[發明專利]一種阻隔膜及其制備方法

在審

• 申請號: 201710611532.2
• 申請日: 2017-07-25
• 公開（公告）號: CN107293627A
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發明（設計）人: 馬志鋒;程武;張莉;杜曉峰;孫官恩
• 申請（專利權）人: 中國南玻集團股份有限公司;深圳南玻應用技術有限公司
• 主分類號: H01L33/44
• 分類號: H01L33/44
• 代理公司: 北京商專永信知識產權代理事務所(普通合伙)11400
• 代理人: 葛強,鄔玥

1.一種阻隔膜，其特征在于，包括：

基材，所述基材為柔性透明基材；

過渡層，設置在所述基材上；所述過渡層為硅層；

無機光學介質層，設置在所述過渡層背對于所述基材的一側；所述無機光學介質層為無機透明介質層。

2.如權利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，進一步包括：有機光學介質層，設置在所述無機光學介質層背對于所述過渡層的一側；所述有機光學介質層為高分子聚合物涂層。

3.如權利要求2所述的阻隔膜，其特征在于，所述有機光學介質層的厚度為0.5μm～3μm。

4.如權利要求1或2所述的阻隔膜，其特征在于，

所述過渡層的厚度為0.5nm～2nm；和/或，

所述無機光學介質層的厚度為150nm～350nm。

5.如權利要求1或2所述的阻隔膜，其特征在于，

所述硅層為純硅層，或者含有氧化硅的硅層。

6.如權利要求2所述的阻隔膜，其特征在于，所述無機光學介質層包括：一層無機層、兩層無機層、或者更多層無機層；任意兩層所述無機層的組分相同或者不同。

7.如權利要求6所述的阻隔膜，其特征在于，所述無機層包括以下至少之一：SiO₂、Si₃N₄、SiON、Al₂O₃；和/或，

所述柔性透明基材包括以下至少之一：聚對苯二甲酸乙二醇酯、環烯烴聚合物、環烯烴共聚物、聚碳酸酯和三醋酸纖維素。

8.如權利要求2-7任一所述阻隔膜的制備方法，其特征在于，包括：

提供基材，所述基材為柔性透明基材；

在所述基材上形成過渡層；所述過渡層為硅層；

在所述過渡層上形成無機光學介質層；所述無機光學介質層為無機透明介質層；

在所述無機光學介質層上形成有機光學介質層；所述有機光學介質層為高分子聚合物涂層。

9.如權利要求8所述的制備方法，其特征在于，在所述無機光學介質層上形成有機光學介質層，包括：

將光固化前軀體溶液涂覆在所述無機光學介質層上；

對所述光固化前軀體溶液進行烘烤和紫外光UV固化，形成所述有機光學介質層；

其中，按照質量百分比計，所述光固化前驅體溶液包括：低聚物，15％～18％；單體，16％～19％；UV固化助劑，0.4％～1.0％；光引發劑，1.5％～2.3％；溶劑，62％～68％低聚物、單體、UV固化助劑、光引發劑和溶劑。

10.如權利要求9所述的制備方法，其特征在于，

所述低聚物為環氧丙烯酸酯，或者單官能團或雙官能團的聚氨酯丙烯酸酯；

所述單體為丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯；

所述UV固化助劑為硅烷偶聯劑；

所述光引發劑為裂解型或者奪氫型的引發劑。