[發明專利]一種遮光層、彩色濾光片及顯示面板有效
| 申請號: | 201710596533.4 | 申請日: | 2017-07-20 |
| 公開(公告)號: | CN107329364B | 公開(公告)日: | 2020-06-05 |
| 發明(設計)人: | 唐道矜;翁國光 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00;G02F1/1335;G09F9/00 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 鐘子敏 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 遮光 彩色 濾光 顯示 面板 | ||
本發明公開了一種遮光層、彩色濾光片及顯示面板。多個拼接的鏡頭的曝光機通過該遮光層進行曝光,該曝光機包括交替設置的第一區域和第二區域,第二區域對應于多個鏡頭的拼接處,在該曝光機進行曝光時,該曝光機所產生的光通過第一區域的光強度和通過第二區域的光強度相等。通過這種方式,能夠在提高彩色濾光片及顯示面板的透光率的同時,改善其顯示效果。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,特別是涉及一種遮光層、彩色濾光片及顯示面板。
背景技術
在現有的顯示屏技術中,為提高背光的透過率,節省電能,通常采用減小彩色濾光片的黑色矩陣層的尺寸,增大開口率來實現。傳統的彩膜曝光設備無法有效的減少被曝光圖形的尺寸,因此,越來越多的廠家引入了可實現更加細線化的設備,如尼康曝光機,尼康曝光機利用多鏡頭拼接的方式實現對圖形的曝光,曝光后的圖形寬度可達幾微米的精度。
本發明的發明人在長期的研發中發現,在目前現有技術中,該光學鏡頭拼接曝光在鏡頭拼接處會因曝光能量損耗等因素,造成曝光后的鏡頭拼接處的圖形尺寸與非鏡頭拼接處的圖形尺寸存在差異,從而影響彩色濾光片及整個顯示面板的顯示效果。
發明內容
本發明主要解決的技術問題是提供一種遮光層、彩色濾光片及顯示面板,以在提高彩色濾光片及顯示面板的透光率的同時,改善其顯示效果。
為解決上述技術問題,本發明采用的一個技術方案是:提供一種遮光層,曝光機通過所述遮光層進行曝光,所述曝光機包括多個拼接的鏡頭。所述遮光層包括交替設置的第一區域和第二區域,所述第二區域對應于所述多個鏡頭的拼接處,在所述曝光機進行曝光時,所述曝光機所產生的光通過所述第一區域的光強度和通過所述第二區域的光強度相等。
為解決上述技術問題,本發明采用的另一個技術方案是:提供一種彩色濾光片。所述彩色濾光片包括黑色矩陣層;所述黑色矩陣層是利用遮光層作為掩膜,在曝光機的曝光下形成;所述曝光機包括多個拼接的鏡頭;所述遮光層包括交替設置的第一區域和第二區域,所述第二區域對應于所述多個鏡頭的拼接處,在所述曝光機進行曝光時,所述曝光機所產生的光通過所述第一區域的光強度和通過所述第二區域的光強度相等。
為解決上述技術問題,本發明采用的又一個技術方案是:提供一種顯示面板。所述顯示面板包括上述彩色濾光片。
本發明實施例的有益效果是:區別于現有技術,本發明實施例利用包括多個拼接鏡頭的曝光機對遮光層進行曝光,其中,遮光層包括交替設置的第一區域和第二區域,其中,第二區域對應于多個鏡頭的拼接處,在曝光機進行曝光時,使曝光機所產生的光通過第一區域的光強度和通過第二區域的光強度相等。本發明實施例通過多鏡頭拼接曝光,能夠增加彩色濾光片及顯示面板的開口率,提高其透光率,且本發明實施例使曝光機所產生的光通過第一區域的光強度和通過第二區域的光強度相等,能夠改善曝光機在鏡頭拼接處所產生的曝光差異,從而能夠改善曝光形成的圖形的差異,進而改善彩色濾光片及顯示面板的顯示效果。
附圖說明
圖1是本發明遮光層一實施例的結構示意圖;
圖2A是本發明遮光層另一實施例的結構示意圖;
圖2B是利用圖2A實施例的遮光層及曝光機對黑色矩陣層進行曝光的結構示意圖;
圖3是本發明遮光層的半色調膜一實施例的部分結構的結構示意圖;
圖4是本發明遮光層的半色調膜另一實施例的結構示意圖;
圖5是本發明彩色濾光片一實施例的結構示意圖;
圖6是本發明顯示面板一實施例的結構示意圖。
具體實施方式
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





