[發(fā)明專(zhuān)利]高光譜相機(jī)、高光譜成像裝置及控制方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710651230.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107655569B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉寶瑩;胡修穩(wěn);趙猛;戚麗;張鋒;徐春風(fēng) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 合肥美亞光電技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01J3/28 | 分類(lèi)號(hào): | G01J3/28;G01J3/04;G01J3/02 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 張潤(rùn) |
| 地址: | 230088 安徽省合肥*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光譜 相機(jī) 成像 裝置 控制 方法 | ||
1.一種高光譜成像裝置,其特征在于,包括:
光學(xué)鏡頭,用于收集物料的反射光;
入口狹縫,所述入口狹縫位于所述光學(xué)鏡頭的焦點(diǎn)處,以便所述反射光聚焦至所述入口狹縫;
分光系統(tǒng),用于將由所述入口狹縫入射的反射光分為多束單色光;
數(shù)字微型反射鏡陣列,所述數(shù)字微型反射鏡陣列包括多個(gè)微型反射鏡,所述多個(gè)微型反射鏡處于第一狀態(tài)時(shí),所述多束單色光通過(guò)所述多個(gè)微型反射鏡反射后由所述分光系統(tǒng)聚焦為一條光束線;
線陣傳感器,用于接收所述光束線;
控制器,用于調(diào)整所述數(shù)字微型反射鏡陣列的工作模式,以控制所述多個(gè)微型反射鏡的狀態(tài)切換順序和切換時(shí)間,其中,所述工作模式為多個(gè),且每個(gè)工作模式下,控制所述多個(gè)微型反射鏡的狀態(tài)切換順序和切換時(shí)間不同,其中,多個(gè)工作模式包括第一工作模式、第二工作模式和第三工作模式,其中,
所述第一工作模式為按照光譜順序從上至下,依次將數(shù)字微型反射鏡陣列的一行微型反射鏡設(shè)置為第一狀態(tài);
所述第二工作模式為根據(jù)物料的光譜曲線,選擇預(yù)定波長(zhǎng)范圍,并在所述預(yù)定波長(zhǎng)范圍內(nèi)依次切換數(shù)字微型反射鏡陣列的一行微型反射鏡為第一狀態(tài);
所述第三工作模式為根據(jù)待物料的光譜曲線,在所述預(yù)定波長(zhǎng)范圍內(nèi),將具有相同屬性的波長(zhǎng)合并,以將所述預(yù)定波長(zhǎng)范圍劃分為多個(gè)不同屬性的波段,以及將每個(gè)波段內(nèi)所有的微型反射鏡同時(shí)設(shè)為第一狀態(tài);
所述多個(gè)微型反射鏡呈多行多列排列;所述數(shù)字微型反射鏡陣列的橫向像素表示空間上不同位置,所述數(shù)字微型反射鏡陣列的縱向像素表示光譜上不同波長(zhǎng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高光譜成像裝置,其特征在于,所述分光系統(tǒng)為折射棱鏡型分光系統(tǒng)或者衍射光柵型分光系統(tǒng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高光譜成像裝置,其特征在于,所述折射棱鏡型分光系統(tǒng)包括準(zhǔn)直透鏡、折射棱鏡和聚焦透鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高光譜成像裝置,其特征在于,所述衍射光柵型分光系統(tǒng)包括準(zhǔn)直透鏡、衍射光柵和聚焦透鏡。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高光譜成像裝置,其特征在于,所述第一狀態(tài)為ON狀態(tài)。
6.一種高光譜相機(jī),其特征在于,包括:根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的高光譜成像裝置。
7.一種根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的高光譜成像裝置的控制方法,其特征在于,包括以下步驟:
調(diào)整所述數(shù)字微型反射鏡陣列的工作模式,以控制所述多個(gè)微型反射鏡的狀態(tài)切換順序和切換時(shí)間,其中,所述工作模式為多個(gè),且每個(gè)工作模式下,控制所述多個(gè)微型反射鏡的狀態(tài)切換順序和切換時(shí)間不同,其中,多個(gè)工作模式包括第一工作模式、第二工作模式和第三工作模式,其中,
所述第一工作模式為按照光譜順序從上至下,依次將數(shù)字微型反射鏡陣列的一行微型反射鏡設(shè)置為第一狀態(tài);
所述第二工作模式為根據(jù)物料的光譜曲線,選擇預(yù)定波長(zhǎng)范圍,并在所述預(yù)定波長(zhǎng)范圍內(nèi)依次切換數(shù)字微型反射鏡陣列的一行微型反射鏡為第一狀態(tài);
所述第三工作模式為根據(jù)待物料的光譜曲線,在所述預(yù)定波長(zhǎng)范圍內(nèi),將具有相同屬性的波長(zhǎng)合并,以將所述預(yù)定波長(zhǎng)范圍劃分為多個(gè)不同屬性的波段,以及將每個(gè)波段內(nèi)所有的微型反射鏡同時(shí)設(shè)為第一狀態(tài);
所述多個(gè)微型反射鏡呈多行多列排列;所述數(shù)字微型反射鏡陣列的橫向像素表示空間上不同位置,所述數(shù)字微型反射鏡陣列的縱向像素表示光譜上不同波長(zhǎng)。
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