[發(fā)明專利]一種片內(nèi)溫度補(bǔ)償石墨烯壓力傳感器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710693620.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107436205B | 公開(公告)日: | 2023-10-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李孟委;趙世亮;吳承根;王莉;王俊強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中北大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01L1/18 | 分類號(hào): | G01L1/18;G01L1/26;G01L9/06;G01L19/04;G01L9/00 |
| 代理公司: | 北京方圓嘉禾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11385 | 代理人: | 劉璐璐 |
| 地址: | 030051*** | 國(guó)省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 溫度 補(bǔ)償 石墨 壓力傳感器 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種片內(nèi)溫度補(bǔ)償?shù)氖毫鞲衅鳎瑢賶毫y(cè)量 及誤差分析的技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
現(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)過程中,壓力與溫度、流量一起并稱為自動(dòng)化控 制的三大要素。航空航天、水利水電、武器裝備、汽車生產(chǎn)等工業(yè)領(lǐng) 域,對(duì)壓力傳感器的測(cè)控精度以及穩(wěn)定性提出了越來(lái)越高的要求。
實(shí)際應(yīng)用過程中,壓力傳感器的測(cè)量精度受溫度影響會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重 的漂移,主要包括零點(diǎn)漂移和靈敏度漂移,其產(chǎn)生的原因分別是敏感 電阻的電導(dǎo)率和壓阻系數(shù)會(huì)受到溫度的影響,半導(dǎo)體壓敏電阻的溫度 系數(shù)與摻雜濃度相關(guān),制作工藝上很難實(shí)現(xiàn)惠斯通電橋每個(gè)橋臂電阻 的溫度系數(shù)完全相同,力敏電阻的不等性使得溫度漂移更加復(fù)雜,也 成為壓力傳感器溫度補(bǔ)償工作難度大的根本原因。目前多采用的有前 端隔溫處理或后端算法補(bǔ)償這兩種方法,復(fù)雜而且未從根本上解決問 題。
針對(duì)上述問題,本發(fā)明提出一種片內(nèi)溫度補(bǔ)償石墨烯壓力傳感器, 提出將石墨烯取代傳統(tǒng)半導(dǎo)體力敏材料,利用石墨烯優(yōu)異的力敏和溫 敏特性,由溫敏薄膜檢測(cè)溫度干擾信號(hào),補(bǔ)償力敏薄膜壓力測(cè)量過程 中的溫度誤差,實(shí)現(xiàn)器件的自溫度補(bǔ)償,從根本上解決壓力傳感器溫 度補(bǔ)償難度大的問題。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明目的
本發(fā)明的目的就是針對(duì)背景技術(shù)的不足,設(shè)計(jì)一種片內(nèi)溫度補(bǔ)償 石墨烯壓力傳感器,從根本上解決壓力傳感器難以實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確溫度補(bǔ)償 的難題。
技術(shù)方案
本發(fā)明的主要結(jié)構(gòu)由力敏納米薄膜、溫敏納米薄膜、互連電極、 基片、密封環(huán)、封裝外殼、基板、陶瓷基座、引線柱組成。
在陶瓷基座12上設(shè)置基板11,并粘結(jié)牢固,在基板11表面通 過密封環(huán)8、9鍵合基片7,基板11在相對(duì)于溫敏納米薄膜4的位置 刻蝕形成一凸臺(tái)結(jié)構(gòu)17,基片7下表面布置了力敏納米薄膜1和溫 敏納米薄膜4,并通過電極1、2、5、6粘接牢固,電極1、2、5、6 通過布線與互連電極相連,引線柱11、12貫穿陶瓷基座10,連接互 連電極與外部,用于傳遞溫敏薄膜與力敏薄膜對(duì)壓力信號(hào)和溫度信號(hào) 的電學(xué)響應(yīng),互連電極由互連凸點(diǎn)(30、31、32、33)與互連焊盤(34、 35、36、37)鍵合構(gòu)成;基片7上部刻蝕了凹形結(jié)構(gòu);封裝外殼10 與陶瓷基座12鍵合,基片7封閉封裝外殼10。
基片7下部布置了力敏納米薄膜3和溫敏納米薄膜4,均由上下 兩層氮化硼層以及中間單層石墨烯構(gòu)成,所述氮化硼的層數(shù)大于等于 1;基片7上部刻蝕形成了凹形結(jié)構(gòu),膜片16為凹形結(jié)構(gòu)的一部分, 基片7與封裝外殼10鍵合。
基板11通過密封環(huán)8、9鍵合基片7,基片7、基板11、密封環(huán)(8、9)組成了一個(gè)密封的無(wú)氧真空腔,隔絕了納米薄膜與外界的直 接接觸,并保障兩組納米薄膜(3、4)處于同一溫區(qū),基板11在相 對(duì)于溫敏薄膜4的位置刻蝕形成一凸臺(tái)結(jié)構(gòu)17,保障溫敏薄膜4在 外部壓力作用下不會(huì)發(fā)生形變,陶瓷基座12與基板11相連接,將器 件固定。
電極1、2、5、6布置在石墨烯薄膜兩側(cè),用于導(dǎo)出氮化硼/石墨 烯/氮化硼納米薄膜中的電學(xué)響應(yīng),電極1、2、5、6通過布線與互連 電極相連,引線柱11、12貫穿陶瓷基座10,連接互連電極與外部, 用于傳遞溫敏薄膜與力敏薄膜對(duì)壓力信號(hào)和溫度信號(hào)的電學(xué)響應(yīng),互 連電極由互連凸點(diǎn)(30、31、32、33)與互連焊盤(34、35、36、37) 鍵合構(gòu)成;浸潤(rùn)層18、19、20、21、22、23起到浸潤(rùn)與阻擋的作用, 分別連接電極1、2、5、6,密封環(huán)8、9與基片7,加大粘合力,并 阻止高溫下金屬原子和基片原子的相互擴(kuò)散。封裝外殼10用以隔絕 外部環(huán)境,支撐、保護(hù)內(nèi)部表頭結(jié)構(gòu)。
有益效果
本發(fā)明與背景技術(shù)相比具有明顯的先進(jìn)性,利用石墨烯薄膜替代 了傳統(tǒng)的半導(dǎo)體壓阻材料,避免了力敏電阻因摻雜導(dǎo)致的不等現(xiàn)象, 進(jìn)而使溫度漂移問題簡(jiǎn)單化,利用金屬將基片與基板鍵合形成無(wú)氧真 空腔,同時(shí),石墨烯夾在兩層氮化硼納米薄膜之間,有效的消除了周 圍環(huán)境中的干擾因素,提升了器件的可靠性,傳感器可應(yīng)用于動(dòng)態(tài)、 靜態(tài)高力學(xué)測(cè)試環(huán)境,利用溫敏薄膜檢測(cè)溫度干擾信號(hào)補(bǔ)償力敏薄膜 壓力測(cè)量時(shí)產(chǎn)生的溫度誤差,從根本上解決目前壓力傳感器難以實(shí)現(xiàn) 準(zhǔn)確溫度補(bǔ)償?shù)膯栴}。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明實(shí)施例的立體示意圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明實(shí)施例的芯片結(jié)構(gòu)立體示意圖;
圖4為本發(fā)明實(shí)施例的芯片結(jié)構(gòu)俯視圖;
圖5為本發(fā)明實(shí)施例的芯片結(jié)構(gòu)側(cè)視圖;
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