[發(fā)明專利]一種用于線圈繞制的骨架在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710648429.5 | 申請日: | 2017-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN107293387A | 公開(公告)日: | 2017-10-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 杜社軍;蔡奇思;張平祥;馮勇;劉向宏 | 申請(專利權)人: | 西安聚能超導磁體科技有限公司 |
| 主分類號: | H01F5/02 | 分類號: | H01F5/02;H01F6/00 |
| 代理公司: | 西安西達專利代理有限責任公司61202 | 代理人: | 第五思軍 |
| 地址: | 710018 陜西省*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 線圈 骨架 | ||
技術領域
本發(fā)明屬于超導磁體技術領域,具體涉及一種線圈繞制的骨架。
背景技術
非螺線管型線圈繞制相對于螺線管線圈繞制難度較大,主要是由于骨架結(jié)構(gòu)決定,一方面骨架上有直線段部分,不易施加預緊力,或者預緊力施加不均勻,另一方面,線圈拐角部分繞制時線型容易散亂,尤其是異形骨架,尤為明顯。因此帶來繞制后線型不能達到要求,從而磁場不能達到設計目標。骨架的結(jié)構(gòu)設計,一般來源于磁體線圈的設計,如果在設計之初,就考慮到以上問題,在滿足磁場要求的情況下,對線圈設計進行適當?shù)恼{(diào)整,就可以很好的避免由于骨架結(jié)構(gòu)而帶來的后期制作問題。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述現(xiàn)有技術的不足,本發(fā)明的目的是提供一種適用于線圈繞制的骨架,可以較為有效的避免或者解決直線段預緊力施加、線圈拐角繞制時線型容易散亂,尤其是異形骨架等問題,從而提高了繞制的結(jié)構(gòu)精度,保證線圈磁場設計要求;具有結(jié)構(gòu)簡單、實用、成本低,操作方便,易于加工制造,通用性強的特點。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術方案是:一種用于線圈繞制的骨架,其特征在于,包括形狀為跑道型或類似跑道型的繞線骨架,繞線骨架的長邊L帶有弧度R,短邊為M;繞線骨架的四周設有線圈槽。
所述的弧度R>0。
所述的短邊M也可帶有弧度r, 弧度r=弧度R。
所述的弧度r>R。
所述的弧度r<R。
所述的短邊M的水平夾角為A,水平夾角為0°<A<90°。
所述的線圈槽的寬度D與線圈骨架的高度H均恒定不變。
所述的水平夾角為A與線圈骨架的高度H均恒定不變。
本發(fā)明的有益效果是:
與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明利用跑道直線段上結(jié)構(gòu)R的設計,可以使得線圈繞制中張力施加更加有效和均勻,保證線圈的成型。利用線圈繞線寬度D(A)、H在整個骨架上截面形狀的一致性,使得線材在繞制過程中,尤其在線圈彎角處不易散亂,從而保證整個線圈的成型效果。對于此類線圈繞制,本發(fā)明解決了以下技術問題:
1)避免或者解決了預緊力的施加和施加的均勻性問題。
2)避免或者解決了線圈彎角繞線時線型的散亂問題。
3)控制線圈整個成型結(jié)構(gòu)效果,從而保證磁場設計要求。
本發(fā)明通過結(jié)構(gòu)尺寸的合理設計,使得線圈繞線過程中張力的施加,施加張力的控制,繞線的線型規(guī)整性控制方面得到很好的提升。具有結(jié)構(gòu)簡單、實用、成本低,操作方便,易于加工制造,通用性強的特點。
附圖說明
圖1是本發(fā)明線圈骨架圖例1主視示意圖。
圖2是本發(fā)明線圈骨架例1俯視示意圖。
圖3是本發(fā)明實施例2的主視圖。
圖4是本發(fā)明實施例2的左視圖。
圖5是本發(fā)明實施例2的俯視圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本發(fā)明進行詳細說明。
參見圖1、2所示,一種用于線圈繞制的骨架,其特征在于,包括形狀為跑道型或類似跑道型的繞線骨架1,繞線骨架1的長邊L帶有弧度R,短邊為M;繞線骨架1的四周設有線圈槽2。所述的弧度R>0。所述的短邊M也可帶有弧度r, 弧度r=弧度R。所述的弧度r>R。所述的弧度r<R。
參見圖3、4、5,當線圈骨架1為非圖3、4、5所述的類似于跑道型的形狀時,所述的短邊M的水平夾角為A,水平夾角為0°<A<90°。所述的線圈槽2的寬度D與線圈骨架的高度H均恒定不變。所述的水平夾角為A與線圈骨架的高度H均恒定不變。圖3、4、5所述的線圈骨架中未畫出線圈槽2的結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明對于無論是低溫超導磁體,高溫超導磁體,還是普通電機線圈的繞制,均適用,即所有線圈繞制的骨架均適用。
所述的線圈骨架的直線段帶弧度R,尤其是長邊L上,短邊M可帶弧度;R大小與電磁設計和結(jié)構(gòu)設計均有關系。
整個繞線骨架,其繞線尺寸D與H是橫定的,A與H是橫定的,寬度D、H所在的截面也可以是其它形狀,甚至異形,例如圖4中的A,H,但是繞線槽的所有截面尺寸與寬度D與H、A與H所在的截面尺寸保持一致,如果是其它結(jié)構(gòu)或者電磁設計需要,寬度D與H或者A與H所在的截面尺寸,可在整個跑道的某一個或者多個位置進行調(diào)整。
超導線圈繞到線圈骨架上,當繞到四個圓弧角處,線材張力可以有效的施加,當繞到長邊或者短邊時,由于長邊或短邊的直線結(jié)構(gòu)限制,不能有效的施加繞線張力,當將長邊的直線部分設計為弧形R時,線材張力可以有效的施加,保證了線圈的成型。
另外,對于繞線槽結(jié)構(gòu)尺寸,當繞線到四個彎角時,若繞線槽彎角結(jié)構(gòu)尺寸的設計與直邊結(jié)構(gòu)尺寸設計有差異,線材排列在不同結(jié)構(gòu)尺寸位置不一致,導致線材容易散亂,不易矯形,從而影響磁場設計。所以在設計繞線槽結(jié)構(gòu)尺寸時,在考慮磁場要求情況下,使得繞線槽在整個骨架上截面結(jié)構(gòu)一致,參見圖1中D、H形成的截面結(jié)構(gòu),參見圖4中A、H形成的截面結(jié)構(gòu),或者局部有較小的區(qū)別,從而保證繞線排列分布的形狀規(guī)整。
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