[發明專利]含氟醚化合物、磁記錄介質用潤滑劑及磁記錄介質有效
| 申請號: | 201710665166.9 | 申請日: | 2017-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN107731245B | 公開(公告)日: | 2020-11-17 |
| 發明(設計)人: | 福本直也;柳生大輔;山口裕太;植竹祥子;加藤剛;富田浩幸;宮坂隆太;室伏克己 | 申請(專利權)人: | 昭和電工株式會社 |
| 主分類號: | G11B5/725 | 分類號: | G11B5/725 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 馬妮楠;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含氟醚 化合物 記錄 介質 潤滑劑 | ||
1.一種含氟醚化合物,其特征在于,由下述式(1)表示:
R1-CH2-R2-CH2-R3 (1)
式(1)中,R1為下述式(4)表示的有機末端基團,R2包含下述式(3)表示的全氟聚醚鏈,R3為羥基或R1,
-(CF2)y-1-O-((CF2)yO)z-(CF2)y-1- (3)
式(3)中,y表示3~4的整數,z表示1~30的整數,
式(4)中,x表示1~3的整數。
2.根據權利要求1所述的含氟醚化合物,其中,所述R3為R1。
3.根據權利要求1所述的含氟醚化合物,其中,所述式(4)中,x為2~3的整數。
4.根據權利要求1所述的含氟醚化合物,其中,前述式(1)中的化合物由下述式(5)表示:
式(5)中,m表示1~11的整數。
5.根據權利要求1所述的含氟醚化合物,其中,前述式(1)中的化合物由下述式(6)表示:
式(6)中,n表示1~7的整數。
6.根據權利要求1所述的含氟醚化合物,其中,前述式(1)中的化合物由下述式(7)表示:
式(7)中,n表示1~7的整數。
7.根據權利要求1所述的含氟醚化合物,其中,前述式(1)中的化合物由下述式(8)表示:
式(8)中,m表示1~11的整數。
8.根據權利要求1所述的含氟醚化合物,其中,前述式(1)中的化合物由下述式(9)表示:
式(9)中,n表示1~7的整數。
9.根據權利要求1所述的含氟醚化合物,其中,前述式(1)中的化合物由下述式(10)表示:
式(10)中,n表示1~7的整數。
10.根據權利要求1所述的含氟醚化合物,其數均分子量在800~10000的范圍內。
11.一種磁記錄介質用潤滑劑,其特征在于,包含權利要求1所述的含氟醚化合物。
12.一種磁記錄介質,其是在基板上至少依次設置有磁性層、保護層和潤滑層的磁記錄介質,其特征在于,前述潤滑層包含權利要求1所述的含氟醚化合物。
13.根據權利要求12所述的磁記錄介質,其中,前述潤滑層的平均膜厚為0.5nm~3nm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昭和電工株式會社,未經昭和電工株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710665166.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種硅片晶圓激光切割工藝
- 下一篇:顯示面板的制造方法、顯示面板和顯示裝置





