[發明專利]一種噴嘴距離可調的噴銫裝置有效
| 申請號: | 201710661921.6 | 申請日: | 2017-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN107457110B | 公開(公告)日: | 2019-04-12 |
| 發明(設計)人: | 李冬;徐強;左晨;李小飛;趙鵬;張權;王弘毅;陳德智 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | B05B12/12 | 分類號: | B05B12/12;H01J9/02;H01J27/02 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人: | 廖盈春;曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 噴嘴 距離 可調 裝置 | ||
1.一種噴嘴距離可調的噴銫裝置,其特征在于,包括:移動平臺單元(100)、噴銫裝置主體單元(200)和負離子腔室單元(300);
所述噴銫裝置主體單元(200)包括:儲銫單元(210)、第一傳導單元(220)、第二傳導單元(230),所述儲銫單元(210)設置于所述第一傳導單元(220)的下側,用于銫的存儲和蒸發;所述第一傳導單元(220)和所述第二傳導單元(230)直接相連,兩者均用于對銫的傳輸;
所述負離子腔室單元(300)包括:第一伸縮波紋管(301)、負離子腔室(303)和柵極板(304);所述第一伸縮波紋管(301)的一端與所述噴銫裝置主體單元(200)相連,所述第一伸縮波紋管(301)的另一端與所述負離子腔室(303)相連;所述負離子腔室(303)用于對銫等粒子的承接,所述柵極板(304)設置于所述負離子腔室(303)遠離所述噴嘴(233)側,用于銫的沉覆;
所述移動平臺單元(100)用于配合所述第一伸縮波紋管(301)移動所述噴銫裝置主體單元(200),同時還對所述噴銫裝置主體單元(200)起到支撐作用;
當所述移動平臺單元(100)帶動所述噴銫裝置主體單元(200)移動時,所述第一伸縮波紋管(301)沿相同方向伸或縮,從而改變了所述噴嘴(233)與所述柵極板(304)的距離。
2.如權利要求1所述的噴銫裝置,其特征在于,所述負離子腔室單元(300)還包括第三CF法蘭(302),所述第三CF法蘭(302)設置于所述負離子腔室(303)上,用于實現所述第一伸縮波紋管(301)和所述負離子腔室(303)的密封連接。
3.如權利要求1所述的噴銫裝置,其特征在于,所述儲銫單元(210)包括:安瓿瓶(212)、儲銫管(211)和第一CF法蘭(213);
所述安瓿瓶(212)設置在所述儲銫管(211)的底端,用于儲存銫;
所述儲銫管(211)為下細上粗結構,與所述第一傳導單元(220)匹配連接,用于對所述安瓿瓶(212)破裂時釋放出的銫進行存儲及蒸發;
所述第一CF法蘭(213)用于連接所述儲銫管(211 )與所述第一傳導單元(220),且當所述安瓿瓶(212)中的銫消耗完需更換時便于拆卸。
4.如權利要求1所述的噴銫裝置,其特征在于,所述第一傳導單元(220)包括:盲板(221)、第一全金屬管閥(222)、第一傳導管(223)和第二全金屬管閥(224);
所述盲板(221)通過所述第一全金屬管閥(222)和所述第一傳導管(223)相連,為抽真空預留接口,所述第一傳導管(223)為中間粗且兩邊細結構,所述第一傳導管(223)和所述第二傳導單元(23 0)通過所述第二全金屬管閥(224)連接,所述第二全金屬管閥(224)用于控制銫蒸發的通斷。
5.如權利要求1-4任一項所述的噴銫裝置,其特征在于,所述第二傳導單元(230)包括:第二CF法蘭(231)、第二傳導管(232)和噴嘴(233);
所述第二CF法蘭(231)設置于所述第二傳導管(232)的遠離噴嘴(233)端,用于實現所述噴銫裝置主體單元(200)和所述第一伸縮波紋管(301)的密封連接;
所述第二傳導管(232)的一端與所述第一傳導單元(220)連接,所述第二傳導管(232 )的另一端通入所述負離子腔室(303),用于實現銫的傳輸;
所述噴嘴(233)設置于所述第二傳導管(232)的末端,作為銫蒸汽的噴出口。
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