[發(fā)明專利]終端外殼、電子設(shè)備及終端外殼加工工藝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710600666.4
• 申請日: 2017-07-21
• 公開（公告）號: CN107205328B
• 公開（公告）日: 2020-01-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吉斌;劉孟帥
• 申請（專利權(quán)）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: H05K5/02
• 分類號: H05K5/02;C23C14/32;C23C14/14;C23C14/08
• 代理公司: 44224 廣州華進聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 方高明

1.一種終端外殼，其特征在于，包括：

殼本體，設(shè)置有第一表面及與所述第一表面相對的第二表面；

主光學(xué)鍍層，與所述第一表面連接并包括多個交替層疊的第一主光學(xué)膜和第二主光學(xué)膜；所述第一主光學(xué)膜包括金屬膜或合金膜，所述第二主光學(xué)膜包括金屬氧化物膜或非金屬氧化物膜；及

副光學(xué)鍍層，所述副光學(xué)鍍層與所述第二表面連接并用于抵消整個所述主光學(xué)鍍層的內(nèi)應(yīng)力；所述副光學(xué)鍍層包括多個層疊的副光學(xué)膜，所述副光學(xué)膜包括MgF₂膜或Si₃N₂膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的終端外殼，其特征在于，所述第一主光學(xué)膜的數(shù)量與所述第二主光學(xué)膜的數(shù)量相等。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的終端外殼，其特征在于，所述主光學(xué)鍍層上最外層的第一主光學(xué)膜與所述殼本體連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的終端外殼，其特征在于，還包括設(shè)置在所述主光學(xué)鍍層遠離所述殼本體一面上的保護層。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的終端外殼，其特征在于，所述保護層包括類金剛石鍍層。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的終端外殼，其特征在于，所述第一主光學(xué)膜的折射率大于所述第二主光學(xué)膜的折射率。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的終端外殼，其特征在于，所述第一主光學(xué)膜和第二主光學(xué)膜的總數(shù)量為A，其中，4≤A≤2000。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的終端外殼，其特征在于，所述第一主光學(xué)膜的厚度為B，其中，5nm≤B≤10nm；所述第二主光學(xué)膜的厚度為C，其中，15nm≤C≤35nm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的終端外殼，其特征在于，所述副光學(xué)膜的數(shù)量與所述第一主光學(xué)膜和第二主光學(xué)膜兩者的總數(shù)量相等。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的終端外殼，其特征在于，所述殼本體采用鋁合金、不銹鋼或玻璃材料制成。

11.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-10中任一項所述的終端外殼。

12.一種終端外殼加工工藝，其特征在于，包括如下步驟：

獲得包括有第一表面和第二表面的殼本體，所述第一表面和所述第二表面相對設(shè)置；

清除所述第一表面和第二表面上的油污并形成設(shè)定的粗糙度；及

通過真空離子鍍膜工藝于所述第一表面生成主光學(xué)鍍層，所述主光學(xué)鍍層包括多個交替層疊的第一主光學(xué)膜和第二主光學(xué)膜，通過真空離子鍍膜工藝于所述第二表面生成副光學(xué)鍍層；

其中，所述第一主光學(xué)膜包括金屬膜或合金膜，所述第二主光學(xué)膜包括金屬氧化物膜或非金屬氧化物膜；所述副光學(xué)鍍層包括多個層疊的副光學(xué)膜，所述副光學(xué)膜包括MgF₂膜或Si₃N₂膜。