[發(fā)明專利]一種高效率緊縮天線輻射場(chǎng)及目標(biāo)散射測(cè)試系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710600169.4
• 申請(qǐng)日: 2017-07-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107611623A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-01-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張梅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安普騰電子科技有限公司
• 主分類號(hào): H01Q19/13
• 分類號(hào): H01Q19/13;H01Q21/00
• 代理公司: 西安長(zhǎng)和專利代理有限公司61227
• 代理人: 黃偉洪

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于厘米波、毫米波、亞毫米波的緊縮天線輻射場(chǎng)及目標(biāo)散射測(cè)試系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高效率緊縮天線輻射場(chǎng)及目標(biāo)散射測(cè)試系統(tǒng)。

背景技術(shù)

隨著厘米波、毫米波、亞毫米波技術(shù)的快速發(fā)展，毫米波、亞毫米波天線測(cè)試的需求及各種目標(biāo)在毫米波、亞毫米波頻段散射參數(shù)測(cè)試日益迫切。天線輻射場(chǎng)測(cè)試可分為遠(yuǎn)場(chǎng)測(cè)試和近場(chǎng)測(cè)試，遠(yuǎn)場(chǎng)測(cè)試是在滿足一定的測(cè)試距離后直接測(cè)量天線的遠(yuǎn)場(chǎng)特性，而近場(chǎng)測(cè)試則是測(cè)量待測(cè)天線的近場(chǎng)數(shù)據(jù)，然后根據(jù)傅里葉變換得到天線的遠(yuǎn)場(chǎng)特性。在不考慮外界干擾的情況下，一般遠(yuǎn)場(chǎng)測(cè)試結(jié)果比近場(chǎng)測(cè)試結(jié)果可靠。天線輻射場(chǎng)采用遠(yuǎn)場(chǎng)測(cè)試時(shí)需要保證發(fā)射天線和待測(cè)天線的最小間距大于2D²/λ。其中D表示待測(cè)天線的最大物理尺寸，λ表示測(cè)試頻段的波長(zhǎng)。從測(cè)試間距公式看，測(cè)試間距與天線工作波長(zhǎng)成反比關(guān)系，即與工作頻率成正比，當(dāng)天線的頻率越高時(shí)，測(cè)試間距很大。若要求測(cè)試天線遠(yuǎn)區(qū)場(chǎng)相位方向圖時(shí)，需要更大的測(cè)試距離。利用緊縮場(chǎng)天線測(cè)試則可以有效地解決測(cè)試場(chǎng)地問(wèn)題。單反射面緊縮場(chǎng)的靜區(qū)利用率低，一般只有30％的靜區(qū)利用率，原因是傳統(tǒng)的單反射面緊縮場(chǎng)測(cè)試系統(tǒng)的出射場(chǎng)是一個(gè)凸包的形狀，只有較小的一部分區(qū)域符合天線測(cè)試的要求。

綜上所述，現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題是：

當(dāng)頻率達(dá)到毫米波甚至亞毫米波時(shí)，構(gòu)建天線輻射測(cè)試遠(yuǎn)場(chǎng)時(shí)，測(cè)試距離很大、場(chǎng)地費(fèi)用高、建造成本高；

緊縮場(chǎng)測(cè)試系統(tǒng)可以有效的解決場(chǎng)地大的問(wèn)題，但傳統(tǒng)單反射面緊縮場(chǎng)靜區(qū)效率低，需要進(jìn)一步的提高單反射面緊縮場(chǎng)靜區(qū)效率。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種高效率緊縮天線輻射場(chǎng)及目標(biāo)散射測(cè)試系統(tǒng)。

本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的：傳統(tǒng)單反射面饋源輻射方向圖具有凸包特性，經(jīng)過(guò)反射面后具有錐削的方向圖，降低靜區(qū)利用率；本發(fā)明通過(guò)圓環(huán)形天線陣列賦型具有平頂波束的饋源輻射方向圖，經(jīng)過(guò)反射面后，出射場(chǎng)幅度均勻，靜區(qū)尺寸大；

所述高效率緊縮天線輻射場(chǎng)及目標(biāo)散射測(cè)試系統(tǒng)包括：

高效率緊縮場(chǎng)饋源；

所述高效率緊縮場(chǎng)饋源安裝在固定支架上；

賦型反射面背面支架和反射面離地調(diào)角支架連接在一起，所述賦型反射面安裝在所述賦型反射面背面支架上；

所述固定支架通過(guò)連桿與所述賦型反射面背面支架、反射面離地調(diào)角支架連接。

進(jìn)一步，所述超緊縮場(chǎng)饋源中心指向賦型反射面的中心。

進(jìn)一步，所述固定支架有前后、左右及俯仰角度的微調(diào)功能。

進(jìn)一步，所述高效率緊縮場(chǎng)饋源的陣列由多圈天線單元組成。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)及積極效果為：由饋電陣列和賦型反射面組成的高效率緊縮場(chǎng)測(cè)試系統(tǒng)，不需要采用雙反射鏡甚至更多反射鏡的方式提高天線或目標(biāo)散射測(cè)試區(qū)即靜區(qū)的利用率，以減小反射鏡加工及微波暗室制造等工程難度；為區(qū)別傳統(tǒng)單饋源緊縮場(chǎng)系統(tǒng)，靜區(qū)定義為H區(qū)。本發(fā)明的陣列饋電賦型反射面的高效率緊縮場(chǎng)測(cè)試系統(tǒng)采用陣列作為饋源，與傳統(tǒng)喇叭饋源或陣子饋源相比，出射場(chǎng)設(shè)計(jì)成具有矩形波束的輻射方向圖，而不在是一種凸包的輻射方向圖。

本發(fā)明能夠很好的控制出射場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)分布。本發(fā)明的陣列饋電賦型反射面的高效率緊縮場(chǎng)測(cè)試系統(tǒng)采用賦型反射面作為反射鏡，與傳統(tǒng)非賦型反射面(加鋸齒或卷邊)相比，陣列饋電的出射場(chǎng)除了具有矩形波束的輻射方向圖外，方向圖的第一零深位置將直接對(duì)準(zhǔn)賦型反射面的邊緣，能夠更有效的消除反射面邊緣衍射。

為能夠更進(jìn)一步的消除反射面邊緣衍射，減小靜區(qū)的電平起幅，本發(fā)明在采用陣列饋電作為饋源和采用賦型反射面作為反射鏡的基礎(chǔ)上，也可以在賦型反射面的基礎(chǔ)上在反射面邊緣處增加鋸齒形或卷邊處理。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的高效率緊縮天線輻射場(chǎng)及目標(biāo)散射測(cè)試系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的高效率緊縮場(chǎng)饋源結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中：1、高效率緊縮場(chǎng)饋源；2、固定支架；3、賦型反射面；4、賦型反射面背面支架；5、反射面離地調(diào)角支架。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的應(yīng)用原理作詳細(xì)的描述。