[發明專利]一種碲鎘汞薄膜組分的測試方法

有效

• 申請號: 201710647279.6
• 申請日: 2017-08-01
• 公開（公告）號: CN107576629B
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發明（設計）人: 許秀娟;高達;折偉林;王經緯
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第十一研究所
• 主分類號: G01N21/3563
• 分類號: G01N21/3563
• 代理公司: 工業和信息化部電子專利中心 11010
• 代理人: 田衛平

1.一種碲鎘汞薄膜組分的測試方法，其特征在于，包括：

將待處理的碲鎘汞薄膜固定在樣品臺上，將所述樣品臺放入紅外光譜儀的樣品腔室中；

對所述樣品腔室抽真空至第一預設氣壓，對所述紅外光譜儀抽真空至第二預設氣壓，再將所述樣品腔室溫度降至預定溫度；

啟動所述紅外光譜儀，按照預定調節范圍調節所述紅外光譜儀的預定參數，并按照調節后的預定參數對所述待處理的碲鎘汞薄膜進行光致發光測試，得到光譜圖，以根據所述光譜圖對所述待處理的碲鎘汞薄膜組分進行分析；

所述按照預定調節范圍調節所述紅外光譜儀的預定參數，包括：

將激光功率調至80mW至100mW中的任一值；

將光闌按鈕調節至檔位3、檔位5或檔位6；

將測量模式設置為時間分辨步進掃描，其中，所述時間分辨步進掃描的時間分辨率設為50ms；

將時間片數調至10至30中的任一值；

將一次掃描的累計次數調至100次至300次中的任一值；

將光譜波數的分辨率設置為16cm^-1或32cm^-1；

所述根據所述光譜圖對所述待處理的碲鎘汞薄膜組分進行分析，包括：

解析所述光譜圖，得到多個峰值；

將所有峰值對應的波長依次代入第一預定公式得到各個所述峰值對應的波長對應的禁帶寬度Eg值；

將多個所述Eg值分別代入第二預定公式進行計算，以得到所述碲鎘汞薄膜的組分；

所述第一預定公式為Eg=hc/λ；

所述第二預定公式為Eg=-0.302+1.93x+5.35×10^-4T(1-2x)-0.81x²+0.832x³，其中，T為所述預定溫度，λ為所述峰值對應的波長，h為普朗克常數，x為待測組分，c為光速。

2.如權利要求1所述的測試方法，其特征在于，將待處理的碲鎘汞薄膜固定在樣品臺上之前，還包括：

將預定表面積的碲鎘汞薄膜放入預定濃度的溴甲醇溶液中腐蝕至預定厚度，以將腐蝕后的碲鎘汞薄膜作為所述待處理的碲鎘汞薄膜。

3.如權利要求2所述的測試方法，其特征在于，所述預定濃度為0.5%。

4.如權利要求2所述的測試方法，其特征在于，所述預定表面積的范圍是12mm×12mm至25mm×30mm。

5.如權利要求2所述的測試方法，其特征在于，將預定表面積的碲鎘汞薄膜放入預定濃度的溴甲醇溶液中腐蝕至預定厚度之后，還包括：

用預定洗液清洗所述碲鎘汞薄膜表面。

6.如權利要求5所述的測試方法，其特征在于，用預定洗液清洗所述碲鎘汞薄膜表面之后，還包括：

按照預定角度用高純氮氣槍沿所述碲鎘汞薄膜邊緣吹氣，其中，所述預定角度為所述高純氮氣槍出氣方向與所述碲鎘汞薄膜表面成30度至45度的角度。

7.如權利要求1至6中任一項所述的測試方法，其特征在于，所述預定溫度為77K。