[發(fā)明專利]一種真空絕熱板用阻隔膜及其制備方法和用途

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710608339.3
• 申請日: 2017-07-24
• 公開（公告）號: CN109296870B
• 公開（公告）日: 2020-03-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張宗波;王丹;徐彩虹;梁倩影
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院化學(xué)研究所
• 主分類號: F16L59/065
• 分類號: F16L59/065;F16L59/02;C09D1/00;C09D183/16;C23C14/24;C23C14/18
• 代理公司: 北京知元同創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11535
• 代理人: 劉元霞

1.一種真空絕熱板用阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜包括基底和依次設(shè)置在所述基底上的氧化硅涂層和鍍鋁層；所述氧化硅涂層在所述基底上的附著力至少為1級；

所述氧化硅涂層由包括如下質(zhì)量百分比的組分的涂料組合物涂覆、固化形成：

全氫聚硅氮烷PHPS 2％～10％；

催化劑 0.05％～1％；和

溶劑 89％～97.95％；

其中，所述PHPS、催化劑和溶劑的質(zhì)量百分比之和為100％；

所述PHPS數(shù)均分子量在800-3000之間；

其中，所述氧化硅涂層的厚度在0.1-10μm之間；所述鍍鋁層的厚度為10-150nm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述基底為聚合物薄膜。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的阻隔膜，其特征在于，所述聚合物為聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚酰胺或聚酰亞胺。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜還進(jìn)一步包括設(shè)置在鍍鋁層之上的保護(hù)層。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的阻隔膜，其特征在于，所述保護(hù)層由包括以下組分的組合物涂覆、固化形成：有機(jī)聚硅氮烷、催化劑和溶劑。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的阻隔膜，其特征在于，所述保護(hù)層由包括以下質(zhì)量百分比的組分的組合物涂覆、固化形成：

有機(jī)聚硅氮烷 2％-11％；

催化劑 0.05％-2％；

溶劑 88％～97％；

其中，所述有機(jī)聚硅氮烷、催化劑和溶劑的質(zhì)量百分比之和為100％。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的阻隔膜，其特征在于，所述保護(hù)層的厚度為0.1-10μm。

8.一種根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的阻隔膜的制備方法，其特征在于，所述方法包括如下步驟：

(1)在基底上制備氧化硅涂層；

(2)在氧化硅涂層之上制備鍍鋁層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述方法進(jìn)一步包括以下步驟：(3)在鍍鋁層之上制備保護(hù)層，得到所述阻隔膜。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述方法包括如下步驟：

(1’)制備包括全氫聚硅氮烷PHPS、催化劑和溶劑的涂料組合物，將涂料組合物涂覆在基底上，固化，形成氧化硅涂層；

(2’)將形成氧化硅涂層的基底放置于鍍鋁室內(nèi)，在氧化硅涂層之上真空蒸鍍鋁，形成鍍鋁層；

(3’)制備包括有機(jī)聚硅氮烷、催化劑和溶劑的組合物，將該組合物涂覆在鍍鋁層之上，固化，得到所述阻隔膜。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)或(1’)中，在基底上制備氧化硅涂層前，對所述基底進(jìn)行電暈或等離子體處理。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，步驟(1’)中，所述固化為真空紫外固化。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制備方法，其特征在于，所述固化在172nm的真空紫外條件下進(jìn)行，固化時間為0.1-3小時。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制備方法，其特征在于，氧氣體積濃度為0-10％。

15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制備方法，其特征在于，紫外輻照的次數(shù)至少一次。

16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，步驟(2’)中，基底放置于鍍鋁室內(nèi)的速度，也稱為放卷速度為150-350m/min。