[發(fā)明專利]一種紋理結(jié)構、光學薄膜、模具及電子設備蓋板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710686871.7
• 申請日: 2017-08-11
• 公開（公告）號: CN109387888B
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發(fā)明（設計）人: 高育龍;洪莘;申溯;亢紅偉
• 申請（專利權）人: 昇印光電（昆山）股份有限公司
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;H05K5/02;B29C33/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種紋理結(jié)構，其特征在于，其包括分布的復數(shù)小短線，所述復數(shù)小短線凸起和/或凹陷設置，相鄰所述小短線之間設有間隔，所述間隔形成光學結(jié)構；

至少存在兩根小短線與水平方向存在夾角a、b，且夾角a不等于夾角b；

所述復數(shù)小短線陣列設置，同一排內(nèi)的小短線偏轉(zhuǎn)設置，且偏轉(zhuǎn)角度變化設置；

所述小短線包括頂平面或底平面，及圍繞所述頂平面或底平面的側(cè)面，所述側(cè)面為弧形面，所述間隔通過所述弧形面構成所述光學結(jié)構。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種紋理結(jié)構，其特征在于，至少存在兩根小短線，其中一根所述小短線相對于另一根所述小短線偏轉(zhuǎn)和/或偏移。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種紋理結(jié)構，其特征在于，所述復數(shù)小短線陣列設置，同一排內(nèi)的所述小短線偏轉(zhuǎn)設置，且偏轉(zhuǎn)角度變大或變小。

4.根據(jù)權利要求3所述的一種紋理結(jié)構，其特征在于，同一排內(nèi)至少存在一區(qū)域中所述小短線偏轉(zhuǎn)角度為等差變化。

5.根據(jù)權利要求4所述的一種紋理結(jié)構，其特征在于，同一排內(nèi)，至少存在一區(qū)域中所述小短線的偏轉(zhuǎn)角度從0至180度、從45至90度或從0至270度等差變化。

6.根據(jù)權利要求1至5項中任一項所述的一種紋理結(jié)構，其特征在于，所述小短線包括頂平面或底平面，及圍繞所述頂平面或底平面的側(cè)面，所述側(cè)面為弧形面。

7.根據(jù)權利要求6所述的一種紋理結(jié)構，其特征在于，所述頂平面或底平面為三角形、四邊形、圓形或多邊形。

8.根據(jù)權利要求6所述的一種紋理結(jié)構，其特征在于，相鄰兩個所述小短線的弧形面連接形成所述間隔。

9.根據(jù)權利要求6所述的一種紋理結(jié)構，其特征在于，所述小短線的頂平面或底平面為矩形，各小短線自所述矩形兩對角線的交叉點偏轉(zhuǎn)。

10.根據(jù)權利要求9所述的一種紋理結(jié)構，其特征在于，相鄰所述小短線的交叉點的距離相等。

11.根據(jù)權利要求6所述的這一種紋理結(jié)構，其特征在于，所述小短線的頂平面或底平面為矩形，同一排上，所述矩形的長度不變，所述矩形的寬度變化。

12.根據(jù)權利要求1至5項中任一項所述的一種紋理結(jié)構，其特征在于，所述光學結(jié)構呈現(xiàn)至少一條光影亮紋。

13.一種具有如權利要求1至12項中任一項所述的一種紋理結(jié)構的光學薄膜，其特征在于，所述光學薄膜包括聚合物層，所述紋理結(jié)構形成于所述聚合物層上。

14.根據(jù)權利要求13所述的光學薄膜，其特征在于，所述聚合物層為熱固化或光固化膠層，所述紋理結(jié)構為在熱固化或光固化膠層上壓印成型的復數(shù)小短線和位于所述小短線之間的間隔。

15.根據(jù)權利要求14所述的光學薄膜，其特征在于，所述光固化膠層為UV膠層；或者所述光固化膠層為有色UV膠層。

16.根據(jù)權利要求15所述的光學薄膜，其特征在于，相鄰所述小短線之間的距離為10μm-200μm。

17.根據(jù)權利要求13所述的光學薄膜，其特征在于，所述聚合物層包括相對設置的第一側(cè)和第二側(cè)，所述小短線設置于所述第一側(cè)，所述小短線至位于第二側(cè)的表面的距離為0μm-200μm。

18.根據(jù)權利要求13所述的光學薄膜，其特征在于，至少存在兩根小短線的高度差或深度差大于0.05μm且不大于2μm。