[發明專利]一種V法垂直造型工藝和鑄造工藝

有效

• 申請號: 201710613461.X
• 申請日: 2017-07-25
• 公開（公告）號: CN109290518B
• 公開（公告）日: 2020-09-08
• 發明（設計）人: 李新忠
• 申請（專利權）人: 鄭州為新科技有限公司
• 主分類號: B22C9/03
• 分類號: B22C9/03
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 趙青朵

本發明提供了一種V法垂直造型工藝，包括：分別在正壓板和反壓板帶有模樣的表面吸貼薄膜并噴涂涂料；使覆膜后的正壓板、反壓板和砂箱形成封閉的造型室，所述砂箱位于正壓板和反壓板之間通過液壓系統壓緊使造型室中形成垂直的型腔，所述砂箱頂面開設有射砂口；通過射砂裝置向造型室內垂直射入干砂，然后對造型室進行抽真空處理，所述射砂裝置位于射砂口上方；待造型室內的干砂緊實后使正壓板和反壓板離開砂箱，得到兩側具有型腔的型塊；將型塊與上一個型塊進行合箱，得到砂型，重復上述操作制備得到由多個砂型形成的造型線。本發明的造型工藝生產速度快、效率高，模具及砂箱使用壽命長，而且制備得到的鑄件表面光潔、輪廓清晰、尺寸準確。

技術領域

本發明涉及砂型鑄造技術領域，尤其涉及一種V法垂直造型工藝和鑄造工藝。

背景技術

鑄造是一種將固態金屬熔化為液態澆注到特定形狀的模具使其凝固成型的加工工藝。砂型鑄造是一種常用的鑄造技術，V法造型是一種真空密封造型鑄造方法，又稱為負壓造型，目前普遍采用的為V法水平造型，其工藝流程為：(1)將預先加熱好的塑料薄膜在負壓作用下吸貼到模樣和模具的整個表面，然后在薄膜上均勻地噴涂快干涂料；(2)將帶有抽氣室的砂箱放上；(3)充填不加粘結劑、水分及附加物的干砂，變加砂變微微振動，以保證干砂填滿砂箱，刮平，并在頂部再覆蓋薄膜，通過砂箱箱壁抽真空；(4)翻箱、起膜，由于大氣壓力的作用，塑料薄膜均勻地貼在砂型上，而使型砂處于緊實狀態，取出模樣，達到硬度為90度左右的砂型；(5)合型，鑄型的負壓狀態一直維持到澆注，鑄件凝固完成；(6)負壓接觸，鑄型自行潰散，可方便的從鑄型干砂中取出鑄件。

V法水平造型采用干砂造型，簡化了砂處理，舊砂回收率高；在模樣表面覆蓋薄膜，模樣不與砂型直接接觸，便于起膜，提高了鑄件尺寸精度，減少了對模樣的磨損；在負壓狀態下澆注，金屬液流動性好，可制備2～3mm的鑄件；無需采用振動落砂設備，改善了車間環境。

但是，現有技術所采用的V法水平造型操作復雜，小鑄件的生產效率較低，而且需要二次加工澆冒口；在制備過程中需要上下兩箱覆蓋4張膜，覆膜次數多；而且拆箱還需要翻轉，上下箱需要分開落砂。另外，V法水平造型溫度場的控制性較差，用于制作大型鑄件所需涂料較多。

發明內容

有鑒于此，本發明的目的在于提供一種V法垂直造型工藝和鑄造工藝，本發明提供的造型工藝方法簡單、效率較高。

本發明提供了一種V法垂直造型工藝，包括以下步驟：

1)、分別在正壓板和反壓板帶有模樣的表面吸貼薄膜并噴涂涂料，得到覆膜后的正壓板和反壓板；

2)、使覆膜后的正壓板、反壓板和帶有抽氣室的砂箱形成封閉的造型室，

所述砂箱位于正壓板和反壓板之間通過液壓系統壓緊，使造型室中形成垂直的型腔，所述砂箱頂面板上開設有射砂口；

3)、通過射砂裝置向造型室內垂直射入干砂后采用薄膜密封射砂口，然后對造型室進行抽真空處理，

所述射砂裝置位于射砂口上方；

4)、待造型室內的干砂緊實后使正壓板和反壓板離開砂箱，得到兩側具有型腔的型塊；

5)、將型塊與上一個型塊進行合箱，得到砂型，所述砂型垂直分型；

6)、重復步驟1)～5)的操作，得到由多個砂型形成的造型線。

優選的，所述步驟3)采用薄膜密封射砂口的方法為：

采用步驟1)中正壓板或反壓板模樣表面的薄膜密封射砂口；或

根據射砂口的尺寸和形狀重新剪裁薄膜密封射砂口。

優選的，所述砂箱的前側板和/或后側板上開設有真空通道。