[發明專利]一種多源斜插式等離子體氣體處理裝置

有效

• 申請號: 201710592292.6
• 申請日: 2017-07-19
• 公開（公告）號: CN107281912B
• 公開（公告）日: 2019-12-27
• 發明（設計）人: 陳挺;劉文龍;周磊;徐晨
• 申請（專利權）人: 浙江全世科技有限公司
• 主分類號: B01D53/74
• 分類號: B01D53/74
• 代理公司: 31236 上海漢聲知識產權代理有限公司
• 代理人: 葉龍飛;胡晶

本發明公開了一種多源斜插式等離子體氣體處理裝置，包括進氣通道、減速腔、氣體處理區、排氣吸收裝置和等離子體源，氣體處理區的上端依次連有減速腔和進氣通道，氣體處理區的下端連有排氣吸收裝置；氣體處理區包括若干個層式連接的氣體處理腔，沿每個氣體處理腔的周向設置若干排連通其腔體的等離子體源插入口，等離子體源插入口上設有等離子體源，其中，等離子體源的軸線與氣體處理腔的中心軸所成的夾角為銳角。本發明在大流量的進氣情況下，多個等離子體源同時工作，且各等離子體與待處理氣體可以充分接觸，大大提高了等離子體的氣體處理效果和效率，具有結構簡單，空間利率高，易維護和維修的優點。

技術領域

本發明屬于氣體處理和大氣凈化技術領域，特別涉及一種多源斜插式等離子體氣體處理裝置。

背景技術

隨著我國工業快速發展，全國范圍內大氣污染程度日趨嚴峻，大部分地區經常性的出現持續大范圍霧霾天氣。目前，主要的大氣凈化方法和技術主要有液體吸收法、吸附法、熱氧化、生物處理法、冷凝法和等離子體技術，其中，等離子體技術實現大氣凈化的原理如下：

(1)通過碰撞，高能電子把能量傳遞給其他粒子，獲得能量的其他粒子被激發，同時也有一些粒子被電離成活性基團；

(2)活性基團從高能激發態躍遷并產生紫外光，紫外光與有害氣體成分發生反應從而使氣體分子鍵斷裂；

(3)活性粒子能夠直接降解有機廢氣中的有害物質，并可與有機廢氣中所含其它分子作用并產生新的激發態物質，從而將有害物降解為二氧化碳和水等無害物質。

通過上述原理可以發現，等離子體技術進行大氣凈化的過程實際上是能量的傳遞和轉換過程。目前的等離子氣體處理裝置，一般采用進氣方向與等離子體炬焰成垂直或水平夾角。當進氣方向與等離子體炬焰成垂直夾角時，等離子體能量利用高，但所能承受的氣流量低，大流量情況時，甚至會出現等離子體炬焰被吹熄的問題，致使單位等離子體裝置的平均處理速率較低；當進氣方向與等離子體炬焰成水平夾角時，所能承受的氣流量較大，但等離子體能量利用率低。

因此，現有技術為了提高氣體處理量，一般采用大腔室內炬陣式排列多個等離子體同時工作來提高氣體的處理速率，但由于空間內氣體無法與等離子體充分接觸，導致氣體處理不充分，處理效果差的問題；和，為了提高氣體的處理效果，一般采用多個等離子體炬陣式處理腔室串聯、并聯或串并聯相結合的方式，即第一個等離子體炬陣處理腔室出來的氣體通入第二炬陣式處理腔室再次進行處理，這樣導致了氣體處理裝置體積大且結構復雜，維護成本很高。

發明內容

本發明提供一種多源斜插式等離子體氣體處理裝置，通過將多個等離子體源斜插于氣體處理區的腔內，形成多源斜插式結構，通過該多源斜插式結構解決傳統等離子裝置中存在的氣流速承受能力弱、處理效率低、效率差、結構復雜等問題。

本發明的技術方案如下：

一種多源斜插式等離子體氣體處理裝置，包括進氣通道、減速腔、氣體處理區、排氣吸收裝置和等離子體源，所述的氣體處理區的上端依次連有所述的減速腔和所述的進氣通道，所述的氣體處理區的下端連有所述的排氣吸收裝置；

所述的氣體處理區包括若干個層式連接的氣體處理腔，沿每個所述的氣體處理腔的周向設置若干排連通其腔體的等離子體源插入口，所述的等離子體源插入口上設有所述的等離子體源，其中，所述的等離子體源的軸線與所述的氣體處理腔的中心軸所成的夾角為銳角；

待處理的氣體沿所述的進氣通道進入所述的減速腔，減速后進入所述的氣體處理區，經多級所述的等離子體源處理，進入所述的排氣吸收裝置吸收處理后，排出至外界。

優選為，設置在所述的氣體處理腔上的所述的等離子體源插入口，其相連兩排之間為交叉排列設置。

優選為，每個所述的氣體處理腔上設有一排所述的等離子體源插入口。