[發(fā)明專利]一種太赫茲調(diào)制器和調(diào)制方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710607024.7 | 申請日: | 2017-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN109298547A | 公開(公告)日: | 2019-02-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 沈百林;李蒙;郝然;李爾平;朱海霞 | 申請(專利權(quán))人: | 中興光電子技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/01 | 分類號: | G02F1/01 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 李紅爽;李丹 |
| 地址: | 210000 江蘇省南*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太赫茲調(diào)制器 調(diào)制 石墨烯層 絕緣層 波導(dǎo)結(jié)構(gòu) 石墨烯 電極 波導(dǎo) 硅層 媒質(zhì) 電子遷移率 工作性能 太赫茲波 外側(cè)設(shè)置 諧振特性 有效地 寬帶 兩層 入射 側(cè)面 吸收 申請 發(fā)現(xiàn) | ||
本申請?zhí)岢鲆环N太赫茲調(diào)制器和調(diào)制方法,包括:波導(dǎo)硅層、石墨烯層、電極和絕緣層;兩層石墨烯層之間設(shè)置絕緣層,每層石墨烯層的外側(cè)設(shè)置波導(dǎo)硅層,每層石墨烯層上設(shè)置電極。由于石墨烯是目前發(fā)現(xiàn)的電子遷移率最高的材料,因此采用石墨烯作為調(diào)制媒質(zhì)可有效提高太赫茲調(diào)制器的調(diào)制速度。采用波導(dǎo)結(jié)構(gòu)并從側(cè)面入射太赫茲波,可以更加有效地增強(qiáng)媒質(zhì)對太赫茲載波的吸收進(jìn)而改善太赫茲調(diào)制器的調(diào)制深度,提高了太赫茲調(diào)制器的調(diào)制速度,本發(fā)明采用無諧振特性的波導(dǎo)結(jié)構(gòu),故本發(fā)明所提出的太赫茲調(diào)制器具有寬帶工作性能。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及太赫茲通信領(lǐng)域,具體涉及一種太赫茲調(diào)制器和調(diào)制方法。
背景技術(shù)
由于太赫茲通信具有頻段資源豐富、帶寬大、抗干擾能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),在高速無線通信領(lǐng)域受到了廣泛關(guān)注。作為太赫茲通信系統(tǒng)核心器件之一,太赫茲調(diào)制器的設(shè)計非常重要。太赫茲調(diào)制器功能是將包含信息的基帶信號調(diào)制到太赫茲載波,其主要參數(shù)有:調(diào)制深度、調(diào)制速度和調(diào)制帶寬。
傳統(tǒng)太赫茲調(diào)制器均為“表面入射結(jié)構(gòu)”,表面入射結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示,太赫茲載波以垂直于調(diào)制媒質(zhì)的方向入射,基帶信號加在調(diào)制媒質(zhì)上對太赫茲載波進(jìn)行調(diào)制。根據(jù)是否應(yīng)用諧振結(jié)構(gòu)將傳統(tǒng)太赫茲調(diào)制器分為兩類:(1)非諧振式調(diào)制器,調(diào)制帶寬大但是由于載波與調(diào)制媒質(zhì)作用小而導(dǎo)致調(diào)制深度低;(2)諧振式調(diào)制器,調(diào)制深度高但是由于其諧振特性導(dǎo)致調(diào)制帶寬窄。除此之外,傳統(tǒng)太赫茲調(diào)制器還以硅等其他電子遷移率較低的半導(dǎo)體材料作為調(diào)制媒質(zhì),導(dǎo)致電子在調(diào)制器中運(yùn)動速度較慢,進(jìn)而導(dǎo)致調(diào)制速度較低,無法滿足實際需求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種太赫茲調(diào)制器和調(diào)制方法,解決傳統(tǒng)太赫茲調(diào)制器調(diào)制深度低、調(diào)至帶寬窄和調(diào)制速度低的問題。
為了實現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明采取的技術(shù)方案如下:
一種太赫茲調(diào)制器,包括:波導(dǎo)硅層、石墨烯層、電極和絕緣層;
兩層石墨烯層之間設(shè)置絕緣層,每層石墨烯層的外側(cè)設(shè)置波導(dǎo)硅層,每層石墨烯層上設(shè)置電極。
優(yōu)選地,所述絕緣層為三氧化二鋁絕緣層。
優(yōu)選地,所述波導(dǎo)硅層的電阻值大于或者等于10000Ω/cm。
優(yōu)選地,所述電極為鎳電極。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明還提供一種太赫茲調(diào)制方法,應(yīng)用于上述的太赫茲調(diào)制器,包括:
太赫茲載波以平行于石墨烯層的方向從太赫茲調(diào)制器的側(cè)面入射;
基帶信號通過導(dǎo)線連接加在雙層石墨烯層上的鎳電極,通過施加電壓來改變石墨烯層的化學(xué)勢,進(jìn)而改變石墨烯層的電導(dǎo)率,以使太赫茲載波經(jīng)過太赫茲調(diào)制器在不同電壓下石墨烯層不同的電導(dǎo)率而受到基帶信號的幅度調(diào)制。
本發(fā)明和現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下有益效果:
本發(fā)明的技術(shù)方案,采用新型二維納米材料——石墨烯作為調(diào)制媒質(zhì)。由于石墨烯是目前發(fā)現(xiàn)的電子遷移率最高的材料,因此采用石墨烯作為調(diào)制媒質(zhì)可有效提高太赫茲調(diào)制器的調(diào)制速度。采用波導(dǎo)結(jié)構(gòu)并從側(cè)面入射太赫茲波,可以更加有效地增強(qiáng)媒質(zhì)對太赫茲載波的吸收進(jìn)而改善太赫茲調(diào)制器的調(diào)制深度,提高了太赫茲調(diào)制器的調(diào)制速度,本發(fā)明采用無諧振特性的波導(dǎo)結(jié)構(gòu),故本發(fā)明所提出的太赫茲調(diào)制器具有寬帶工作性能。
附圖說明
圖1為相關(guān)技術(shù)的太赫茲帶寬調(diào)制器的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明實施例的太赫茲帶寬調(diào)制器的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明實施例的太赫茲調(diào)制器工作原理圖;
圖4為實施例1的THz-TDS測試系統(tǒng)圖。
圖5為實施例1的太赫茲頻譜隨電壓變化曲線圖。
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G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
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