[發明專利]一種探地雷達記錄剖面中目標頂點的檢測方法有效
| 申請號： | 201710667148.4 | 申請日： | 2017-08-07 |
| 公開（公告）號： | CN107358617B | 公開（公告）日： | 2020-03-20 |
| 發明（設計）人： | 雷文太;滿敏;施榮華;左逸瑋;彭楠;梁瓊 | 申請（專利權）人： | 中南大學 |
| 主分類號： | G06T7/13 | 分類號： | G06T7/13;G06K9/38;G06K9/62 |
| 代理公司： | 長沙市融智專利事務所(普通合伙) 43114 | 代理人： | 楊萍 |
| 地址： | 410083 湖南*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 雷達 記錄 剖面 目標 頂點 檢測 方法 | ||
1.一種探地雷達記錄剖面中目標頂點的檢測方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟1：對原始探地雷達記錄剖面進行預處理，并計算預處理后的探地雷達記錄剖面沿測線方向的一維能量曲線，提取該能量曲線的局部極大值個數，據此設定該探地雷達記錄剖面的目標頂點個數的預設區間；
步驟2：對預處理后的探地雷達記錄剖面進行自動閾值匹配的邊緣檢測，得到一幅二值圖像，根據二值圖像Bα(x,t)估計可能存在的目標頂點，將二值圖像Bα(x,t)中所有可能存在的目標頂點，記為Eα(xk,tk),k＝1,2,…,K，(xk,tk)為第k個可能存在的目標頂點的坐標，K為可能存在的目標頂點的個數；
步驟3：根據估計出的可能存在的目標頂點坐標建立匹配模板，使用匹配模板與邊緣檢測得到的二值圖像進行模板匹配，舍棄匹配相似度低的目標頂點，得出匹配后的目標頂點；
步驟4：對匹配后的目標頂點進行聚類分析，去除虛假頂點，得出檢測結果；
所述步驟3中根據估計出的可能存在的目標頂點Eα(xk,tk)的坐標建立匹配模板包括以下步驟：
步驟3.1：設置標準雙曲線模板方程為其中，a＝t0，其中t0表示探地雷達到地下目標的最小時延，x0表示最小時延對應的橫向探測距離，εr表示目標的相對介電常數；
步驟3.2：基于目標頂點Eα(xk,tk)建立子二值圖像；
基于步驟2中找出的可能存在的目標頂點Eα(xk,tk)，建立子二值圖像B′α(x,t),x∈[xkmin,xkmax],t∈[tkmin,tkmax]，其中xkmin、xkmax、tkmin和tkmax分別為xk、xk+x′、tk-b和tk+b，x′＝0.2·T0，T0是天線的周期，f為探地雷達天線的頻率；
步驟3.3：基于目標頂點Eα(xk,tk)建立匹配模板；
對標準雙曲線模板進行修正，修正后的雙曲線為其中Δb＝10×α，α表示邊緣檢測中的閾值；
將[tkmin,tkmax]內的整數t依次代入修正后的雙曲線得到相應的x，滿足x∈[xkmin,xkmax]的所有解為修正后的雙曲線對應的邊緣點；
將該修正后的雙曲線對應的邊緣點繪制在與上述子二值圖像B′α(x,t),x∈[xkmin,xkmax],t∈[tkmin,tkmax]大小相同的二值圖像中，得到匹配模板，記為Mk(x,t),x∈[xkmin,xkmax],t∈[tkmin,tkmax]，匹配模板中的兩條雙曲線即分別由修正后的雙曲線和對應的邊緣點連接成的雙曲線，稱為理論雙曲線。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中南大學，未經中南大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710667148.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
