[發明專利]一種馬弗爐中引流板的加熱裝置及其控制方法

有效

• 申請號: 201710625713.0
• 申請日: 2017-07-27
• 公開（公告）號: CN107445458B
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: 陸兵兵;李文軍
• 申請（專利權）人: 彩虹(合肥)液晶玻璃有限公司
• 主分類號: C03B17/06
• 分類號: C03B17/06
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 李宏德

本發明公開了一種馬弗爐中引流板的加熱裝置及其控制方法。該裝置包括設置在馬弗爐內的均熱罩、引流板、兩個加熱器和設置在馬弗爐上的水平調整機構；引流板設置在均熱罩內；兩個加熱器位于馬弗爐與成型區的交界處，分別設置在均熱罩的側壁上并與均熱罩的側壁密封接觸，兩個加熱器對稱布置在引流板兩側；水平調整機構用于調整加熱器的水平插入深度。通過設計制作一種可插入式加熱器來替代原成型區上部合板機構，并通過調節其插入深度以及功率(或電流)來達到提升引流板溫度的目的，從而抑制熔融玻璃液在引流板上析晶，使玻璃基板成型品質的穩定性與一致性得到進一步提升，并在很大程度上延長了馬弗爐的使用壽命。

技術領域

本發明屬于溢流下拉法平板玻璃制造領域，具體為一種馬弗爐中引流板的加熱裝置及其控制方法。

背景技術

溢流下拉法是液晶玻璃基板生產的主要方法之一，該法是將粘度適當的熔融玻璃液送入溢流槽內，由于溢流槽的兩個端頭設有稍高于溢流槽的鉑金擋板裝置，當溢流槽盛滿后，玻璃液會沿著溢流槽兩側溢流至傾斜壁面，并在引流板的引導下，兩股玻璃液合并形成玻璃板根，通過下方牽引機構的向下拉引，形成單片玻璃薄帶。該法的突出優點是玻璃表面不與任何材料接觸，因此具有很好的平整度與光滑性，可免除研磨或拋光等后續加工工藝。

從熱力學角度來看，玻璃的熱力學能高于同成分晶體的熱力學能，因此玻璃熔融體的冷卻必然會導致析晶。理論上，在到達成型溫度之前的冷卻過程中以及在成型溫度區域中均有析晶的危險。就液晶玻璃基板生產而言，析晶產生的位置不同對產品品質的影響也不同，若引流板上產生析晶，就會對玻璃液的流動形成阻礙作用，導致料流不均勻，甚至還會改變玻璃液原本流動路徑，形成支流，嚴重影響成型玻璃基板的品質。

為了克服成型過程中發生析晶，成型工作點溫度(一般用T_W表示，是玻璃液能夠供給成型時的溫度)必須大于玻璃液相線溫度(一般用T₁表示，是以部分析晶樣品中析出晶體熔融消失的方法來測定，通常析晶上限溫度比液相線溫度低10～20℃)，即；ΔT＝T_W-T₁＞0℃。ΔT越大，越不易析晶，ΔT越小，越易發生析晶，因此一定要在液相線溫度之上進行成型。也就是說，抑制熔融玻璃液在引流板上析晶的一個主要方法就是提升引流板溫度。

在現有技術中，一般通過增大馬弗爐相應位置加熱器的功率或增大成型區上部合板機構的插入深度(使引流板所在區域的密閉性更好，增強保溫效果)來提升引流板溫度，以抑制析晶。但以上兩種方法均存在各自的局限性。首先，馬弗爐加熱器距離引流板相對較遠，熱輻射距離較大，熱輻射效率較低，對引流板溫度的提升作用有限。其次，考慮到成型區上部合板機構的插入深度越大，粘料風險就越高。實際生產中，合板的插入深度必須保證其與從引流板流下的熔融玻璃液有一定的安全距離，因此也就降低了合板機構對引流板所在區域的保溫效果，導致引流板溫度難以進一步提升。

綜上所述，現有技術對引流板溫度提升手段有限，并且不能很好的抑制析晶。

發明內容

針對現有技術中存在的問題，本發明提供一種馬弗爐中引流板的加熱裝置及其控制方法。通過設計制作一種可插入式加熱器來替代原成型區上部合板機構，并通過調節其插入深度以及功率(或電流)來達到提升引流板溫度的目的，從而抑制熔融玻璃液在引流板上析晶。

本發明是通過以下技術方案來實現：

一種馬弗爐中引流板的加熱裝置，包括設置在馬弗爐內的均熱罩、引流板、兩個加熱器和設置在馬弗爐上的水平調整機構；引流板設置在均熱罩內；兩個加熱器位于馬弗爐與成型區的交界處，分別設置在均熱罩的側壁上并與均熱罩的側壁密封接觸，兩個加熱器對稱布置在引流板兩側；水平調整機構用于調整加熱器的水平插入深度。

優選的，均熱罩由碳化硅均熱板制成。

優選的，加熱器包括爐盤與加熱元件，爐盤上刻有若干道凹槽，加熱元件設置在凹槽內，加熱元件的放置高度不大于爐盤上凹槽的深度。