[發明專利]一種曝光機及其發光裝置有效
| 申請號: | 201710597926.7 | 申請日: | 2017-07-20 |
| 公開(公告)號: | CN107179653B | 公開(公告)日: | 2018-10-19 |
| 發明(設計)人: | 夏浩 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 鐘子敏 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 曝光 及其 發光 裝置 | ||
1.一種曝光機,其特征在于,包括:
發光裝置;
透鏡機構,所述透鏡機構位于所述發光裝置的出光側,包括多個透鏡,且所述多個透鏡中的至少兩個透鏡存在至少部分重疊以形成重疊區;
所述發光裝置發出的第一光線經所述透鏡機構的所述重疊區透射至曝光對象上,所述發光裝置發出的第二光線經所述透鏡機構的所述重疊區外的其他區域透射至所述曝光對象上;
其中,所述發光裝置發出的第一光線的強度高于所述發光裝置發出的第二光線的強度。
2.根據權利要求1所述的曝光機,其特征在于,所述發光裝置包括:
光源;
設置于所述光源出光側的第一半透鏡,所述第一半透鏡對應所述透鏡機構的其他區域設置,用于將所述光源發出的光部分透射至所述透鏡機構的其他區域,其中,所述第一半透鏡折彎;
設置于所述光源出光側的第二半透鏡,所述第二半透鏡對應所述透鏡機構的重疊區設置,且所述第二半透鏡設置于所述第一半透鏡的光反射側,用于將所述光源發出的光部分透射至所述透鏡機構的重疊區,以及將所述第一半透鏡反射的光反射至所述透鏡機構的重疊區。
3.根據權利要求2所述的曝光機,其特征在于,
所述第一半透鏡折彎形成第一折彎部和第二折彎部,所述第二半透鏡平行設置與所述第一折彎部或第二折彎部的光反射側,所述第二半透鏡的透光率大于所述第一半透鏡的透光率;
且所述第一半透鏡和所述第二半透鏡在光線方向上不重疊。
4.根據權利要求2所述的曝光機,其特征在于,
所述第一半透鏡的透光率大于90%且小于95%。
5.根據權利要求2所述的曝光機,其特征在于,所述發光裝置進一步包括:
透光率可調的調光鏡,所述調光鏡位于所述第一半透鏡和/或第二半透鏡靠近所述透鏡機構的一側,用于調整所述第一半透鏡和/或第二半透鏡射至所述透鏡機構的對應區域的光線強度。
6.根據權利要求1所述的曝光機,其特征在于,所述發光裝置包括:
第一光源,對應所述透鏡機構的重疊區設置,用于產生所述第一光線;
第二光源,對應所述透鏡機構的其他區域設置,用于產生所述第二光線。
7.根據權利要求6所述的曝光機,其特征在于,
所述第一光源和/或第二光源的光強可調。
8.根據權利要求1所述的曝光機,其特征在于,所述曝光機進一步包括:
多個感應裝置,設于所述透鏡機構的出光側,且所述多個感應裝置分別對應所述透鏡機構的重疊區和所述其他區域設置,用于檢測所述透鏡機構的所述重疊區射出的光線強度與所述透鏡機構的其他區域射出的光線強度。
9.根據權利要求8所述的曝光機,其特征在于,
所述發光裝置根據所述多個感應裝置的檢測結果,調整所述第一光線和/或第二光線的強度,以使所述多個感應裝置檢測到的所述透鏡結構的所述重疊區射出的光線強度與所述透鏡機構的所述其他區域射出的光線強度滿足設定強度條件。
10.一種曝光機的發光裝置,其特征在于,所述發光裝置的出光區域包括第一出光區域和第二出光區域,所述第一出光區域的光用于經所述曝光機的透鏡機構的重疊區射至曝光對象,所述第二出光區域的光用于經所述曝光機的透鏡機構的非重疊區射至曝光對象;其中,所述透鏡機構的重疊區為所述透鏡機構中的至少兩個透鏡至少部分重疊形成的,所述發光裝置可獨立調整所述第一出光區域和第二出光區域中的光強。
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