[發(fā)明專利]一種離線光刻方法及其系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710671497.3
• 申請(qǐng)日: 2017-08-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109388028B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-11-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G03F7/16;G03F7/26
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務(wù)所 11313
• 代理人: 張臻賢;由元

1.一種離線光刻方法，其特征在于，包括：

利用多個(gè)涂膠機(jī)分別對(duì)晶圓進(jìn)行涂膠及涂膠后固化；

檢測(cè)多個(gè)光刻機(jī)是否被占用，并將涂膠后固化后的所述晶圓優(yōu)先傳送至未被占用的任一所述光刻機(jī)進(jìn)行曝光；以及

檢測(cè)多個(gè)顯影機(jī)是否被占用，并將曝光后的所述晶圓優(yōu)先傳送至未被占用的任一所述顯影機(jī)進(jìn)行曝光后固化及顯影；

當(dāng)所述晶圓具有相同光刻圖形時(shí)，利用控制裝置實(shí)時(shí)檢測(cè)多個(gè)所述光刻機(jī)是否被占用，并控制第一傳送裝置將所述晶圓優(yōu)先傳送至未被占用的任一所述光刻機(jī)，如果多個(gè)所述光刻機(jī)都處于被占用狀態(tài)，則繼續(xù)對(duì)多個(gè)所述光刻機(jī)的運(yùn)行狀態(tài)實(shí)施實(shí)時(shí)檢測(cè)，直至所述光刻機(jī)處于未被占用狀態(tài)，并且利用所述控制裝置實(shí)時(shí)檢測(cè)多個(gè)所述顯影機(jī)是否被占用，并控制第二傳送裝置將所述晶圓優(yōu)先傳送至未被占用的任一所述顯影機(jī)，如果多個(gè)所述顯影機(jī)都處于被占用狀態(tài)，則繼續(xù)對(duì)多個(gè)所述顯影機(jī)的運(yùn)行狀態(tài)實(shí)施實(shí)時(shí)檢測(cè)，直至所述顯影機(jī)處于未被占用狀態(tài)；

當(dāng)所述晶圓具有不同的光刻圖形時(shí)，利用控制裝置實(shí)時(shí)檢測(cè)與所述晶圓的所述光刻圖形相對(duì)應(yīng)的所述光刻機(jī)是否被占用，并控制第一傳送裝置將所述晶圓優(yōu)先傳送至與所述晶圓的所述光刻圖形相對(duì)應(yīng)的且未被占用的任一所述光刻機(jī)，并利用所述控制裝置實(shí)時(shí)檢測(cè)與所述晶圓的所述光刻圖形相對(duì)應(yīng)的所述顯影機(jī)是否被占用，并控制第二傳送裝置將所述晶圓優(yōu)先傳送至與所述晶圓的所述光刻圖形相對(duì)應(yīng)的且未被占用的任一所述顯影機(jī)；

所述涂膠機(jī)對(duì)涂膠后固化后的所述晶圓進(jìn)行檢測(cè)，并將檢測(cè)結(jié)果傳送給所述控制裝置；所述控制裝置判斷所述檢測(cè)結(jié)果是否超出第一基準(zhǔn)值，如果所述檢測(cè)結(jié)果超出所述第一基準(zhǔn)值，所述控制裝置根據(jù)所述檢測(cè)結(jié)果設(shè)定光刻參數(shù)補(bǔ)償，并將補(bǔ)償?shù)乃龉饪虆?shù)發(fā)送至所述光刻機(jī)；

所述光刻機(jī)對(duì)曝光后的所述晶圓進(jìn)行檢測(cè)，并將檢測(cè)結(jié)果傳送給所述控制裝置；所述控制裝置判斷所述檢測(cè)結(jié)果是否超出第二基準(zhǔn)值，如果所述檢測(cè)結(jié)果超出所述第二基準(zhǔn)值，所述控制裝置根據(jù)所述檢測(cè)結(jié)果設(shè)定顯影參數(shù)補(bǔ)償，并將補(bǔ)償?shù)乃鲲@影參數(shù)發(fā)送至所述顯影機(jī)。

2.如權(quán)利要求1所述的離線光刻方法，其特征在于，所述控制裝置控制抓取手臂將所述晶圓從所述涂膠機(jī)抓取到所述第一傳送裝置，和/或所述控制裝置控制抓取手臂將所述晶圓從所述第一傳送裝置優(yōu)先抓取到所述光刻機(jī)；所述控制裝置控制抓取手臂將所述晶圓從所述光刻機(jī)抓取到所述第二傳送裝置，和/或所述控制裝置控制抓取手臂將所述晶圓從所述第二傳送裝置優(yōu)先抓取到所述顯影機(jī)。

3.一種離線光刻系統(tǒng)，其特征在于，包括：多個(gè)涂膠機(jī)、多個(gè)光刻機(jī)、多個(gè)顯影機(jī)、第一傳送裝置、第二傳送裝置以及控制裝置；其中，

所述第一傳送裝置將經(jīng)所述涂膠機(jī)處理后的晶圓傳送至所述光刻機(jī)；

所述第二傳送裝置將經(jīng)所述光刻機(jī)處理后的所述晶圓傳送至所述顯影機(jī)；以及

所述控制裝置溝通連接至所述涂膠機(jī)、所述光刻機(jī)和所述顯影機(jī)；所述控制裝置實(shí)時(shí)檢測(cè)多個(gè)所述光刻機(jī)是否被占用，并控制所述第一傳送裝置將所述晶圓優(yōu)先傳送至未被占用的任一所述光刻機(jī)；所述控制裝置實(shí)時(shí)檢測(cè)多個(gè)所述顯影機(jī)是否被占用，并控制所述第二傳送裝置將所述晶圓優(yōu)先傳送至未被占用的任一所述顯影機(jī)；

所述第一傳送裝置包括第一回轉(zhuǎn)軌道、多個(gè)第一單向軌道以及多個(gè)第二單向軌道，各所述第一單向軌道的一端與一所述涂膠機(jī)相配合，另一端與所述第一回轉(zhuǎn)軌道相連接，各所述第二單向軌道的一端與所述第一回轉(zhuǎn)軌道相連接，另一端與一所述光刻機(jī)相配合；

所述第二傳送裝置包括第二回轉(zhuǎn)軌道、多個(gè)第三單向軌道以及多個(gè)第四單向軌道，各所述第三單向軌道的一端與一所述光刻機(jī)相配合，另一端與所述第二回轉(zhuǎn)軌道相連接，各所述第四單向軌道的一端與所述第二回轉(zhuǎn)軌道相連接，另一端與一所述顯影機(jī)相配合。

4.如權(quán)利要求3所述的離線光刻系統(tǒng)，其特征在于，所述第一回轉(zhuǎn)軌道包括多個(gè)分回轉(zhuǎn)軌道，用于將所述晶圓傳送至與多個(gè)所述分回轉(zhuǎn)軌道相對(duì)應(yīng)的所述光刻機(jī)中的任意一個(gè)。

5.如權(quán)利要求3所述的離線光刻系統(tǒng)，其特征在于，所述第二回轉(zhuǎn)軌道包括多個(gè)分回轉(zhuǎn)軌道，用于將所述晶圓傳送至與多個(gè)所述分回轉(zhuǎn)軌道相對(duì)應(yīng)的所述顯影機(jī)中的任意一個(gè)。

6.如權(quán)利要求3至5任一項(xiàng)所述的離線光刻系統(tǒng)，其特征在于，在所述第一傳送裝置和/或所述第二傳送裝置處設(shè)置有抓取手臂，所述控制裝置溝通連接至所述抓取手臂。