[發明專利]掩膜版及掩膜版的制作方法

有效

• 申請號: 201710601835.6
• 申請日: 2017-07-21
• 公開（公告）號: CN107354426B
• 公開（公告）日: 2020-04-03
• 發明（設計）人: 潘晟愷;喬永康
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 柴亮;張天舒

本發明提供一種掩膜版及掩膜版的制作方法，屬于顯示技術領域，其可解決現有技術在對襯底基板進行鍍膜時，金屬掩膜版容易劃傷、壓傷襯底基板的問題。本發明的掩膜版具有用于與襯底基板接觸的接觸側，該掩膜版包括金屬本體和有機涂層，有機涂層至少形成于金屬本體靠近接觸側的一側的邊緣區域。

技術領域

本發明屬于顯示技術領域，具體涉及一種掩膜版及掩膜版的制作方法。

背景技術

有機電致發光器件(OLED，Organic Light-Emitting Diode)具有自發光、反應時間快、視角廣、成本低、制作工藝簡單、分辨率佳及高亮度等多項優點，被認為是下一代的平面顯示器新興的應用技術。在OLED顯示基板制造過程中，真空蒸鍍工藝是一項非常重要和關鍵的技術，該工藝通常利用金屬掩膜版1作為模具，有機材料高溫揮發后以材料分子狀態透過掩膜版上的鏤空的掩膜圖形沉積到襯底基板2上形成所需圖案，作為有機發光層，用于實現發光。在該工藝進行過程中，金屬掩膜版1通常與襯底基板2直接接觸。

現有技術中，金屬掩膜版1及其上的掩膜圖形通常由光刻或者激光切割等加工方式形成，由于加工工藝的限制，金屬掩膜版1邊緣會存在階躍高度(Step height)，導致金屬掩膜版1與襯底基板2之間產生陰影效應(如圖1所示，由于金屬掩膜版1的邊緣凸起與襯底基板2之間的間隙，會導致在襯底基板2上形成的圖案與掩膜圖形不一致)，且金屬掩膜版1邊緣部分通常會存在有毛刺或者凹凸不平整現象，從而導致在對襯底基板2進行鍍膜時容易劃傷、壓傷襯底基板2(如圖2所示)，進而影響到OLED顯示基板的成品良率。

發明內容

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一，提供一種可以避免襯底基板被掩膜版劃傷的掩膜版。

解決本發明技術問題所采用的技術方案是一種掩膜版，具有用于與襯底基板接觸的接觸側，所述掩膜版包括金屬本體和有機涂層，所述有機涂層至少形成于所述金屬本體靠近接觸側的一側的邊緣區域。

優選的，所述掩膜版為用于成膜工藝的掩膜版。

優選的，所述有機涂層由聚四氟乙烯或過氟烷基化物形成。

優選的，所述金屬本體中設有多個鏤空的掩膜圖形，所述有機涂層還形成于所述金屬本體靠近接觸側的一側上靠近所述掩膜圖形的邊緣的區域。

解決本發明技術問題所采用的另一種技術方案是一種掩膜版的制作方法，包括：

形成金屬本體；

在所述金屬本體至少一側的邊緣區域形成有機涂層，所述掩膜版形成有有機涂層的一側用于與襯底基板接觸。

優選的，所述形成金屬本體具體包括：

激光切割形成金屬本體；

和/或

刀輪切割形成金屬本體。

優選的，所述在所述金屬本體至少一側的邊緣區域形成有機涂層包括：

在所述金屬本體至少一側的邊緣區域靜電噴涂有機材料粉末；

對所述金屬本體進行加熱，使所述有機材料粉末固化形成有機涂層。

優選的，所述金屬本體的加熱溫度范圍在300-450℃。

優選的，所述在所述金屬本體至少一側的邊緣區域形成有機涂層之前，還包括：

用拋光設備對所述金屬本體進行打磨。

優選的，所述在所述金屬本體至少一側的邊緣區域形成有機涂層之后，還包括：

用拋光器件對所述有機涂層進行拋光。