[發(fā)明專利]聚乙烯薄膜與浮空器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710667485.3 | 申請日： | 2017-08-07 |
| 公開（公告）號： | CN109383097A | 公開（公告）日： | 2019-02-26 |
| 發(fā)明（設計）人： | 不公告發(fā)明人 | 申請（專利權）人： | 海口未來技術研究院;深圳光啟高等理工研究院 |
| 主分類號： | B32B27/06 | 分類號： | B32B27/06;B32B27/32;B32B7/022;B32B1/02;B64B1/58 |
| 代理公司： | 北京康信知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 韓建偉;謝湘寧 |
| 地址： | 570100 海南省?？谑心虾４?** | 國省代碼： | 海南;46 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 聚乙烯薄膜 焊接層 茂金屬低密度聚乙烯 承力層 浮空器 低密度聚乙烯 耐候層 高密度聚乙烯 焊接加工 拉伸 斷裂 屈服 伸出 申請 應用 | ||
1.一種聚乙烯薄膜，其特征在于，所述聚乙烯薄膜包括：
焊接層(1)，所述焊接層(1)包括線性茂金屬低密度聚乙烯和低密度聚乙烯；
承力層(2)，設置在且所述焊接層(1)的表面上，所述承力層(2)包括高密度聚乙烯、低密度聚乙烯與線性茂金屬低密度聚乙烯；以及
耐候層(3)，設置所述承力層(2)的遠離所述焊接層(1)的表面上，所述耐候層(3)包括線性茂金屬低密度聚乙烯。
2.根據(jù)權利要求1所述的聚乙烯薄膜，其特征在于，所述焊接層(1)中，所述線性茂金屬低密度聚乙烯與所述低密度聚乙烯的重量百分比分別為50～80％與20～50％。
3.根據(jù)權利要求1所述的聚乙烯薄膜，其特征在于，所述承力層(2)中，所述高密度聚乙烯、低密度聚乙烯與線性茂金屬低密度聚乙烯的重量百分比分別為30～50％、10～25％與25～50％。
4.根據(jù)權利要求1所述的聚乙烯薄膜，其特征在于，所述承力層(2)還包括第一光穩(wěn)定劑，優(yōu)選在所述承力層(2)中，所述第一光穩(wěn)定劑的中重量百分比為2～5％。
5.根據(jù)權利要求1所述的聚乙烯薄膜，其特征在于，所述承力層(2)還包括第一抗氧化劑，優(yōu)選在所述承力層(2)中，所述第一抗氧化劑的中重量百分比為0.1～0.5％。
6.根據(jù)權利要求1所述的聚乙烯薄膜，其特征在于，所述耐候層(3)中，所述線性茂金屬低密度聚乙烯的重量百分比為91～95％。
7.根據(jù)權利要求1所述的聚乙烯薄膜，其特征在于，所述耐候層(3)還包括第二光穩(wěn)定劑，優(yōu)選在所述耐候層(3)中，所述第二光穩(wěn)定劑的中重量百分比在5～8％之間。
8.根據(jù)權利要求1所述的聚乙烯薄膜，其特征在于，所述耐候層(3)還包括第二抗氧化劑，優(yōu)選在所述耐候層(3)中，所述第二抗氧化劑的中重量百分比在0.1～1％之間。
9.根據(jù)權利要求1所述的聚乙烯薄膜，其特征在于，所述焊接層(1)的厚度、所述承力層(2)的厚度以及所述耐候層(3)的厚度分別為所述聚乙烯薄膜的厚度的20～30％、40～60％以及20～30％，優(yōu)選分別為25～30％、45～55％與20～25％。
10.根據(jù)權利要求1至9中任一項所述的聚乙烯薄膜，其特征在于，所述聚乙烯薄膜的厚度在40～120μm之間，優(yōu)選在60～80μm之間。
11.根據(jù)權利要求1至9中任一項所述的聚乙烯薄膜，其特征在于，所述聚乙烯薄膜的密度在0.92～0.94g/cm3之間。
12.一種浮空器，包括聚乙烯薄膜，其特征在于，所述聚乙烯薄膜為權利要求1至11中任一項所述的聚乙烯薄膜。
13.根據(jù)權利要求12所示的浮空器，其特征在于，所述浮空器為超壓氣球。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于海口未來技術研究院;深圳光啟高等理工研究院，未經(jīng)?？谖磥砑夹g研究院;深圳光啟高等理工研究院許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710667485.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
