[發明專利]一種柔性基材鍍厚膜用的鍍膜設備及方法在審
| 申請號: | 201710657221.X | 申請日: | 2017-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN107236933A | 公開(公告)日: | 2017-10-10 |
| 發明(設計)人: | 朱建明 | 申請(專利權)人: | 肇慶市科潤真空設備有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/26 | 分類號: | C23C14/26;C23C14/35;C23C14/46;C23C14/56 |
| 代理公司: | 廣州市華學知識產權代理有限公司44245 | 代理人: | 謝靜娜 |
| 地址: | 52606*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 柔性 基材 鍍厚膜用 鍍膜 設備 方法 | ||
1.一種柔性基材鍍厚膜用的鍍膜設備,其特征在于,沿柔性基材的輸送方向,包括依次連接的放卷室、離子處理室、多個鍍膜室和收卷室,離子處理室和多個鍍膜室沿鍍膜水冷輥的外周進行分布,放卷室和收卷室分別設于鍍膜水冷輥的兩側;多個鍍膜室中,位于中部的鍍膜室中設置連續式蒸發鍍膜源,其余各鍍膜室中設置中頻磁控靶;
連續式蒸發鍍膜源包括蒸發器、蒸發器擋板和鍍料絲供料機構,蒸發器設于鍍膜室底部,蒸發器的開口朝向柔性基材的表面,蒸發器擋板設于蒸發器的開口上方,鍍料絲供料機構設于蒸發器的一側,鍍料絲供料機構向蒸發器中供應鍍料絲。
2.根據權利要求1所述一種柔性基材鍍厚膜用的鍍膜設備,其特征在于,所述蒸發器包括蒸發源水冷座、蒸發源輸入電極、蒸發舟、蒸發電極絕緣套和電極冷卻水接咀,蒸發源水冷座為上部開口的箱體狀結構,蒸發舟設于蒸發源水冷座內,蒸發舟底部設置蒸發源輸入電極,蒸發源輸入電極內設有冷卻通道,冷卻通道的入口處設有電極冷卻水接咀,蒸發源輸入電極與鍍膜室外壁的相接處設有蒸發電極絕緣套。
3.根據權利要求2所述一種柔性基材鍍厚膜用的鍍膜設備,其特征在于,所述鍍料絲供料機構包括鍍料絲卷盤、送絲輪和送絲咀,鍍料絲纏繞于鍍料絲卷盤上,鍍料絲卷盤的輸出端設置送絲輪,送絲咀安裝于蒸發源水冷座上,鍍料絲沿送絲輪輸出后,通過送絲咀送入蒸發源水冷座中。
4.根據權利要求1所述一種柔性基材鍍厚膜用的鍍膜設備,其特征在于,所述離子處理室中設有冷陰極線性離子源,冷陰極線性離子源包括冷陰極離子源座、氣體接咀、磁鐵、陰極、陰極絕緣套、輔助陽極、陽極絕緣套和柵板組件;冷陰極離子源座為上部開口的箱體狀結構,氣體接咀貫穿于冷陰極離子源座的底部,位于氣體接咀外周的冷陰極離子源座底面設有磁體,陰極設于氣體接咀的上端,氣體接咀與冷陰極離子源座的連接處設有陰極絕緣套,位于陰極上方的冷陰極離子源座內壁設有輔助陽極,輔助陽極與冷陰極離子源座的連接處設有陽極絕緣套;冷陰極離子源座頂部設有柵板組件。
5.根據權利要求4所述一種柔性基材鍍厚膜用的鍍膜設備,其特征在于,所述柵板組件包括柵板固定塊、內柵孔板、外柵孔板、柵板壓塊和柵板壓塊絕緣套,柵板固定塊設于冷陰極離子源座頂部,內柵孔板和外柵孔板依次設于柵板固定塊上方,外柵孔板頂部設置柵板壓塊,柵板壓塊外周設置柵板壓塊絕緣套。
6.根據權利要求5所述一種柔性基材鍍厚膜用的鍍膜設備,其特征在于,所述陰極和輔助陽極之間外接100~1000V的電源,外柵孔板和內柵孔板之間外接100~500V的電源。
7.根據權利要求1所述一種柔性基材鍍厚膜用的鍍膜設備,其特征在于,所述放卷室與離子處理室的連接處設有大氣隔離真開鎖,多個鍍膜室與收卷室的連接處也設有大氣隔離真空鎖;
大氣隔離真空鎖包括壓緊氣缸、氣缸密封座、隔離密封座和壓緊密封膠輥,隔離密封座底部設有柔性基材通過用的基材通道,且位于基材通道上下兩側的隔離密封座底部設有圓柱狀凹槽,圓柱狀凹槽底部位于基材通道下方,圓柱狀凹槽上部位于基材通道上方且與隔離密封座的內部空間想通,壓緊密封膠輥設于隔離密封座的內部空間中,壓緊密封膠輥頂部與壓緊氣缸的輸出端連接,壓緊氣缸通過氣缸密封座安裝于隔離密封座上方;大氣隔離真空鎖閉合時,壓緊密封膠輥的下部嵌入圓柱狀凹槽中。
8.根據權利要求7所述一種柔性基材鍍厚膜用的鍍膜設備,其特征在于,所述壓緊密封膠輥的兩端對稱設有兩個壓緊氣缸。
9.根據權利要求1所述一種柔性基材鍍厚膜用的鍍膜設備,其特征在于,所述多個鍍膜室中,任意相鄰的兩個鍍膜室之間設有隔離板,隔離板靠近鍍膜水冷輥的一側設有隔離板水冷座,隔離板水冷座與鍍膜水冷輥之間的間隙為基材通道,且間隙寬度不超過1mm;隔離板內設有與隔離板水冷座連通的冷卻水路,隔離板水冷座的寬度大于100mm。
10.根據權利要求1~9任一項所述設備實現的柔性基材鍍厚膜用的鍍膜方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)柔性基材由放卷室放出后,先進入離子處理室,對柔性基材表面進行離子粗化和除氣處理;
(2)柔性基材完成離子處理后,沿鍍膜水冷輥的轉動依次送入各個鍍膜室中,先由中頻磁控靶對柔性基材表面進行至少一次濺射鍍膜,然后通過連續式蒸發鍍膜源對柔性基材進行蒸發鍍膜,再由中頻磁控靶對柔性基材表面進行至少一次濺射鍍膜;
(3)完成鍍膜后,柔性基材送入收卷室中進行收卷。
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