[發(fā)明專利]光學(xué)元件超聲刻蝕裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710691293.6 | 申請日: | 2017-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN107481959B | 公開(公告)日: | 2019-06-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 葉卉;姜晨;汪中厚 | 申請(專利權(quán))人: | 上海理工大學(xué) |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海申匯專利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吳寶根;王晶 |
| 地址: | 200093 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 元件 超聲 刻蝕 裝置 | ||
1.一種光學(xué)元件超聲刻蝕裝置,包括刻蝕液存貯箱(1)、刻蝕液循環(huán)槽(2)、刻蝕反應(yīng)槽(3)、輸液導(dǎo)管(6)、輸液開關(guān)(7)、支架(8)、底座(9)、控制鍵盤(10)、溫度顯示器(11)、微控制器(12)、隔板(13)、微型循環(huán)泵(18)、超聲波發(fā)生器(19)、溫度傳感器(20)、第一電機(21)、第二電機(22)、多功能夾具(25)以及存儲在刻蝕液存貯箱(1)、刻蝕液循環(huán)槽(2)和刻蝕反應(yīng)槽(3)內(nèi)的刻蝕溶液(4),其特征在于:所述刻蝕液存貯箱(1)通過輸液導(dǎo)管(6)與刻蝕液循環(huán)槽(2)相連,輸液導(dǎo)管(6)上設(shè)有輸液開關(guān)(7);控制鍵盤(10)、溫度顯示器(11)和微控制器(12)均安裝在支架(8)上,支架(8)設(shè)于底座(9)上,刻蝕液循環(huán)槽(2)和刻蝕反應(yīng)槽(3)置于支架(8)正下方且呈左右放置,刻蝕液循環(huán)槽(2)和刻蝕反應(yīng)槽(3)之間由隔板(13)隔開,隔板(13)底部設(shè)有一個連通口(14),連通口(14)由槽外安置的連通開關(guān)(15)控制其開閉狀態(tài);刻蝕液循環(huán)槽(2)與刻蝕反應(yīng)槽(3)之間由兩根循環(huán)導(dǎo)管(16)相連,且循環(huán)導(dǎo)管(16)上均設(shè)有微型循環(huán)泵(18);刻蝕反應(yīng)槽(3)底部安有超聲波發(fā)生器(19),超聲波發(fā)生器(19)與控制鍵盤(10)連接;溫度傳感器(20)置于刻蝕反應(yīng)槽(3)內(nèi)并與刻蝕溶液(4)接觸,溫度顯示器(11)與溫度傳感器(20)電連接,溫度傳感器(20)信號輸出端連接微控制器(12)信號輸入端,微控制器(12)輸出端分別連接第一電機(21)和第二電機(22),第一電機(21)和第二電機(22)分別控制各自的微型循環(huán)泵(18)的運行;刻蝕反應(yīng)槽(3)底部設(shè)有排液導(dǎo)管(23),排液導(dǎo)管(23)中部設(shè)有排液開關(guān)(24);刻蝕反應(yīng)槽(3)中上部四面設(shè)有刻蝕反應(yīng)槽內(nèi)隔板(26),刻蝕反應(yīng)槽內(nèi)隔板(26)上設(shè)有豎直方向的內(nèi)隔板導(dǎo)向槽(27);所述多功能夾具(25)置于刻蝕反應(yīng)槽(3)中上部,多功能夾具(25)側(cè)面通過夾具導(dǎo)向條(25-4)與刻蝕反應(yīng)槽內(nèi)隔板(26)的內(nèi)隔板導(dǎo)向槽(27)配合連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件超聲刻蝕裝置,其特征在于:所述多功能夾具(25)從上到下依次分為三層,第一層為夾具上蓋板(25-1),第二層設(shè)有光學(xué)元件置放槽(25-2),第三層為夾具下蓋板(25-3),所述光學(xué)元件置放槽(25-2)內(nèi)放置待刻蝕光學(xué)元件(28),夾具上蓋板(25-1)和夾具下蓋板(25-3)與刻蝕反應(yīng)槽內(nèi)隔板(26)緊密配合,刻蝕反應(yīng)過程中沿刻蝕反應(yīng)槽內(nèi)隔板(26)的內(nèi)隔板導(dǎo)向槽(27)向下推動或向上拉動多功能夾具(25),實現(xiàn)光學(xué)元件(28)與刻蝕溶液(4)的完全接觸或分離。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)元件超聲刻蝕裝置,其特征在于,所述溫度傳感器(20)測量刻蝕反應(yīng)槽(3)內(nèi)刻蝕溶液(4)的實時溫度,將測得數(shù)據(jù)與所需溫度進行對比后將信號輸入微控制器(12),由微控制器(12)控制微型循環(huán)泵(18)運作,將刻蝕反應(yīng)槽(3)和刻蝕液循環(huán)槽(2)內(nèi)的刻蝕溶液(4)通過循環(huán)導(dǎo)管(16)進行循環(huán)交換,并且循環(huán)導(dǎo)管(16)中段外圍包裹有吸熱降溫物質(zhì)(17),實現(xiàn)對刻蝕溶液溫度的有效控制。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





