[發(fā)明專利]微機械結構元件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710680047.0
• 申請日: 2017-08-10
• 公開（公告）號: CN107720686B
• 公開（公告）日: 2022-12-06
• 發(fā)明（設計）人: A·布萊特林;C·施文克;H·屈佩爾斯;N·席滕黑爾姆;V·施米茨
• 申請（專利權）人: 羅伯特·博世有限公司
• 主分類號: B81B7/00
• 分類號: B81B7/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 侯鳴慧

1.一種微機械結構元件(1)，其具有主延伸平面(100)，其中，所述微機械結構元件(1)包圍第一空腔(3)并且包圍第二空腔(5)，其中，在所述第一空腔(3)中存在第一壓力并且在所述第二空腔(5)中存在第二壓力，其特征在于，所述微機械結構元件(1)的基本上平行于所述主延伸平面(100)延伸的第一層(7)在所述第一空腔(3)與所述第二空腔(5)之間基本上垂直于所述主延伸平面(100)地伸入所述微機械結構元件(1)的基本上平行于所述主延伸平面(100)延伸的第二層(9)中，所述第一層(7)伸入所述第二層(9)中，使得所述微機械結構元件包括將所述第二層(9)分隔開的分隔區(qū)域(17)。

2.根據(jù)權利要求1所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第二層(9)包括氧化物層。

3.根據(jù)權利要求1所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第二層(9)包括硅氧化物層。

4.根據(jù)權利要求1所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第二層(9)包括二氧化硅層。

5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的微機械結構元件(1)，其中，所述分隔區(qū)域(17)布置成在第一空腔(3)與第二空腔(5)之間地和/或平行于所述主延伸平面(100)地包圍第一空腔(3)和/或平行于所述主延伸平面(100)地包圍第二空腔(5)。

6.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第一層(7)伸入所述第二層(9)中，使得所述第二層(9)的第一層區(qū)域(11)和所述第二層(9)的第二層區(qū)域(13)布置成平行于所述主延伸平面(100)地彼此間隔開。

7.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第二層(9)的第一層區(qū)域(11)在平行于所述主延伸平面(100)的平面中包圍第一空腔(3)。

8.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第二層(9)的第二層區(qū)域(13)在平行于所述主延伸平面(100)的平面中包圍第二空腔(5)。

9.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第一層(7)伸入所述第二層(9)中，使得所述第二層(9)的第一層區(qū)域(11)和所述第二層(9)的第三層區(qū)域(15)布置成平行于所述主延伸平面(100)地彼此間隔開。

10.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第一層(7)伸入所述第二層(9)中，使得所述第二層(9)的第二層區(qū)域(13)和所述第二層(9)的第三層區(qū)域(15)布置成平行于所述主延伸平面(100)地彼此間隔開。

11.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第二層(9)的第三層區(qū)域(15)在平行于所述主延伸平面(100)的平面中包圍所述第二層(9)的第一層區(qū)域(11)。

12.一種微機械結構元件(1)，其具有主延伸平面(100)，其中，所述微機械結構元件(1)包圍第一空腔(3)，其中，在所述第一空腔(3)中存在第一壓力，其特征在于，所述微機械結構元件(1)的基本上平行于所述主延伸平面(100)延伸的第一層(7)基本上垂直于所述主延伸平面(100)地伸入所述微機械結構元件(1)的基本上平行于所述主延伸平面(100)延伸的第二層(9)中，其中，所述第一層(7)伸入所述第二層(9)中，使得所述微機械結構元件包括將所述第二層(9)分隔開的分隔區(qū)域(17)。

13.根據(jù)權利要求12所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第二層(9)包括氧化物層。

14.根據(jù)權利要求12所述的微機械結構元件(1)，其中，所述第二層(9)包括硅氧化物層。