[發明專利]一種離子束干擾器

在審

• 申請號: 201710666541.1
• 申請日: 2017-08-07
• 公開（公告）號: CN107300274A
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發明（設計）人: 唐為花
• 申請（專利權）人: 唐為花
• 主分類號: F25B43/00
• 分類號: F25B43/00
• 代理公司: 安徽合肥華信知識產權代理有限公司34112
• 代理人: 朱榮

1.一種離子束干擾器，其特征在于：包括有依次相互連通的補償器組件、發射器組件、微處理器組件、恒流器組件，所述補償器組件包括有殼體，所述殼體內封裝有相互連通的毛細管和導流管，所述毛細管從殼體的一端伸出，所述導流管從殼體的另一端伸出，所述導流管側壁上分布有間隔設置且與殼體內腔連通的開槽；所述發射器組件包括有管體，所述導流管的伸出端一部分伸入到到管體內，且其伸入端端部安裝有發射器噴針，所述發射器噴針的出料端設有傾斜設置的折彎，所述發射器噴針端部的噴嘴呈喇叭口狀；所述微處理器組件包括有與發射器組件管體出口連通的過渡管，所述過渡管為三段間隔設置且相互連通為一體的管體結構，且三段管體中相鄰管體呈120°傾斜設置，其每段管體的中部兩面均分別向內凹陷，凹陷處與進料端之間的過渡處分別采用多級臺階面過渡，凹陷處與出料端之間的過渡處分別采用斜面過渡；所述恒流器組件包括有與微處理器組件出口連接的續流管，所述續流管上設有間隔設置的鎖環和內渦環。

2.根據權利要求1所述的離子束干擾器，其特征在于：所述的導流管的管徑大于毛細管的管徑，所述導流管上開了三個間隔設置的開槽，其開槽的槽深依次增大。

3.根據權利要求2所述的離子束干擾器，其特征在于：所述的開槽從進料端到出料端分別為第一個開槽、第二開槽、第三開槽，所述第一開槽的槽深為管體的1/4直徑，第二開槽的槽深為管體的1/2直徑，第三開槽的槽深為管體的3/4直徑。

4.根據權利要求1所述的離子束干擾器，其特征在于：所述的發射器噴針的出料端折彎處的傾斜角度范圍在8-18°。

5.根據權利要求1所述的離子束干擾器，其特征在于：所述的鎖環為向內凹陷的水平凹槽，所述水平凹槽的兩端與續流管之間的過渡處分別采用弧形面過渡，所述內渦環為向內凹陷的弧形凹槽。