[發明專利]負型抗蝕劑組合物及抗蝕圖案形成方法

有效

• 申請號: 201710659370.X
• 申請日: 2017-08-04
• 公開（公告）號: CN107688278B
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 增永惠一;渡邊聰;小竹正晃;山田健司;大橋正樹
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: G03F7/038
• 分類號: G03F7/038;G03F7/004;G03F7/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 何楊

1.一種負型抗蝕劑組合物，包括：

(A)具有式(A)的锍化合物：

其中，R¹、R²和R³各自獨立地為可以含有包含選自氧、硫、氮和鹵素的雜原子的基團部分的直鏈、支鏈或環狀的C₁-C₂₀的一價烴基，p和q各自獨立地為0至5的整數，r為0至4的整數，在p＝2～5的情況下，兩個相鄰的基團R¹可以鍵合在一起以與它們相連的碳原子形成環，在q＝2～5的情況下，兩個相鄰的基團R²可以鍵合在一起以與它們相連的碳原子形成環，在r＝2～4的情況下，兩個相鄰基團R³可以鍵合在一起以與它們相連的碳原子形成環，和

(B)含有包含具有式(B1)的重復單元的聚合物的基礎聚合物：

其中，R^A是氫，氟，甲基或三氟甲基；R¹¹各自獨立地為鹵素，任選鹵代的直鏈、支鏈或環狀的C₂-C₈的酰氧基，任選鹵代的直鏈、支鏈或環狀的C₁-C₆的烷基或任選鹵代的直鏈、支鏈或環狀的C₁-C₆的烷氧基；A¹是單鍵或直鏈、支鏈或環狀的C₁-C₁₀的亞烷基，其中在碳-碳鍵中可以插入醚鍵；s為0或1；w為0～2的整數；a是0≤a≤5+2w-b范圍中的整數；b是1～3的整數。

2.如權利要求1所述的負型抗蝕劑組合物，其中該聚合物還包含選自具有式(B2)、(B3)和(B4)的單元中的至少一種類型的重復單元：

其中，R^A如上所定義；R¹²和R¹³各自獨立地為羥基，鹵素原子，乙酰氧基，任選鹵代的直鏈、支鏈或環狀的C₂-C₈的酰氧基，任選鹵代的直鏈、支鏈或環狀的C₁-C₈的烷基，任選鹵代的直鏈、支鏈或環狀的C₁-C₈的烷氧基，或任選鹵代的直鏈、支鏈或環狀的C₂-C₈的烷基羰基氧基；R¹⁴為乙酰基，乙酰氧基，直鏈、支鏈或環狀的C₁-C₂₀的烷基，直鏈、支鏈或環狀的C₁-C₂₀的烷氧基，直鏈、支鏈或環狀的C₂-C₂₀的酰氧基，直鏈、支鏈或環狀的C₂-C₂₀的烷氧基烷基，C₂-C₂₀的烷基硫代烷基，鹵素原子，硝基，氰基，亞磺酰基或磺酰基；A²是單鍵或直鏈、支鏈或環狀的C₁-C₁₀的亞烷基，其中在碳-碳鍵中可以插入醚鍵；c和d各自獨立地為0～4的整數；e為0～5的整數；x為0～2的整數；t為0或1。