[發明專利]光致抗蝕膜、抗蝕圖案的形成方法及導體圖案的形成方法

在審

• 申請號: 201710685298.8
• 申請日: 2017-08-11
• 公開（公告）號: CN109388026A
• 公開（公告）日: 2019-02-26
• 發明（設計）人: 橫道清一
• 申請（專利權）人: 日興材料株式會社
• 主分類號: G03F7/09
• 分類號: G03F7/09;G03F7/004;G03F7/00
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 沈錦華

本申請涉及一種光致抗蝕膜、抗蝕圖案的形成方法及導體圖案的形成方法。本發明提供一種光致抗蝕膜，其在層壓至被加工基材上時不易產生氣隙，即便是經非硅酮系脫模劑涂布的保護膜，從感光性樹脂組合物層剝離的剝離性也優異。本發明的光致抗蝕膜的特征在于：其是在(I)支撐膜上具有(II)感光性樹脂組合物層/(III)保護膜的積層構造，且(II)感光性樹脂組合物層的厚度為33μm以下的光致抗蝕膜，(III)保護膜是在(II)感光性樹脂組合物層上的積層面的最大高度(Rz)為1.2μm以下、且膠帶剝離強度為450～1500mN/cm的聚酯膜。

技術領域

本發明涉及一種在(I)支撐膜上具有(II)感光性樹脂組合物層/(III)保護膜的積層構造的光致抗蝕膜、使用所述光致抗蝕膜在被加工基材上形成抗蝕圖案的方法、及使用所述光致抗蝕膜在被加工基材上形成導體圖案的方法。

背景技術

近年來，對于顯示器部件的圖案加工用抗蝕劑材料，不斷期待應對越來越高的解像性。尤其在蝕刻被加工基材的加工法中，已知通過減小抗蝕層的厚度，能改善蝕刻液流向狹小空間部，且改善加工精度，從而減小抗蝕劑厚度的要求很高。

另一方面，就步驟管理的容易性來說，具有支撐膜/感光性樹脂組合物層/保護膜的構成的光致抗蝕膜在工業上被廣泛利用。通常用于光致抗蝕膜的聚乙烯保護膜含有被稱為魚眼(fisheye)的異物或未溶解物，由于該魚眼在膜表面的凸部形狀會轉印到感光性樹脂組合物層，因此以感光性樹脂組合物層層壓至被加工基材時，有時會在被加工基材與感光性樹脂組合物層之間產生空隙(氣隙)的情況。該氣隙會在經過下一步驟的曝光、顯影后導致產生圖案缺損、斷線等不良。

尤其在感光性樹脂組合物層薄的情況下，由于能夠填埋凹部的樹脂組合物的量不足，所以圖案缺損、斷線等不良變得更顯著，在抗蝕劑厚度減小時成為問題。另外，在被加工基材為膜狀撓性基材的情況下，層壓時的壓力未被充分施加，因此有氣隙產生增加的傾向。

已知為了減少成為不良原因的氣隙產生數，使用聚乙烯膜等聚烯烴膜作為表面平滑且魚眼少的保護膜，例如專利文獻1中公開了能夠通過使與感光性樹脂組合物層接觸的保護膜的面平滑來減少氣隙。

但是，通常使用的聚乙烯膜難以實現平滑化。同樣作為聚烯烴膜的聚丙烯膜雖然能實現表面平滑性，但具有使有機物透過的性質，因此在將光致抗蝕膜卷成卷狀進行保管的情況下，有感光性樹脂組合物透過聚丙烯膜而附著在與聚丙烯膜接觸的支撐膜上，使用時污染設備的擔憂。

作為聚酯膜的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜也同樣地能形成平滑表面，雖然不易產生感光性樹脂組合物的透過，但一般情況下其材質與支撐膜相同，因此在層壓步驟中的剝離時無法穩定地剝離，有感光性樹脂組合物層轉印到保護膜的擔憂。

作為所述情況的對策，例如專利文獻2等中公開了通過對PET膜的表面實施脫模處理來確保保護膜的脫模性的技術。

但是，有通過脫模處理，保護膜的脫模性并不充足，而產生感光性樹脂組合物的轉印的情況。另外，有脫模劑進行接觸轉印的情況，在脫模劑轉印到感光性樹脂組合物層的表面的情況下，因將光致抗蝕膜層壓至被加工基材，導致脫模劑會轉印到被加工基材表面。由于脫模劑轉印附著在被加工基材的表面，而有引起感光性樹脂組合物層的密接性降低、因被加工基材表面的潤濕性降低導致蝕刻性降低的擔憂。

另外，以往廣泛地使用硅酮系脫模劑作為脫模劑，但在向被加工基材表面轉印的情況下，也有除蝕刻或鍍覆等步驟以外，表面涂布或零件安裝等后續加工中的表面潤濕性也顯著降低，導致制品良率降低的擔憂。而且，因其影響強度而在電子產業界忌避混入硅酮。因此，必須使用涂布有非硅酮系且轉印少的脫模劑的保護膜，制成感光性樹脂組合物層與保護膜的剝離性優異的光致抗蝕膜。

[背景技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2000-330291號公報