[發(fā)明專利]基于局部線性化的復(fù)雜機(jī)器學(xué)習(xí)模型解釋方法及裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710620391.0
• 申請(qǐng)日: 2017-07-26
• 公開（公告）號(hào): CN107392318A
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭樂;胡偉;李勇;王春明;徐遐齡
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 清華大學(xué);國家電網(wǎng)公司華中分部;國家電網(wǎng)公司
• 主分類號(hào): G06N7/00
• 分類號(hào): G06N7/00
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11201
• 代理人: 張潤

1.一種基于局部線性化的復(fù)雜機(jī)器學(xué)習(xí)模型解釋方法，其特征在于，包括以下步驟：

采集樣本集中任意一點(diǎn)作為樣本點(diǎn)，并在所述樣本點(diǎn)周圍隨機(jī)采樣得到多個(gè)采樣點(diǎn)，且根據(jù)原機(jī)器學(xué)習(xí)模型得到所述多個(gè)采樣點(diǎn)的每個(gè)采樣點(diǎn)的機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)測結(jié)果；

在表達(dá)空間中，獲取所述樣本點(diǎn)與所述每個(gè)采樣點(diǎn)間的歐拉距離，以作為所述每個(gè)采樣點(diǎn)的權(quán)重；

根據(jù)所述每個(gè)采樣點(diǎn)的權(quán)重和線性模型得到待解釋的機(jī)器學(xué)習(xí)模型和解釋函數(shù)的擬合結(jié)果的差距，并得到所述解釋函數(shù)的復(fù)雜度，以獲取尋優(yōu)問題；以及

優(yōu)化求解所述尋優(yōu)問題中使用正則化項(xiàng)懲罰因子的線性回歸問題，并得到解釋結(jié)果。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于局部線性化的復(fù)雜機(jī)器學(xué)習(xí)模型解釋方法，其特征在于，所述每個(gè)采樣點(diǎn)的權(quán)重為：

Ψk=exp(-d(xi,xi(k))2σ2),]]>

其中，x_i為所述樣本點(diǎn)，為所述多個(gè)采樣點(diǎn)，σ為所有距離的標(biāo)準(zhǔn)差。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于局部線性化的復(fù)雜機(jī)器學(xué)習(xí)模型解釋方法，其特征在于，所述擬合結(jié)果的差距為：

Γ(f,g)=ΣkΨk·(f(xi(k))-g(xi(k)))2=ΣkΨk·(f(xi(k))-Σjβjxi,j(k))2,]]>

其中，f為所述待解釋的機(jī)器學(xué)習(xí)模型，g為所述解釋函數(shù)，Γ為所述擬合結(jié)果的差距；

所述解釋函數(shù)的復(fù)雜度為：

Ω(g)=Σj|βj|,]]>

其中，Ω為所述復(fù)雜度。