[發(fā)明專利]正型抗蝕劑組合物、抗蝕劑圖案形成方法和光掩模坯

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710660209.4
• 申請日: 2017-08-04
• 公開（公告）號: CN107688279B
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 增永惠一;渡邊聰;小竹正晃;大橋正樹
• 申請（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會社
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/004;G03F1/76
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 杜麗利

1.正型抗蝕劑組合物，其包括(A)包括具有式(A)的锍化合物的酸擴(kuò)散抑制劑，和(B)含有包括具有式(B1)的重復(fù)單元的聚合物的基礎(chǔ)聚合物，所述聚合物適于在酸的作用下分解，以增加其在堿性顯影劑中的溶解度，

其中，R¹、R²和R³各自獨(dú)立地為可以包含含有選自氧、硫、氮和鹵素的雜原子的結(jié)構(gòu)部分的C₁-C₂₀直鏈、支鏈或環(huán)狀的一價烴基，p和q各自獨(dú)立地為0至5的整數(shù)，r為0至4的整數(shù)，在p＝2至5的情況下，兩個相鄰的R¹基團(tuán)可以與它們所連接的碳原子鍵合在一起以形成環(huán)，在q＝2至5的情況下，兩個相鄰的R²可以與它們所連接的碳原子鍵合在一起以形成環(huán)，在r＝2至4的情況下，兩個相鄰的R³可以與它們所連接的碳原子鍵合在一起以形成環(huán)，

其中，R^A為氫、氟、甲基或三氟甲基，R¹¹各自獨(dú)立地為鹵素，任選被鹵化的C₂-C₈直鏈、支鏈或環(huán)狀的酰氧基，任選被鹵化的C₁-C₆直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷基或任選被鹵化的C₁-C₆直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷氧基，A¹為單鍵或C₁-C₁₀直鏈、支鏈或環(huán)狀的亞烷基，其中醚鍵可以插入碳-碳鍵中，v為0或1，w為0至2的整數(shù)，a為滿足0≤a≤5+2w-b的整數(shù)，和b為1至3的整數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述聚合物進(jìn)一步包括具有式(B2)的重復(fù)單元：

其中，R^A如上文所定義，R¹²各自獨(dú)立地為鹵素，任選被鹵化的C₂-C₈直鏈、支鏈或環(huán)狀的酰氧基，任選被鹵化的C₁-C₆直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷基，或者任選被鹵化的C₁-C₆直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷氧基，A²為單鍵或C₁-C₁₀直鏈、支鏈或環(huán)狀的亞烷基，其中醚鍵可以插入碳-碳鍵中，s為0或1，t為0至2的整數(shù)，c為滿足0≤c≤5+2t-e的整數(shù)，d為0或1，e為1至3的整數(shù)，在e＝1的情況下，X為酸不穩(wěn)定性基團(tuán)，和在e＝2或3的情況下，X為氫或酸不穩(wěn)定性基團(tuán)，至少一個X為酸不穩(wěn)定性基團(tuán)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中所述聚合物進(jìn)一步包括選自具有式(B3)、(B4)和(B5)的單元的至少一種類型的重復(fù)單元：

其中，R^A如上文所定義，R¹³和R¹⁴各自獨(dú)立地為羥基，鹵素原子，乙酰氧基，任選被鹵化的C₂-C₈直鏈、支鏈或環(huán)狀的酰氧基，任選被鹵化的C₁-C₈直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷基，任選被鹵化的C₁-C₈直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷氧基，或者任選被鹵化的C₂-C₈直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷基羰基氧基，R¹⁵為乙酰基，乙酰氧基，C₁-C₂₀直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷基，C₁-C₂₀直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷氧基，C₂-C₂₀直鏈、支鏈或環(huán)狀的酰氧基，C₂-C₂₀直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷氧基烷基，C₂-C₂₀烷基硫烷基，鹵素原子，硝基，氰基，亞磺酰基或磺酰基，A³為單鍵或C₁-C₁₀直鏈、支鏈或環(huán)狀的亞烷基，其中醚鍵可以插入碳-碳鍵中，f和g各自獨(dú)立地為0至4的整數(shù)，h為0或1，j為0至5的整數(shù)，和k為0至2的整數(shù)。