[發明專利]一種基于特征模型到背景模型距離的背景建模方法在審
| 申請號： | 201710596025.6 | 申請日： | 2017-07-20 |
| 公開（公告）號： | CN107392246A | 公開（公告）日： | 2017-11-24 |
| 發明（設計）人： | 楊路;李靜;杜鵬;梁黃黃;程洪 | 申請（專利權）人： | 電子科技大學 |
| 主分類號： | G06K9/62 | 分類號： | G06K9/62;G06T7/194;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司： | 成都信博專利代理有限責任公司51200 | 代理人： | 張輝 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 特征 模型 背景 距離 建模 方法 | ||
1.一種基于特征模型到背景模型距離的背景建模方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟1：將訓練樣本對應的標準圖像作為訓練樣本的標簽，每次選取訓練樣本中連續M1幀圖像和對應的標簽送入全卷積網絡進行訓練；
步驟2：將當前幀圖像送入步驟1中訓練好的全卷積網絡，所得到的低、高層網絡特征層特征圖集的特征向量作為像素點的特征模型；
步驟3：根據步驟2中方法，連續提取前N幀圖像的特征模型，對像素點的背景模型進行初始化操作；
步驟4：根據步驟2中方法，提取當前幀圖像的特征模型vp，再計算特征模型vp到背景模型Mp的最小M2M距離min_M2M(vp,Mp)；
步驟5：設置前景分割的閾值Rp，若min_M2M(vp,Mp)＞Rp，則對應的像素點為前景點，反之為背景點；
步驟6：對已經判斷為背景點的像素點，按照像素點背景模型更新和領域像素點的背景模型更新方法對整體的背景模型進行更新。
2.如權利要求1所述的一種基于特征模型到背景模型距離的背景建模方法，其特征在于，所述全卷積網絡包括19個卷積層、3個softmax層和5個殘差學習快捷連接部件。
3.如權利要求1所述的一種基于特征模型到背景模型距離的背景建模方法，其特征在于，當前幀圖像經過全卷積網絡后所得到的像素點P的特征模型表示為：
其中，表示根據低網絡特征層特征圖集得到的特征向量；表示根據高網絡特征層特征圖集得到的特征向量；M表示網絡層輸出M個特征圖集。
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