[發(fā)明專利]一種多相流相分率測(cè)定裝置單源雙能伽馬和X射線源倉(cāng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710681922.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107331429B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-05-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 潘艷芝;王君凌;王鎮(zhèn)崗;孫錫軍;趙月前 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 海默科技(集團(tuán))股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G21G4/06 | 分類號(hào): | G21G4/06;H05G2/00 |
| 代理公司: | 重慶為信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 50216 | 代理人: | 姚坤 |
| 地址: | 730010 甘*** | 國(guó)省代碼: | 甘肅;62 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 多相 流相分率 測(cè)定 裝置 單源雙能伽馬 射線 | ||
1.一種多相流相分率測(cè)定裝置單源雙能伽馬和X射線源倉(cāng),包括倉(cāng)體(b1),其特征在于:所述倉(cāng)體(b1)內(nèi)設(shè)有單一放射源(b2)、康普頓散射體(a1)和金屬靶片(a2),在所述倉(cāng)體(b1)上設(shè)有連通所述倉(cāng)體(b1)內(nèi)-外的射出部;
所述單一放射源(b2)放射的γ射線射向所述康普頓散射體(a1)和金屬靶片(a2),所述康普頓散射體(a1)用于對(duì)γ射線進(jìn)行康普頓散射,所述金屬靶片(a2)用于受γ射線轟擊產(chǎn)生X射線,所述康普頓散射體(a1)和金屬靶片(a2)分別朝向所述射出部;
所述康普頓散射體(a1)上設(shè)有反射面,該反射面同時(shí)朝向所述單一放射源(b2)和射出部,所述金屬靶片(a2)貼合在該反射面上;
所述金屬靶片(a2)和康普頓散射體(a1)的反射面之間鉚接;
在所述康普頓散射體(a1)的反射面上鍍有轟擊金屬層,該轟擊金屬層形成所述金屬靶片(a2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多相流相分率測(cè)定裝置單源雙能伽馬和X射線源倉(cāng),其特征在于:所述康普頓散射體(a1)包括柱狀散射部(a11),所述反射面與所述柱狀散射部(a11)軸線的夾角為θ,30°≤θ≤60°,所述柱狀散射部(a11)任一端的端面軸向向外延伸后形成所述反射面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種多相流相分率測(cè)定裝置單源雙能伽馬和X射線源倉(cāng),其特征在于:所述反射面為反射平面;
或:所述射出部位于所述柱狀散射部(a11)向外延伸的軸線上,且此時(shí)的所述單一放射源(b2)位于所述柱狀散射部(a11)的軸線一側(cè);
或:所述單一放射源(b2)位于所述柱狀散射部(a11)向外延伸的軸線上,且此時(shí)的所述射出部位于所述柱狀散射部(a11)的軸線一側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種多相流相分率測(cè)定裝置單源雙能伽馬和X射線源倉(cāng),其特征在于:在所述倉(cāng)體(b1)上設(shè)有放射源腔(b4),該放射源腔(b4)與所述倉(cāng)體(b1)內(nèi)部連通,所述單一放射源(b2)設(shè)置在該放射源腔(b4)內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種多相流相分率測(cè)定裝置單源雙能伽馬和X射線源倉(cāng),其特征在于:所述射出部位于所述柱狀散射部(a11)向外延伸的軸線上,所述柱狀散射部(a11)朝向所述射出部的端面上設(shè)有圓臺(tái)狀反射區(qū)(a14),該圓臺(tái)狀反射區(qū)(a14)的軸線與所述柱狀散射部(a11)的軸線重合,該圓臺(tái)狀反射區(qū)(a14)的大端面開(kāi)口且朝向所述射出部,該圓臺(tái)狀反射區(qū)(a14)的側(cè)面形成所述反射面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種多相流相分率測(cè)定裝置單源雙能伽馬和X射線源倉(cāng),其特征在于:所述單一放射源(b2)呈環(huán)狀,環(huán)狀的所述單一放射源(b2)的中心線與所述柱狀散射部(a11)的軸線重合,環(huán)狀的所述單一放射源(b2)位于所述康普頓散射體(a1)和射出部之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種多相流相分率測(cè)定裝置單源雙能伽馬和X射線源倉(cāng),其特征在于:所述圓臺(tái)狀反射區(qū)(a14)對(duì)應(yīng)的所述柱狀散射部(a11)上設(shè)有放射源腔(b4),該放射源腔(b4)與所述圓臺(tái)狀反射區(qū)(a14)連通,所述單一放射源(b2)位于該放射源腔(b4)內(nèi),所述單一放射源(b2)位于所述柱狀散射部(a11)的軸線一側(cè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種多相流相分率測(cè)定裝置單源雙能伽馬和X射線源倉(cāng),其特征在于:所述放射源腔(b4)呈圓孔狀,所述放射源腔(b4)的孔心線與所述柱狀散射部(a11)的軸線垂直,所述放射源腔(b4)的內(nèi)端與所述圓臺(tái)狀反射區(qū)(a14)連通。
9.根據(jù)權(quán)利要求4或7所述的一種多相流相分率測(cè)定裝置單源雙能伽馬和X射線源倉(cāng),其特征在于:在所述射出部上設(shè)有準(zhǔn)直器(b3),所述準(zhǔn)直器(b3)上設(shè)有至少一個(gè)準(zhǔn)直孔,該準(zhǔn)直孔將所述倉(cāng)體(b1)的內(nèi)部和外部連通。
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