[發明專利]基板處理方法以及基板處理裝置

有效

• 申請號: 201710618997.0
• 申請日: 2017-07-26
• 公開（公告）號: CN107658242B
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 三浦淳靖;藤田和宏;辻川裕貴;土橋裕也;竹本憲司
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 宋曉寶;向勇

本發明涉及基板處理方法及裝置，基板處理方法由基板處理裝置執行，裝置包括：回收杯，劃分出引導使用過的藥液的回收空間，回收配管，回收引導至回收空間的藥液，排液配管，排出液體，切換單元，將液體在回收配管和排液配管間切換，方法包括：藥液供給工序，向基板供給藥液；經過期間測量工序，測量結束后經過期間；回收工序，在開始執行藥液供給工序的情況下，在結束后經過期間小于第一期間時，將切換單元控制為，將液體向回收配管引導的回收導出狀態；排液工序，在開始執行藥液供給工序的情況下，在結束后經過期間為第一期間以上時，將切換單元控制為，將液體向排液配管引導的排液導出狀態，并根據排液結束條件的成立，切換到回收導出狀態。

技術領域

本發明涉及一種基板處理方法以及基板處理裝置。作為處理對象的基板，例如包括半導體晶片、液晶顯示裝置用基板、等離子顯示器用基板、FED(Field EmissionDisplay，場致發射顯示器)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太陽能電池用基板等。

背景技術

在日本特開2011－61034號公報中公開了逐張地處理基板的單張式的基板處理裝置。基板處理裝置的處理單元包括：旋轉卡盤，將基板保持為水平來使該基板旋轉；藥液噴嘴，朝向保持于旋轉卡盤的基板的上表面噴出藥液；筒狀的回收杯，包圍旋轉卡盤。在回收杯，劃分有用于引導處理基板所使用過的藥液的回收空間。

另外，為了降低藥液的消耗量，處理單元能夠將在基板的處理中使用后的藥液回收，將該回收的藥液再次利用于之后的處理中。具體地說，基板處理裝置還包括：藥液罐，貯存向藥液噴嘴供給的藥液；回收配管，從回收空間向藥液罐引導藥液。

在基板處理裝置的處理單元中，有時存在長時間不進行藥液處理(停止狀態)的情況。此時，隨著在前次的藥液處理之后長時間放置回收空間，殘留于回收杯的回收空間的藥液可能發生變質。此時，若在長期停止之后從藥液噴嘴向基板重新進行藥液供給，則殘留于回收空間的變質的藥液(下面，稱為“變質藥液”)，混入在回收空間流動的藥液中，由此，含有變質藥液的藥液可能供給至藥液罐，結果，可能將含有變質藥液的藥液向基板供給。

為了防止在長期停止之后重新進行藥液供給時，含有變質藥液的藥液供給至基板的情況，考慮將在回收空間流動的藥液，在預先設定的期間排出。

為了實現排出藥液，具體地說，使處理單元還具有：排液配管，用于將來自回收空間的液體排出(例如廢棄)，切換單元，將在所述回收空間流動的液體的流動目的地，在所述回收配管和所述排液配管之間進行切換；且，在規定了處理單元的處理條件的方法中指示：在長期停止后重新進行藥液供給時，將引導至所述回收空間的液體排出。若將這樣的指示規定于方法中，則處理單元進行將引導至回收空間的液體向所述排液配管引導這樣的排液動作。

但是，為了根據方法中的指示進行這樣的排液動作，對重新進行藥液供給之后的一批(例如大約25張)的所有基板的處理中，進行排液動作。結構，存在使藥液的消耗量增加的問題。

發明內容

因此，本發明的目的在于，提供一種基板處理方法以及基板處理裝置，能夠利用不含有變質藥液的藥液處理基板，且能夠進一步降低藥液的消耗量。