[發明專利]實現CMOS圖像傳感器于像素合成模式下的相位對焦方法在審
| 申請號： | 201710606819.6 | 申請日： | 2017-07-24 |
| 公開（公告）號： | CN109302559A | 公開（公告）日： | 2019-02-01 |
| 發明（設計）人： | 趙立新;胡佳 | 申請（專利權）人： | 格科微電子（上海）有限公司 |
| 主分類號： | H04N5/232 | 分類號： | H04N5/232;H04N5/374;H04N9/04 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 像素結構 像素合成 像素單元 對焦 組塊 快速對焦 相位信息 遮擋 圖像傳感器像素 智能便攜設備 彩色濾光膜 對焦狀態 高感光度 獲取信號 位置一致 應用需求 遮擋區域 比對 拍照 保證 | ||
1.一種實現CMOS圖像傳感器于像素合成模式下的相位對焦方法，其特征在于：
提供具有相同彩色濾光膜的四像素結構；所述相鄰的4個四像素結構為一組塊；所述若干組塊組成圖像傳感器像素陣列；
對若干組塊中對應的四像素結構中的至少兩個像素單元進行部分遮擋,同一四像素結構內像素單元的遮擋區域位置一致；
在像素合成模式下，基于若干的所述四像素結構中至少兩個像素單元的部分遮擋，獲取信號信息并提取相應的相位信息，將對焦狀態與所述相位信息進行比對，實現四像素結構的像素合成模式下的快速對焦。
2.根據權利要求1所述的實現CMOS圖像傳感器于像素合成模式下的相位對焦方法，其特征在于，對若干組塊中對應的四像素結構中的全部四個像素單元均進行部分遮擋。
3.根據權利要求1所述的實現CMOS圖像傳感器于像素合成模式下的相位對焦方法，其特征在于，所述若干組塊中，若干第一組塊中四像素結構的至少兩個像素單元的遮擋區域與若干第二組塊中四像素結構的至少兩個像素單元的遮擋區域部分或完全互補。
4.根據權利要求1所述的實現CMOS圖像傳感器于像素合成模式下的相位對焦方法，其特征在于，所述至少兩個像素單元的遮擋區域的比例占像素單元面積的30%至70%。
5.根據權利要求1所述的實現CMOS圖像傳感器于像素合成模式下的相位對焦方法，其特征在于，進行遮擋的四像素結構的彩色濾光膜為綠色濾光膜、透明膜。
6.根據權利要求3所述的實現CMOS圖像傳感器于像素合成模式下的相位對焦方法，其特征在于，遮擋區域部分或完全互補的所述四像素結構分別為一對；對于所述一對內部，一四像素結構遮擋區域與另一四像素結構遮擋區域的橫向距離小于等于4個像素單元距離，縱向距離小于等于16個像素單元距離。
7.根據權利要求3所述的實現CMOS圖像傳感器于像素合成模式下的相位對焦方法，其特征在于，遮擋區域部分或完全互補的所述四像素結構分別為一對；所述一對與另一對之間的橫向距離小于等于64個像素單元距離，縱向距離小于等于64個像素單元距離。
8.根據權利要求3所述的實現CMOS圖像傳感器于像素合成模式下的相位對焦方法，其特征在于，遮擋區域部分或完全互補的所述四像素結構分別為一對；所述的至少一對四像素結構組成重復單元，于所述像素陣列中布設若干所述重復單元。
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