[發(fā)明專利]用于自動(dòng)化車輛激光雷達(dá)的位置反饋感測(cè)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710676310.9
• 申請(qǐng)日: 2017-08-09
• 公開（公告）號(hào): CN107843887B
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚國(guó)輝;劉友光;楊志慶
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安波福技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G01S7/481
• 分類號(hào): G01S7/481;G01S17/931
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 李玲

1.一種用于控制輻射的方向的設(shè)備(22)，所述設(shè)備(22)包括：

輻射的至少一個(gè)波束(24)的源(30)；

多個(gè)光學(xué)組件(32-36)，在所述輻射的至少一個(gè)波束(24)的通道中，所述多個(gè)光學(xué)組件(32-36)確定所述輻射的至少一個(gè)波束(24)的第一方向，所述多個(gè)光學(xué)組件(32-36)包括至少一個(gè)可調(diào)節(jié)的光學(xué)組件(32)，所述至少一個(gè)可調(diào)節(jié)的光學(xué)組件(32)包括相對(duì)于所述源(30)可移動(dòng)的至少一個(gè)部分；

位置反饋特征(40)，在所述光學(xué)組件(32)中的至少一個(gè)的部分上，所述位置反饋特征(40)向不同于所述第一方向的第二方向偏轉(zhuǎn)所述輻射的至少一個(gè)波束(24)中的至少一些；以及

檢測(cè)器(44)，設(shè)置為檢測(cè)所述偏轉(zhuǎn)的輻射(42)中的至少一些，所述檢測(cè)器(44)提供指示所述第一方向的輸出，

其中，所述光學(xué)組件中的至少一個(gè)的所述部分上的所述位置反饋特征包括以下中的至少一個(gè)：

多個(gè)半球形偏轉(zhuǎn)面，

納米級(jí)反射面，

納米級(jí)折射面，和

納米級(jí)柵欄。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(22)，包括控制器(50)，所述控制器(50)被配置成至少部分地基于所述檢測(cè)器(44)的所述輸出來(lái)控制至少一個(gè)可調(diào)節(jié)的光學(xué)組件(32)的所述部分的移動(dòng)。

3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(22)，其中，所述位置反饋特征(40)包括在所述光學(xué)組件(32)中的至少一個(gè)上的以選擇的模式排列的多個(gè)半球形偏轉(zhuǎn)面。

4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(22)，其中

所述多個(gè)光學(xué)組件(32-36)包括微電機(jī)械(MEM)反射鏡陣列；并且

所述檢測(cè)器(44)的所述輸出指示所述陣列的所述反射鏡中的至少一個(gè)的位置。

5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(22)，其中

所述多個(gè)光學(xué)組件(32-36)包括相對(duì)于所述源(30)保持固定的至少一個(gè)靜止光學(xué)組件；以及

所述靜止光學(xué)組件是反射面、折射面、透鏡以及窗口中的至少一個(gè)。

6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備(22)，其中，所述輻射包括光。

7.一種監(jiān)測(cè)定向輻射的設(shè)備(22)的方法，所述設(shè)備(22)包括輻射的至少一個(gè)波束(24)的源(30)，多個(gè)光學(xué)組件(32-36)，其中包括至少一個(gè)可調(diào)節(jié)的光學(xué)組件(32)，所述至少一個(gè)可調(diào)節(jié)的光學(xué)組件(32)包括相對(duì)于所述源(30)可移動(dòng)的至少一個(gè)部分，以及所述光學(xué)組件(32-36)中的至少一個(gè)的部分上的位置反饋特征(40)，所述方法包括：

確定所述輻射的至少一個(gè)波束(24)的第一方向，包括有選擇地定位所述至少一個(gè)可調(diào)節(jié)的光學(xué)組件(32)的所述部分；

向不同于所述第一方向的第二方向偏轉(zhuǎn)來(lái)自所述位置反饋特征(40)的輻射的至少一個(gè)波束(24)中的至少一些；

檢測(cè)所述偏轉(zhuǎn)的輻射(42)中的至少一些；以及

基于所述檢測(cè)，確定所述第一方向，

其中，所述光學(xué)組件中的至少一個(gè)的所述部分上的所述位置反饋特征包括以下中的至少一個(gè)：

多個(gè)半球形偏轉(zhuǎn)面，

納米級(jí)反射面，

納米級(jí)折射面，和

納米級(jí)柵欄。

8.如權(quán)利要求7所述的方法，包括

向控制器(50)提供關(guān)于所述檢測(cè)的信息；以及

至少部分地基于所述信息，使用所述控制器(50)來(lái)控制所述至少一個(gè)可調(diào)節(jié)的光學(xué)組件(32)的所述部分的位置。

9.如權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述位置反饋特征(40)包括在所述光學(xué)組件(32)中的至少一個(gè)上布置成二維圖案的至少一個(gè)半球形偏轉(zhuǎn)面。

10.如權(quán)利要求7所述的方法，其中

所述多個(gè)光學(xué)組件(32-36)包括微電機(jī)械(MEM)反射鏡陣列；以及

所述確定包括確定所述陣列的反射鏡中的至少一個(gè)的位置。