[發(fā)明專利]熱處理設(shè)備和熱處理方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710615057.6
• 申請日: 2017-07-25
• 公開（公告）號: CN107658226B
• 公開（公告）日: 2023-07-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 沈亨基;金泰俊;崔東奎;張民奎
• 申請（專利權(quán)）人: AP系統(tǒng)股份有限公司
• 主分類號: H01L21/324
• 分類號: H01L21/324
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 楊文娟;臧建明

本發(fā)明提供一種熱處理設(shè)備以及熱處理方法，熱處理設(shè)備用于通過用光照射襯底來熱處理襯底。熱處理設(shè)備包含：臺，襯底安放于臺上；以及氣體噴射模塊，其被安置為面對臺，且具備經(jīng)配置以在臺安置的方向上導(dǎo)引光的氣室以及安置于氣室的一個側(cè)面中以將氣體供應(yīng)到氣室的第一氣體供應(yīng)源。第一氣體供應(yīng)源包含通路部件，通路部件安裝于氣體移動到氣室所沿著的路徑上且經(jīng)配置以過濾和擴散氣體以將氣體供應(yīng)到氣室。制程期間由于惰性氣體在通過通路部件的同時被過濾，因此朝向襯底噴射不具有不純粒子的惰性氣體，且因此可以防止襯底或薄膜由于惰性氣體而帶來的污染。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及熱處理(heat?treatment)設(shè)備和熱處理方法，且更具體地說涉及能夠防止襯底被污染的熱處理設(shè)備和熱處理方法。

背景技術(shù)

當(dāng)制造液晶顯示裝置和光伏裝置時，涉及用于使非晶形多晶薄膜(例如，非晶形多晶硅薄膜)結(jié)晶的熱處理過程。此處，當(dāng)玻璃被用作襯底時，非晶形多晶薄膜可以通過使用激光來結(jié)晶。然而，當(dāng)非晶形多晶薄膜與氧氣(O₂)反應(yīng)時，非晶形多晶薄膜可能被氧化而變?yōu)檠趸锉∧ぁ?/p>

圖1是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的激光熱處理設(shè)備的示意圖。參考圖1，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的激光熱處理設(shè)備包含：具有空間的處理腔室10，襯底1在所述空間中被處理；透射窗口(transmission?window)40，其安置于處理腔室10的上部部分上以允許激光透射通過；以及光源30，其在處理腔室10外部安置于透射窗口40上方以輸出激光8。根據(jù)所述激光熱處理設(shè)備，從光源30輸出的激光8透射通過透射窗口40，并且然后發(fā)射到水平地移動的襯底1上。

如果當(dāng)沉積在襯底1的頂部表面上的多晶薄膜11結(jié)晶時，被激光8照射的襯底1的頂部區(qū)域暴露于氧氣，那么所述多晶薄膜可能不會變成結(jié)晶硅，而是被氧化。

為此目的，應(yīng)用一種熱處理設(shè)備，其能夠在惰性氣體氣氛(inert?gasatmosphere)中以激光照射襯底1的頂部區(qū)域。所述熱處理設(shè)備包含朝向襯底噴射惰性氣體的氣體供應(yīng)源。此處，所述氣體供應(yīng)源包含氣體噴射主體，其具有：空的空間，即激光和惰性氣體通過的腔室；儲槽(tank)，其安裝于所述氣體噴射主體內(nèi)且臨時存儲和容納惰性氣體；以及噴嘴(nozzle)，其在所述主體內(nèi)將所述儲槽連接到所述腔室且將儲槽內(nèi)的惰性氣體噴射到所述腔室。并且，在氣體噴射主體的下端部分處提供狹縫(slit)，激光和惰性氣體通過所述狹縫朝向襯底排出。

因此，當(dāng)以從光源發(fā)射的激光照射安置于襯底上的多晶薄膜時，惰性氣體可從氣體噴射部分朝向襯底供應(yīng)以在襯底的表面上產(chǎn)生惰性氣氛。

并且，在所述制程期間，或者在所述過程之后和之前，可能將不純的粒子引入到提供于氣體噴射主體中的儲槽中，或者可能將含有不純粒子的氣體引入到儲槽中。然而，由于被污染的儲槽內(nèi)的惰性氣體實際上移動到噴嘴并且然后噴射到襯底，因此襯底可能被惰性氣體的不純粒子污染。

[相關(guān)技術(shù)文獻(xiàn)]

[專利文獻(xiàn)]

(專利文獻(xiàn)1)第2002-93738號日本專利公開案

發(fā)明內(nèi)容

本公開提供一種熱處理設(shè)備和熱處理方法，其能夠防止襯底被污染。

本公開還提供一種熱處理設(shè)備和熱處理方法，其能夠在制程期間或當(dāng)在過程完成之后襯底移動時防止襯底被污染。

根據(jù)示范性實施例，一種用于通過用光照射襯底來熱處理所述襯底的熱處理設(shè)備包含：臺，所述襯底安放于所述臺上；以及氣體噴射模塊，其被安置為面對所述臺，所述氣體噴射模塊包含經(jīng)配置以在所述臺安置的方向上導(dǎo)引所述光的氣室以及安置于所述氣室的一個側(cè)面中以將氣體供應(yīng)到所述氣室的第一氣體供應(yīng)源，其中所述第一氣體供應(yīng)源包含通路部件，所述通路部件安裝于所述氣體移動到所述氣室所沿著的路徑上且經(jīng)配置以過濾和擴散所述氣體以將所述氣體供應(yīng)到所述氣室。