[發明專利]一種納米銀噴墨打印墨滴邊界對齊優化方法及打印機

有效

• 申請號: 201710598115.9
• 申請日: 2017-07-20
• 公開（公告）號: CN107554076B
• 公開（公告）日: 2019-09-20
• 發明（設計）人: 黃進;孟凡博;王建軍;趙家勇;劉大川;趙鵬兵
• 申請（專利權）人: 西安電子科技大學
• 主分類號: B41J2/11
• 分類號: B41J2/11;B41J2/045
• 代理公司: 西安長和專利代理有限公司 61227
• 代理人: 黃偉洪

1.一種納米銀噴墨打印墨滴邊界對齊優化方法，其特征在于，所述納米銀噴墨打印墨滴邊界對齊優化方法包括以下步驟：

步驟一，根據測量不同壓電噴頭負壓值與噴出納米銀墨滴半徑的關系，擬合獲得負壓與墨滴間距的關系方程；

步驟二，將在計算機中確定模型表面打印模型中的待打印部分，將待打印部分分離，保存成STL格式；將曲面表面打印模型中的待打印曲面進行數據處理，將原模型分成多個三角形，根據不同基材表面調節負壓選擇相應墨滴半徑，并根據墨滴半徑相應步距進行路徑規劃生成帶有噴射區間指令的G代碼；

步驟三，根據帶有噴射區間指令的G代碼，計算開始打印起始坐標和打印區間長度，根據墨滴半徑對打印長度進行墨滴半徑補償，并存入打印長度變量中；

步驟四，根據優化出來的打印長度和墨滴半徑確定打印時墨滴間距，進行墨滴落點初規劃，根據非整數倍步長的剩余打印區的大小從新微調墨滴間距，提高導電圖形邊界整齊度；

步驟五，打印導電圖形表面；

步驟六重復步驟三到步驟五，將所有執行代碼執行完成，最終獲得導電圖形，結束打印。

2.如權利要求1所述的納米銀噴墨打印墨滴邊界對齊優化方法，其特征在于，所述步驟一中負壓與墨滴半徑關系為：

R(x)＝y₀R₀(x)+y₁R₁(x)+y₂R₂(x)+y₃R₃(x)；

其中：負壓值x₀、x₁、x₂、x₃，負壓值對應的墨滴平均半徑y₀、y₁、y₂、y₃。

3.如權利要求1所述的納米銀噴墨打印墨滴邊界對齊優化方法，其特征在于，所述步驟三中墨滴半徑補償公式為：

其中：墨滴半徑R和墨滴間距S。

4.如權利要求1所述的納米銀噴墨打印墨滴邊界對齊優化方法，其特征在于，所述步驟四中墨滴落點對齊優化包括：

墨滴半徑補償后打印區間長度：L_new＝L-2h；

將打印區間分成N段：

判斷四舍五入：若N*L_onestep≥L_new則為五入；

若N*L_onestep≤L_new則為四舍；

若為四舍，誤差長度為：L_rest＝L_new-N*L_onestep；

優化后的墨滴間距為：

若為五入，誤差長度為：L_rest＝N*L_onestep-L_new；

優化后的墨滴間距為：

打印墨滴數量N+1；

其中打印區間長度L_new，墨滴步距L_onestep，整數N，將打印區間分成N段，需要打印N+1個點，誤差長度L_rest，墨滴間距L_newstep。

5.如權利要求1所述的納米銀噴墨打印墨滴邊界對齊優化方法，其特征在于，所述步驟五中根據優化后的墨滴間距L_newstep和墨滴數量N+1，進行工作，由下位機判斷是否進入打印區間，若進入打印區間，壓電噴頭開始噴射第一個點，當運行距離為優化后的墨滴間距L_newstep的整數倍時，壓電噴頭就噴一個點，當噴射墨滴數量N+1時，結束工作。

6.一種使用權利要求1～5任意一項所述納米銀噴墨打印墨滴邊界對齊優化方法的打印機。