[發明專利]一種光場相機的合成孔徑去遮擋方法有效
| 申請號: | 201710653078.7 | 申請日: | 2017-08-02 |
| 公開(公告)號: | CN107403423B | 公開(公告)日: | 2019-12-03 |
| 發明(設計)人: | 金欣;張恒;戴瓊海 | 申請(專利權)人: | 清華大學深圳研究生院 |
| 主分類號: | G06T5/50 | 分類號: | G06T5/50;G06T5/00 |
| 代理公司: | 44223 深圳新創友知識產權代理有限公司 | 代理人: | 方艷平<國際申請>=<國際公布>=<進入 |
| 地址: | 518055 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 相機 合成 孔徑 遮擋 方法 | ||
1.一種光場相機的合成孔徑去遮擋方法,其特征在于,包括以下步驟:
A1:根據輸入的光場信息,得到所有子孔徑圖像,所有子孔徑圖像包括中心視角圖像和其余視角圖像,計算所述中心視角圖像的深度信息;
A2:檢測所有子孔徑圖像的特征點;
A3:在所述中心視角圖像上選擇一塊區域,保留所選區域內的特征點,舍棄所選區域外的特征點,其中所選區域內包含有遮擋物和被遮擋的目標平面上的物體;
A4:結合所述中心視角圖像的深度信息,根據預設條件對于步驟A3中所選區域內的特征點進行篩選;
A5:對步驟A4得到的特征點和其余視角圖像的特征點進行匹配,篩選得到特征點對;
A6:通過篩選出的特征點對來計算中心視角圖像和其余視角圖像的單映性變換矩陣;
A7:通過單映性變換矩陣對其余視角圖像進行映射;
A8:對所有映射后的子孔徑圖像取平均,得到最終的子孔徑合成圖像;
其中,步驟A5具體包括:
A51:對于步驟A4得到的所有特征點,運用下式在其余視角圖像viewu,v的特征點中挑選特征點的最近點:
P(i)=argmin{(xi-x'j)2+(yi-y'j)2} (5)
其中,(xi,yi)為前一步驟得到的第i個特征點的坐標,(x'j,y'j)為其余視角圖像viewu,v的第j個特征點的坐標,P(i)為前一步驟得到的第i個特征點在其余視角圖像viewu,v中挑選出的最近點的序號;
A52:對于其余視角圖像viewu,v的所有特征點,運用下式在前一步驟得到的特征點中挑選特征點的最近點:
Q(j)=argmin{(xi-x'j)2+(yi-y'j)2} (6)
其中,(x'j,y'j)為其余視角圖像viewu,v的第j個特征點的坐標,(xi,yi)為前一步驟得到的第i個特征點的坐標,Q(j)為其余視角圖像viewu,v的第j個特征點在前一步驟得到的特征點中挑選出的最近點的序號;
A53:對于所有特征點,如果滿足下式,則滿足互為最近點的原則,即為一對相互匹配的特征點,否則不是一對相互匹配的特征點:
其中,P(s)表示前一步驟得到的第s個特征點的最近點的序號,Q(t)表示其余視角圖像viewu,v的第t特征點的最近點的序號;
A54:篩選出滿足下式的相互匹配的特征點:
(xs-x't)2+(ys-y't)2<threshlod (8)
其中,(xs,ys)和(xt',yt')是步驟A53中匹配的特征點對的坐標,threshlod是特征點距離的閾值。
2.根據權利要求1所述的光場相機的合成孔徑去遮擋方法,其特征在于,步驟A3中所選區域內的在目標平面上的特征點的數量大于在遮擋物上的特征點的數量。
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