[發(fā)明專利]光學微結構及光學微結構層的制作方法、導光組件及顯示裝置

有效

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• 申請日: 2017-08-07
• 公開（公告）號: CN107229088B
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發(fā)明（設計）人: 王維;孟憲東;譚紀風;高健;陳小川;呂敬;董學
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G02B6/00
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td>

本發(fā)明提供一種光學微結構及光學微結構層的制作方法、導光組件及顯示裝置，該制作方法包括：形成光致聚合物膜層；對該光致聚合物膜層進行全息曝光，形成平面化折射率調制的位相型微結構。本發(fā)明提供的光學微結構的制作方法，其可以實現(xiàn)大尺寸產(chǎn)品的制備、跨尺度的光線微結構的分塊制備，同時可以避免因膜層間貼合或填充造成的全息透鏡中相位分布改變，而且具有較好的量產(chǎn)可行性和產(chǎn)品信賴性。

技術領域

本發(fā)明涉及顯示技術領域，具體地，涉及一種光學微結構及光學微結構層的制作方法、導光組件及顯示裝置。

背景技術

對于大尺寸產(chǎn)品上復雜精細的光學微結構的制備，目前業(yè)界普遍推薦采用納米壓印技術。納米壓印技術的基本原理是將一具有納米圖案的模版以機械力(高溫、高壓)在涂有高分子材料的基板上等比例壓印復制納米圖案。由于省去了光學光刻掩膜版和使用光學成像設備的成本，因此，具有低成本、高產(chǎn)出的經(jīng)濟優(yōu)勢。

但是，在實際的產(chǎn)業(yè)化應用中，納米壓印技術存在大尺寸產(chǎn)品的壓印模板的制備困難、跨尺度微結構壓印時易引發(fā)不良、因膜層間貼合或填充造成的全息透鏡中相位分布改變等問題，從而限制了量產(chǎn)可行性和產(chǎn)品信賴性。

發(fā)明內容

本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術中存在的技術問題之一，提出了一種光學微結構及光學微結構層的制作方法、導光組件及顯示裝置，其可以實現(xiàn)大尺寸產(chǎn)品的制備、跨尺度的光線微結構的分塊制備，同時可以避免因膜層間貼合或填充造成的全息透鏡中相位分布改變，而且具有較好的量產(chǎn)可行性和產(chǎn)品信賴性。

為實現(xiàn)本發(fā)明的目的而提供一種光學微結構的制作方法，包括：

形成光致聚合物膜層；

對所述光致聚合物膜層進行全息曝光，形成平面化折射率調制的位相型微結構。

優(yōu)選的，所述對所述光致聚合物膜層進行全息曝光，包括：

對激光束進行相位調制，形成所需的激光波前調制；

利用調制后的所述激光束對所述光致聚合物膜層進行曝光。

作為另一個技術方案，本發(fā)明還提供一種光學微結構層的制作方法，其包括：

形成光致聚合物膜層；

對所述光致聚合物膜層中的待形成光學微結構的區(qū)域進行全息曝光，形成平面化折射率調制的位相型微結構；

對整個所述光致聚合物膜層進行均勻曝光。

優(yōu)選的，所述對所述光致聚合物膜層中的待形成光學微結構的區(qū)域進行全息曝光，形成平面化折射率調制的位相型微結構，包括：

所述利用調制后的所述激光束包括多條曝光光路，且多條所述曝光光路同時對所有所述待形成所述位光學微結構的區(qū)域中的至少一部分區(qū)域進行曝光。

優(yōu)選的，所述光致聚合物膜層形成在導光板的入光面或出光面，且所述待形成光學微結構的區(qū)域對應入射光直接照射在所述導光板上的照射區(qū)，所述光學微結構用于使所述入射光在所述導光板中以全反射形式進行傳播。

作為另一個技術方案，本發(fā)明還提供一種導光組件，包括導光板；還包括光學微結構層，所述光學微結構層設置在所述導光板的入光面或出光面，且包括對應所述入射光直接照射在所述導光板上的照射區(qū)的光學微結構，用于使入射光在所述導光板中以全反射形式進行傳播。

優(yōu)選的，所述光學微結構為光柵結構。

優(yōu)選的，所述光柵結構被均分或非均分成多個子光柵結構，多個所述子光柵結構的份數(shù)滿足：使所述子光柵結構接收到的入射光在所述導光板中以全反射形式進行傳播。

優(yōu)選的，多個所述子光柵結構均為環(huán)形，且以所述照射區(qū)的中心為圓心呈同心環(huán)分布。