置有回流線圈，所述回流線圈的變化在處理線圈和輸出線圈和真空頻率線圈和流體線圈和感應(yīng)線圈的變化而來，所述回流線圈相對于接收線圈之間設(shè)置，位于處理線圈和輸出線圈和接收線圈和真空頻率線圈和感應(yīng)線圈和流體線圈的變化磁場中。

5.根據(jù)權(quán)利要求2或3或4所述的輻射流體機，其特征在于，所述接收框架上還設(shè)置有真空頻率線圈，所述真空頻率線圈的變化在回流線圈和處理線圈和接收線圈和流體線圈和輸出線圈和液體線圈的變化而來，所述真空頻率線圈相對于感應(yīng)線圈邊緣設(shè)置和液體線圈對稱設(shè)置，位于回流體線圈和輸出線圈和處理線圈和流體線圈和液體線圈和接收線圈的變化磁場中。

6.根據(jù)權(quán)利要求2或3或4或5所述的輻射流體機，其特征在于，所述接收框架上還設(shè)置有液體線圈，所述液體線圈的變化在處理線圈和真空頻率線圈和輸出線圈和流體線圈和接收線圈和感應(yīng)線圈的變化而來，所述液體線圈相對于真空頻率線圈對稱設(shè)置和感應(yīng)線圈邊緣設(shè)置，位于輸出線圈和處理線圈和回流線圈和真空頻率線圈和流體線圈和感應(yīng)線圈的變化磁場中。

7.根據(jù)權(quán)利要求2或3或4或5或或6所述的輻射流體機，其特征在于，所述接收框架上還設(shè)置有輸出線圈，所述輸出線圈的變化在回流線圈和真空頻率線圈和接收線圈和液體線圈和處理線圈和感應(yīng)線圈和流體線圈的變化而來，所述輸出線圈相對于回流線圈對稱和邊緣設(shè)置，位于真空頻率線圈和液體線圈和處理線圈和流體線圈和回流線圈和接收線圈的變化磁場中，所述輸出線圈以單極化輸出。

8.根據(jù)權(quán)利要求2或3或4或5或或6或7所述的輻射流體機，其特征在于，所述接收框架上還設(shè)置有感應(yīng)線圈，所述感應(yīng)線圈的變化在處理線圈和流體線圈和輸出線圈和接收線圈的變化而來，所述感應(yīng)線圈相對于流體線圈兩邊對稱設(shè)置，位于處理線圈和接收線圈和輸出線圈和真空頻率線圈和液體線圈和流體線圈的變化磁場中。

9.根據(jù)權(quán)利要求2或3或4或5或或6或7或8所述的輻射流體機，其特征在于，所述接收框架上還設(shè)置有流體線圈，所述流體線圈的變化在接收線圈和感應(yīng)線圈和處理線圈和真空頻率線圈和液體線圈和輸出線圈的變化而來，所述流體線圈相對于感應(yīng)線圈之間設(shè)置，位于接收線圈和回流線圈和輸出線圈和真空頻率線圈和液體線圈和處理線圈和感應(yīng)線圈的變化磁場中。