[發(fā)明專利]類金剛石薄膜和鏡片的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710657916.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107587121B | 公開(公告)日: | 2019-08-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王新華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市科益實(shí)業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/511 | 分類號(hào): | C23C16/511;C23C16/26;C08J5/18;C08K3/36;C08L63/00 |
| 代理公司: | 深圳精智聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44393 | 代理人: | 夏聲平 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍華新*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金剛石 薄膜 鏡片 制備 方法 | ||
1.一種鏡片的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
提供一透明基底;
利用微波等離子體化學(xué)氣相沉積方法,在反應(yīng)腔中通入甲烷、氫氣和氧氣的混合氣體,選用頻率為915MHz的固態(tài)微波源、溫度為400℃、微波功率為1.5kW ~2.5kW ,氣壓20~30mbar,在所述透明基底下表面形成親水性類金剛石薄膜;
利用微波等離子體化學(xué)氣相沉積方法,在反應(yīng)腔中通入甲烷、氫氣和氧氣的混合氣體,選用頻率為915MHz的固態(tài)微波源、溫度為400℃、微波功率為3kW ~4kW ,氣壓35~45mbar,在所述透明基底上表面形成疏水性類金剛石薄膜;
其中,所述制備方法還包括在所述透明基底的所述下表面、所述上表面分別形成有第一結(jié)合層、第二結(jié)合層,所述親水性類金剛石薄膜、所述疏水性類金剛石薄膜分別形成在所述第一結(jié)合層、所述第二結(jié)合層上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述鏡片的制備方法,其特征在于,所述混合氣體中:所述甲烷、氫氣和氧氣的體積流量之比為3:100:1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述鏡片的制備方法,其特征在于,所述混合氣體中:所述甲烷、氫氣和氧氣的體積流量分別為12sccm、400sccm、4sccm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述鏡片的制備方法,其特征在于,所述親水性類金剛石薄膜和/或所述疏水性類金剛石薄膜的形成速度為1μm/45~60min。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述鏡片的制備方法,其特征在于,所述第一結(jié)合層和/或所述第二結(jié)合層的材質(zhì)選自納米二氧化硅-環(huán)氧樹脂、有機(jī)硅樹脂。
6.一種親水性類金剛石薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
利用微波等離子體化學(xué)氣相沉積方法,在反應(yīng)腔中通入甲烷、氫氣和氧氣的混合氣體,選用頻率為915MHz的固態(tài)微波源、溫度為400℃、微波功率為1.5kW ~2.5kW ,氣壓20~30mbar,在基底表面形成親水性類金剛石薄膜。
7.一種疏水性類金剛石薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
利用微波等離子體化學(xué)氣相沉積方法,在反應(yīng)腔中通入甲烷、氫氣和氧氣的混合氣體,選用頻率為915MHz的固態(tài)微波源、溫度為400℃、微波功率為3kW ~4kW ,氣壓35~45mbar,在基底表面形成疏水性類金剛石薄膜。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市科益實(shí)業(yè)有限公司,未經(jīng)深圳市科益實(shí)業(yè)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710657916.8/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





