[發明專利]氣體分析裝置、氣體取樣裝置和氣體分析方法

有效

• 申請號: 201710655493.6
• 申請日: 2017-08-03
• 公開（公告）號: CN108226268B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: 茂原治久;日下竹史
• 申請（專利權）人: 株式會社堀場制作所
• 主分類號: G01N27/626
• 分類號: G01N27/626;G01N1/24;G01N35/00;G01N35/10
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 周善來;李雪春

1.一種氣體分析裝置，其特征在于，

所述氣體分析裝置包括：

試樣氣體管道，流過試樣氣體；

壓力損失機構，設置在所述試樣氣體管道上；

壓力控制機構，通過從所述壓力損失機構的后段排出所述試樣氣體的一部分或者向所述壓力損失機構的后段供給規定的氣體，來控制所述壓力損失機構的前后的所述試樣氣體管道的壓力差；以及

分析器，分析流過所述試樣氣體管道的所述試樣氣體，其中，

所述壓力控制機構基于所述試樣氣體管道的所述壓力損失機構的前段的壓力，控制所述壓力損失機構的前后的所述試樣氣體管道的壓力差。

2.根據權利要求1所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述壓力控制機構包括：

試樣氣體排出管道，將所述試樣氣體的一部分從所述試樣氣體管道的所述壓力損失機構的后段排出；

試樣壓力調整管道，與所述試樣氣體排出管道連接；以及

試樣壓力控制部，參照所述試樣氣體管道的所述壓力損失機構的前段的壓力，控制所述試樣氣體管道的所述壓力損失機構的前段的壓力與所述試樣壓力調整管道的壓力的壓力差。

3.根據權利要求1所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述壓力控制機構包括：

氣體供給管道，向所述試樣氣體管道的所述壓力損失機構的后段，供給規定的氣體；

壓力控制閥，設置在所述氣體供給管道上；以及

壓差計，檢測所述壓力損失機構的前后的壓力差，

根據由所述壓差計檢測到的壓力差控制所述壓力控制閥。

4.根據權利要求1所述的氣體分析裝置，其特征在于，所述壓力損失機構是毛細管、節流孔和背壓閥中的任意一種。

5.根據權利要求1所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述氣體分析裝置還包括：

第一氣體供給管道，向所述試樣氣體管道的所述壓力損失機構的后段供給第一氣體；以及

第一氣體調壓機構，參照所述試樣氣體管道的所述壓力損失機構的后段的壓力，將所述第一氣體供給管道的供給側壓力與所述試樣氣體管道的壓力的差維持為一定。

6.根據權利要求5所述的氣體分析裝置，其特征在于，在所述試樣氣體管道上的所述壓力損失機構與所述分析器之間，還包括非甲烷截止器，所述非甲烷截止器將甲烷以外的碳氫化合物成分從所述試樣氣體除去。

7.根據權利要求6所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述氣體分析裝置還包括：

第二氣體供給管道，向所述試樣氣體管道的所述壓力損失機構的后段供給第二氣體；以及

第二氣體調壓機構，參照所述試樣氣體管道的所述壓力損失機構的后段的壓力，將所述第二氣體供給管道的供給側壓力與所述試樣氣體管道的壓力的差維持為一定。

8.根據權利要求7所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述第一氣體是氧氣，所述第二氣體是氫氣，

所述氣體分析裝置還包括水分供給催化劑，所述水分供給催化劑在所述非甲烷截止器的前段使所述第一氣體與所述第二氣體反應而生成水。

9.根據權利要求8所述的氣體分析裝置，其特征在于，所述第一氣體的供給量大于與所述第二氣體反應的量。

10.根據權利要求9所述的氣體分析裝置，其特征在于，用與所述第二氣體的反應的結果剩余的所述第一氣體，來稀釋所述試樣氣體。

11.根據權利要求10所述的氣體分析裝置，其特征在于，所述試樣氣體排出管道從比所述水分供給催化劑更靠后的后段，將用所述第一氣體稀釋后的所述試樣氣體的一部分排出。

12.根據權利要求1所述的氣體分析裝置，其特征在于，所述氣體分析裝置還包括抽吸型取樣泵，所述抽吸型取樣泵配置在所述試樣氣體管道上的所述分析器的下游。