[發明專利]聚合物包覆的鈣鈦礦量子點及其制備方法在審
| 申請號: | 201710631645.9 | 申請日: | 2017-07-28 |
| 公開(公告)號: | CN109306265A | 公開(公告)日: | 2019-02-05 |
| 發明(設計)人: | 鄧承雨;楊一行;錢磊;謝相偉 | 申請(專利權)人: | TCL集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C09K11/02 | 分類號: | C09K11/02;C09K11/66;C09K11/06;C08F120/60;C08F2/50;C08G73/04 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標事務所 44237 | 代理人: | 黃志云 |
| 地址: | 516006 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鈣鈦礦 量子點 聚合物包覆 聚合物單體 量子點溶液 制備 不飽和聚合物單體 反應生成聚合物 水蒸氣 氨基 量子點表面 光引發劑 紫外照射 包覆的 類配體 硫羧酸 配體 溶劑 | ||
1.一種聚合物包覆的鈣鈦礦量子點的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供鈣鈦礦量子點,將所述鈣鈦礦量子點分散在溶劑中形成鈣鈦礦量子點溶液,其中,所述鈣鈦礦量子點表面的配體包括硫羧酸類配體;
在所述鈣鈦礦量子點溶液中加入聚合物單體和光引發劑,在紫外照射條件下,硫羧酸類配體中巰基取代的碳原子形成自由基并使聚合物單體發生光聚合,制備得到聚合物包覆的鈣鈦礦量子點,其中,所述聚合物單體為含有氨基的不飽和聚合物單體。
2.如權利要求1所述的聚合物包覆的鈣鈦礦量子點的制備方法,其特征在于,所述紫外照射條件下制備聚合物包覆的鈣鈦礦量子點的步驟中,制備環境中的水蒸氣的體積分數低于30%。
3.如權利要求1所述的聚合物包覆的鈣鈦礦量子點的制備方法,其特征在于,所述鈣鈦礦量子點與所述聚合物單體的用量比為20~50g:1L。
4.如權利要求1所述的聚合物包覆的鈣鈦礦量子點的制備方法,其特征在于,所述聚合物單體為N-(3-二甲氨基丙基)甲基丙烯酰胺、4-氨基苯乙烯、4-二甲基氨基苯乙烯、乙烯亞胺、α-氨基丙烯酸、a-乙酰氨基丙烯酸和丙烯酸二甲氨基乙酯中的至少一種。
5.如權利要求1-4任一項所述的聚合物包覆的鈣鈦礦量子點的制備方法,其特征在于,所述光引發劑為苯偶姻及其衍生物、苯偶酰類化合物、烷基苯酮類化合物和硫雜蒽酮類化合物中的至少一種。
6.如權利要求5所述的聚合物包覆的鈣鈦礦量子點的制備方法,其特征在于,所述光引發劑為二苯甲酮、2,4-二羥基二苯甲酮、米蚩酮中的至少一種。
7.如權利要求1-4任一項所述的聚合物包覆的鈣鈦礦量子點的制備方法,其特征在于,所述紫外照射條件為:紫外光光強度為1~10mw/cm2,光照時間為0.2~2小時。
8.如權利要求1-4任一項所述的聚合物包覆的鈣鈦礦量子點的制備方法,其特征在于,所述鈣鈦礦量子點溶液中的溶劑為苯、四氯化碳、正己烷、異辛烷、甲苯、二氯甲烷、二苯醚、氯仿、二氯乙烷、二硫化碳、環己烷、己烷、石油醚中的至少一種。
9.如權利要求1-4任一項所述的聚合物包覆的鈣鈦礦量子點的制備方法,其特征在于,所述鈣鈦礦量子點和所述光引發劑的用量比為80-250g:1mol。
10.一種聚合物包覆的鈣鈦礦量子點,其特征在于,所述鈣鈦礦量子點包覆有聚合物外層,所述聚合物外層的聚合物為含氨基的聚合物。
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