[發(fā)明專利]基板及其制備方法、顯示面板、顯示裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710620129.6
• 申請(qǐng)日: 2017-07-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107424520A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-12-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張震
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G09F9/30
• 分類號(hào): G09F9/30
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所11105
• 代理人: 彭久云

1.一種基板，包括：

襯底基板，所述襯底基板包括彎折區(qū)；

設(shè)置于所述襯底基板上的絕緣層；

其中，位于所述彎折區(qū)的絕緣層設(shè)置有至少一個(gè)凹槽，所述凹槽的表面包括至少一個(gè)凹凸結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，還包括至少部分設(shè)置于所述凹槽中的信號(hào)線，其中，所述信號(hào)線覆蓋至少部分所述凹凸結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板，其中，

位于所述凹槽中的所述信號(hào)線表面包括對(duì)應(yīng)于所述凹凸結(jié)構(gòu)的非平坦部分。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板，其中，

所述絕緣層包括第一絕緣層，所述第一絕緣層至少覆蓋所述彎折區(qū)；以及

所述凹槽包括設(shè)置于所述第一絕緣層中的第一凹槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板，其中

所述第一凹槽包括沿所述第一凹槽的延伸方向且相對(duì)設(shè)置的第一側(cè)面和第二側(cè)面，所述第一側(cè)面和所述第二側(cè)面中的至少一個(gè)為斜面、階梯面和弧形面中的一種或組合。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板，其中，

所述絕緣層還包括至少覆蓋所述第一凹槽的第二絕緣層，所述第二絕緣層位于所述信號(hào)線和所述第一絕緣層之間；以及所述凹槽包括位于與所述第一凹槽對(duì)應(yīng)的所述第二絕緣層中的第二凹槽。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板，其中，

所述第二絕緣層包括聚酰亞胺和光刻膠中的至少一種。

8.一種顯示面板，包括權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的基板。

9.一種顯示裝置，包括權(quán)利要求8所述的顯示面板。

10.一種基板的制備方法，包括：

提供襯底基板；

在所述襯底基板上形成絕緣層，所述襯底基板包括彎折區(qū)；

在所述彎折區(qū)中的所述絕緣層中形成至少一個(gè)凹槽；

其中，所述凹槽的表面形成有至少一個(gè)凹凸結(jié)構(gòu)。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法，還包括：

在形成有所述絕緣層的襯底基板上形成信號(hào)線，所述信號(hào)線至少部分位于所述凹槽中。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制備方法，其中，形成所述絕緣層并且在所述絕緣層中形成所述凹槽包括：

在所述襯底基板上形成第一絕緣層，所述第一絕緣層至少覆蓋所述彎折區(qū)；

在所述彎折區(qū)中的所述第一絕緣層中形成第一凹槽。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制備方法，其中，在所述凹槽的表面形成所述凹凸結(jié)構(gòu)包括：

對(duì)所述第一絕緣層的形成有第一凹槽的區(qū)域進(jìn)行不均勻刻蝕處理，以在所述第一凹槽的表面形成多個(gè)凹凸結(jié)構(gòu)。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制備方法，其中，形成所述絕緣層并且在所述絕緣層中形成所述凹槽還包括：

在形成有所述第一絕緣層的所述襯底基板上形成第二絕緣層，所述第二絕緣層至少覆蓋所述第一凹槽，所述第二絕緣層位于所述信號(hào)線和所述第一絕緣層之間；

在與所述第一凹槽對(duì)應(yīng)的所述第二絕緣層中形成第二凹槽。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制備方法，其中，所述第二絕緣層為光刻膠，在所述凹槽的表面形成所述凹凸結(jié)構(gòu)包括：

在所述第一凹槽中的所述第一絕緣層上涂覆所述光刻膠；

提供透光率分布不均勻的灰色掩膜板，通過(guò)所述灰色掩膜板對(duì)所述第二凹槽中的所述光刻膠的表面進(jìn)行曝光，去除所述光刻膠的被曝光的部分。