[發明專利]一種光刻膠的去除液及光刻膠的去除方法在審
| 申請號： | 201710657370.6 | 申請日： | 2017-08-03 |
| 公開（公告）號： | CN109388036A | 公開（公告）日： | 2019-02-26 |
| 發明（設計）人： | 溫子瑛;孫富成;王致凱 | 申請（專利權）人： | 無錫華瑛微電子技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/42 | 分類號： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 無錫中瑞知識產權代理有限公司 32259 | 代理人： | 張倪濤 |
| 地址： | 214135 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻膠 去除液 有機溶劑 去除 晶圓表面 襯底 吸電子官能團 氨氣 光刻膠去除 襯底材料 工藝特征 氣液混合 混合物 聚合物 良品率 膠和 晶圓 去膠 濕法 液氨 清洗 腐蝕 金屬 應用 | ||
1.一種光刻膠的去除液，其特征在于：包括氨和有機溶劑，所述氨為氨氣、液氨或者氨與水的混合物，所述有機溶劑為至少具有一個吸電子官能團的有機溶劑。
2.根據權利要求1所述的光刻膠的去除液，其特征在于：所述有機溶劑具有以下官能團中的至少一種：羥基、羰基、醛基、羧基、氨基、肟基。
3.根據權利要求1或2所述的光刻膠的去除液，其特征在于，所述光刻膠去除液還包括至少一種有機物，所述有機物含有以下官能團中的至少一種:羥基、羰基、醛基、羧基、氨基、肟基。
4.根據權利要求2所述的光刻膠的去除液，其特征在于，所述有機溶劑為異丙醇或丙酮。
5.根據權利要求4所述的光刻膠的去除液，其特征在于，所述去除液還包括水，其組分按質量百分比計，包括含量為10-85wt.％的有機溶劑/丙酮，含量為5-24wt.％的氨氣，含量為0-60wt.％的水。
6.一種光刻膠的去除方法，其特征在于，使用權利要求1-5所述的去除液進行光刻膠的去除。
7.根據權利要求6所述的光刻膠的去除方法，其特征在于：通過將所述去除液噴淋到光刻膠表面的方式進行去除。
8.根據權利要求7所述的光刻膠的去除方法，其特征在于：所述去除液通過與氣體充分混合后，形成氣液混合態，然后再噴淋到光刻膠表面的方式進行去除。
9.根據權利要求8所述的光刻膠的去除方法，其特征在于：所述氣體為氨氣、氧氣、氮氣、空氣或臭氧的一種或多種的混合。
10.根據權利要求8所述的光刻膠的去除方法，其特征在于：所述氣體為空氣或氧氣，所述氣體與所述去除液混合前，通過臭氧發生裝置，部分或全部轉化為臭氧。
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