[發(fā)明專利]沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)及建筑結(jié)構(gòu)的沉降監(jiān)測(cè)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710669776.6
• 申請(qǐng)日: 2017-08-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107655448A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-02-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡仲春;任高峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 胡仲春
• 主分類號(hào): G01C5/00
• 分類號(hào): G01C5/00
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11240
• 代理人: 韓建偉,謝湘寧

1.一種沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括：

基座(10)，設(shè)置在被監(jiān)測(cè)件上；

與信號(hào)采集儀連接的光敏電阻組件(20)，設(shè)置在所述基座(10)上，所述光敏電阻組件(20)包括多個(gè)光敏電阻(21)，且多個(gè)所述光敏電阻(21)分別沿豎直方向和水平方向依次排列設(shè)置；

激光發(fā)射器(30)，設(shè)置在所述基座(10)上或者基準(zhǔn)面(40)上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)，其特征在于，相鄰兩列所述光敏電阻(21)在豎直方向上的距離差D為0.1至0.3mm，且沿第一水平方向，后一列的所述光敏電阻(21)均高于前一列的所述光敏電阻(21)一個(gè)所述距離差D的高度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述光敏電阻(21)為正方形結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)，其特征在于，沿第一水平方向，第一列的所述光敏電阻(21)與最后一列的所述光敏電阻(21)的高度差等于一個(gè)所述光敏電阻(21)的寬度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述光敏電阻組件(20)還包括：

支撐件(22)，立置在所述基座(10)上，且所述光敏電阻(21)設(shè)置在所述支撐件(22)上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述激光發(fā)射器(30)設(shè)置在所述基座(10)上，所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)還包括：

水平儀(50)，設(shè)置在所述基座(10)上。

7.一種建筑結(jié)構(gòu)的沉降監(jiān)測(cè)方法，其特征在于，采用權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)對(duì)建筑結(jié)構(gòu)進(jìn)行監(jiān)測(cè)，其中，所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)的激光發(fā)射器(30)設(shè)置在所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)的基座(10)上，所述沉降監(jiān)測(cè)方法包括：

步驟S1：將多個(gè)沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)沿所述建筑結(jié)構(gòu)的延伸方向順次設(shè)置在所述建筑結(jié)構(gòu)上；

步驟S2：第一個(gè)所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)的激光發(fā)射器(30)向與其相鄰的第二個(gè)所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)的光敏電阻組件(20)發(fā)射光束(31)，第二個(gè)所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)的信號(hào)采集儀能夠得到所述光束(31)在第二個(gè)所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)上的第一位置高度a，當(dāng)?shù)诙€(gè)所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)所在的位置處發(fā)生沉降后，通過(guò)第二個(gè)所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)的信號(hào)采集儀能夠得到所述光束(31)在第二個(gè)所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)上的第二位置高度a’，將所述第一位置高度a與所述第二位置高度a’作差確定第二個(gè)所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)的所在位置處的沉降值△ω；

步驟S3：將所述沉降值△ω與預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn)沉降值ω₀進(jìn)行比較，以確定所述建筑結(jié)構(gòu)是否安全。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的沉降監(jiān)測(cè)方法，其特征在于，

在所述步驟S1中，沿所述建筑結(jié)構(gòu)的延伸方向，以所述建筑結(jié)構(gòu)的起點(diǎn)處的所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)為起始監(jiān)測(cè)件(61)，并以所述起點(diǎn)為基準(zhǔn)起點(diǎn)O，以與所述起始監(jiān)測(cè)件(61)相鄰的所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)為第一監(jiān)測(cè)件(62)，并以所述第一監(jiān)測(cè)件(62)所在的位置作為第一監(jiān)測(cè)點(diǎn)A；

在所述步驟S2中，所述起始監(jiān)測(cè)件(61)的激光發(fā)射器(30)向所述第一監(jiān)測(cè)件(62)的光敏電阻組件(20)發(fā)射光束(31)，監(jiān)測(cè)所述第一監(jiān)測(cè)件(62)所在位置處的第一沉降值△ω₁。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的沉降監(jiān)測(cè)方法，其特征在于，在所述步驟S2中，除所述第一監(jiān)測(cè)點(diǎn)A以外的其他監(jiān)測(cè)點(diǎn)的中間沉降值△ω₂由所述沉降值△ω和所述第一沉降值△ω₁共同確定。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的沉降監(jiān)測(cè)方法，其特征在于，

在所述步驟S1中，沿所述建筑結(jié)構(gòu)的延伸方向，以建筑結(jié)構(gòu)的終點(diǎn)處的所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)為終點(diǎn)監(jiān)測(cè)件(63)，并以所述終點(diǎn)為基準(zhǔn)終點(diǎn)P；

在所述步驟S2中，與所述終點(diǎn)監(jiān)測(cè)件(63)相鄰的所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)監(jiān)測(cè)所述基準(zhǔn)終點(diǎn)P的第二沉降值△ω₃，則所述第二沉降值△ω₃為所有所述沉降監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu)的累加誤差值，所述第一沉降值△ω₁及所述中間沉降值△ω₂與所述累加誤差值共同確定第一精確沉降值△ω₁'及中間精確沉降值△ω₂'。