[發(fā)明專利]一種用于表面等離子體共振成像的數(shù)字全息記錄方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710614343.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-07-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107589096B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-07-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙建林;張繼巍;戴思清;邸江磊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西北工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/552 | 分類號(hào): | G01N21/552 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 710072 陜西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 表面 等離子體 共振 成像 數(shù)字 全息 記錄 方法 | ||
1.一種用于表面等離子體共振成像的數(shù)字全息記錄方法,其特征在于步驟如下:
步驟1:一束偏振方向?yàn)?5°的線偏振平行光以激發(fā)角θ入射到Kretschmann結(jié)構(gòu)上發(fā)生表面等離子體共振;
步驟2:出射光波經(jīng)成像透鏡后繼續(xù)通過(guò)具有一定分束角的沃拉斯頓棱鏡,分出的s偏振光波作為參考光波,p偏振光波作為物光波;
步驟3:物光波和參考光波穿過(guò)一定起偏方向的檢偏器后,到達(dá)圖像采集器件靶面并發(fā)生離軸干涉,得到數(shù)字全息圖。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





