[發(fā)明專利]氣體純化設備和氣體純化方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710615273.0
• 申請日: 2014-02-26
• 公開（公告）號: CN107321178B
• 公開（公告）日: 2021-03-02
• 發(fā)明（設計）人: 加藤雄大;中村健太郎
• 申請（專利權）人: 三菱重工工程株式會社
• 主分類號: B01D53/86
• 分類號: B01D53/86;B01D53/48;B01D53/52;C10K1/34
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王旭

1.一種配置為純化至少包含COS、H₂O、CO₂和H₂S的氣體的氣體純化設備，所述設備包括：

COS處理裝置，所述COS處理裝置包括COS轉(zhuǎn)化催化劑并且配置為通過水解來分解在所述氣體中的COS；和

H₂O調(diào)節(jié)工具，所述H₂O調(diào)節(jié)工具配置為調(diào)節(jié)待引入到所述COS處理裝置中的所述氣體中的H₂O的濃度；

在所述氣體的流動方向上的至少兩個水洗裝置，所述至少兩個水洗裝置配置為用水處理從所述COS處理裝置排出的氣體；和

至少兩個廢水處理裝置，所述至少兩個廢水處理裝置中的每一個與所述至少兩個水洗裝置中的每一個布置在一起，所述至少兩個廢水處理裝置配置為處理從至少兩個水洗裝置排出的廢水；

其中所述H₂O調(diào)節(jié)工具配置為將來自所述廢水處理裝置中的一個的水與待引入到所述COS處理裝置中的氣體混合，所述廢水處理裝置中的一個與在氣體流動的后面位置處安排的所述水洗裝置布置在一起，并且

其中所述H₂O調(diào)節(jié)工具是配置為調(diào)節(jié)H₂O的濃度以使得由下式(1)表示的壓力平衡常數(shù)K_P為1≤K_P≤20的工具：

K_P＝(P_H2S×P_CO2)/(P_COS×P_H2O) (1)

其中P_COS是在所述氣體中COS的分壓，P_H2O是在所述氣體中H₂O的分壓，P_CO2是在所述氣體中CO₂的分壓，且P_H2S是在所述氣體中H₂S的分壓。

2.一種用于純化至少包含COS、H₂O、CO₂和H₂S的氣體的氣體純化方法，所述方法包括：

調(diào)節(jié)在待引入到COS處理裝置中的所述氣體中的H₂O的濃度的H₂O調(diào)節(jié)步驟；

通過使用COS轉(zhuǎn)化催化劑由水解來分解H₂O的濃度已經(jīng)調(diào)節(jié)過的所述氣體中的COS的COS處理步驟；

在所述氣體的流動方向上的至少兩個水洗步驟，所述至少兩個水洗步驟用于處理從所述COS處理步驟排出的氣體；和

至少兩個廢水處理步驟，所述至少兩個廢水處理步驟中的每一個伴隨所述至少兩個水洗步驟中的每一個，所述至少兩個廢水處理步驟用于處理從至少兩個水洗步驟排出的廢水；

其中所述H₂O調(diào)節(jié)步驟用于將來自所述廢水處理步驟中的一個的水與待引入到所述COS處理步驟中的氣體混合，所述廢水處理步驟中的一個與在氣體流動的后面位置處安排的所述水洗步驟布置在一起，并且

其中所述H₂O調(diào)節(jié)步驟是調(diào)節(jié)H₂O的濃度以使得由下式(1)表示的壓力平衡常數(shù)K_P為1≤K_P≤20的步驟：

K_P＝(P_H2S×P_CO2)/(P_COS×P_H2O) (1)

其中P_COS是在所述氣體中COS的分壓，P_H2O是在所述氣體中H₂O的分壓，P_CO2是在所述氣體中CO₂的分壓，且P_H2S是在所述氣體中H₂S的分壓。