[發明專利]一種光刻仿真系統

有效

• 申請號: 201710602290.0
• 申請日: 2017-07-21
• 公開（公告）號: CN109283796B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: 柏聳;邢濱;劉暢
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司;中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市磐華律師事務所 11336
• 代理人: 翟海青;高偉

1.一種光刻仿真系統，其特征在于，所述系統包括：

掩模，所述掩模包括透光區域和不透光區域；

照明光源，用于發出光束；

投影成像透鏡系統，從所述掩模透過的至少部分光經所述投影成像透鏡系統后照射到襯墊區并形成光斑，其中，所述襯墊區設置在晶圓上；

光瞳探測器，設置在所述投影成像透鏡系統的光瞳面位置，其中所述光瞳探測器用于接收所述光斑從所述晶圓表面反射回的光形成光瞳圖像并探測和輸出所述光瞳圖像，所述光瞳圖像反應光瞳面的光強度分布。

2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述掩模僅對所述襯墊區透光，所述掩模上的其他區域均不透光。

3.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述投影成像透鏡系統等效成包括前組透鏡和后組透鏡，其中所述后組透鏡的前焦平面位置，即所述投影成像透鏡系統的光瞳面位置。

4.如權利要求3所述的系統，其特征在于，所述前組透鏡包括第一透鏡，從所述掩模透過的光照射到所述第一透鏡，并從所述第一透鏡透過后改變為平行光，所述平行光照射到所述后組透鏡上。

5.如權利要求1所述的系統，其特征在于，還包括圖像處理分析模塊，用于接收所述光瞳圖像，并根據該光瞳圖像信息計算分析與所述光瞳圖像相關的各種數據。

6.如權利要求5所述的系統，其特征在于，所述光瞳圖像相關的各種數據包括反射率和駐波，并能夠根據所述反射率和駐波的結果調整所述晶圓上的掩膜層厚度到理想厚度。

7.如權利要求5所述的系統，其特征在于，所述圖像處理分析模塊還能夠根據所述光瞳圖像信息檢測所述晶圓表面的粗糙度。

8.如權利要求3所述的系統，其特征在于，所述光瞳探測器遮擋部分從所述前組透鏡透過的光。

9.如權利要求3所述的系統，其特征在于，當從所述前組透鏡透過的光為平行光時，所述光瞳探測器的平面形狀為半圓形、矩形、或半橢圓形，并且所述光瞳探測器的平面遮擋從所述前組透鏡透過的光的總數的二分之一。

10.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述晶圓包括襯底，以及依次設置在所述襯底表面的硬掩膜層和掩膜層，或者，所述晶圓包括襯底以及設置在所述襯底表面的硬掩膜層。

11.如權利要求1所述的系統，其特征在于，還包括照射系統，用于引導、成型或控制從所述照明光源發出的光束，光束離開所述照射系統后照射到所述掩模上。

12.如權利要求1所述的系統，其特征在于，當測量有掩模的反射光時，掩模圖樣方向與所述光瞳探測器邊沿方向垂直。