[發明專利]錐形多孔性拋光墊

有效

• 申請號: 201710645534.3
• 申請日: 2017-08-01
• 公開（公告）號: CN107685295B
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發明（設計）人: 吉田光一;宮本一隆;川端克昌;H·桑福德-克瑞;H·B·黃;G·C·雅各布;羅水源
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料CMP控股股份有限公司
• 主分類號: B24D11/00
• 分類號: B24D11/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳哲鋒;胡嘉倩

1.一種多孔聚氨基甲酸酯拋光墊，其包括：

具有從基底表面向上延伸并且對拋光表面開放的大孔隙的多孔聚氨基甲酸酯基質，所述大孔隙與小孔隙互連；一部分所述大孔隙對頂部拋光表面開放；所述大孔隙延伸到具有垂直定向的所述拋光表面；和

一系列由包含所述大孔隙和所述小孔隙的所述多孔聚氨基甲酸酯基質形成的枕塊結構；所述枕塊結構具有從所述頂部拋光表面向下的表面以便形成從所述拋光表面成30到60度角度向下傾斜的側壁，所述向下傾斜的側壁從所述枕塊結構的所有側面延伸，一部分所述大孔隙對所述向下傾斜的側壁開放，對所述向下傾斜的側壁開放的所述大孔隙比對所述頂部拋光表面開放的所述大孔隙垂直度更小，并且在與所述向下傾斜的側壁更正交的方向上從垂直方向抵消10到60度，其中所述垂直方向與所述拋光表面正交。

2.根據權利要求1所述的多孔聚氨基甲酸酯拋光墊，其中如從所述拋光表面通向所述向下傾斜的側壁所測量，所述向下傾斜的側壁具有5到30度的初始錐度區間。

3.根據權利要求1所述的多孔聚氨基甲酸酯拋光墊，其中所述向下傾斜的側面終止于聚氨基甲酸酯基質的水平凹槽底部，所述凹槽底部具有小于所述枕塊結構的孔隙率。

4.根據權利要求1所述的多孔聚氨基甲酸酯拋光墊，其中互連側孔隙具有足以使得去離子水可在垂直孔隙之間流動的平均直徑。

5.根據權利要求1所述的多孔聚氨基甲酸酯拋光墊，其中所述枕塊形成柵格圖案。

6.一種多孔聚氨基甲酸酯拋光墊，其包括：

具有從基底表面向上延伸并且對拋光表面開放的大孔隙的多孔聚氨基甲酸酯基質，所述大孔隙與小孔隙互連；一部分所述大孔隙對頂部拋光表面開放；所述大孔隙延伸到具有垂直定向的所述拋光表面，并且所述多孔聚氨基甲酸酯基質是熱塑性塑料；和

一系列由包含所述大孔隙和所述小孔隙的所述多孔聚氨基甲酸酯基質形成的枕塊結構；所述枕塊結構具有從所述頂部拋光表面向下的表面以便形成從所述拋光表面成30到60度角度向下傾斜的側壁，所述向下傾斜的側壁從所述枕塊結構的所有側面延伸，一部分所述大孔隙對所述向下傾斜的側壁開放，對所述向下傾斜的側壁開放的所述大孔隙比對所述頂部拋光表面開放的所述大孔隙垂直度更小，并且在與所述向下傾斜的側壁更正交的方向上從垂直方向抵消10到60度，其中所述垂直方向與所述拋光表面正交。

7.根據權利要求6所述的多孔聚氨基甲酸酯拋光墊，其中如從所述拋光表面通向所述向下傾斜的側壁所測量，所述向下傾斜的側壁具有5到30度的初始錐度區間。

8.根據權利要求6所述的多孔聚氨基甲酸酯拋光墊，其中所述向下傾斜的側面終止于經壓縮的聚氨基甲酸酯基質的水平凹槽底部，所述凹槽底部是光滑的并且不具有開放垂直或小孔隙。

9.根據權利要求6所述的多孔聚氨基甲酸酯拋光墊，其中互連側孔隙具有足以使得去離子水可在垂直孔隙之間流動的平均直徑。

10.根據權利要求6所述的多孔聚氨基甲酸酯拋光墊，其中所述枕塊形成X-Y柵格圖案。