[發明專利]一種工業化化學水浴法沉積薄膜的反應藥液加熱裝置

在審

• 申請號: 201710591521.2
• 申請日: 2017-07-19
• 公開（公告）號: CN107313029A
• 公開（公告）日: 2017-11-03
• 發明（設計）人: 張情情;李敏;錢喆瑜;鐘華良;朱家寬;劉杰鵬;高錦龍
• 申請（專利權）人: 旭科新能源股份有限公司
• 主分類號: C23C18/02
• 分類號: C23C18/02
• 代理公司: 杭州九洲專利事務所有限公司33101
• 代理人: 翁霽明

1.一種工業化化學水浴法沉積薄膜的反應藥液加熱裝置，它包括一配套用于反應設備（1）的加熱系統（2）；所述的反應設備（1）主要由反應槽（102）和置于反應槽（102）上部的反應槽上蓋（101）組成，其特征在于所述的反應槽上蓋通過內設于反應槽上部的反應槽托板（103）安置在反應槽（102）上部；

所述加熱系統包含若干數量的加熱板（202）、吹掃氣體裝置（203）、阻擋條（204），其中加熱板（202）固定在反應槽上蓋的下表面并被置于反應槽內，所述的吹掃氣體裝置設置在加熱板（202）周邊；所述的阻擋條（204）有多條并設置在反應槽內。

2.根據權利要求1所述的工業化化學水浴法沉積薄膜的反應藥液加熱裝置，其特征在于所述的反應設備（1）還配置有一由反應液混藥箱（301）、反應液抽水泵（302）和循環管道（303）構成的藥液循環系統；所述的反應液混藥箱（301）經反應液抽水泵（302）、通過循環管道（303）連通于反應槽（102）中；

所述的加熱板（202）由發熱裝置和安裝外殼固定連接而成；所述加熱板（202）周邊布置的吹掃氣體裝置（203）由若干均勻布置的、分別連通外接壓力氣源的噴口構成。

3.根據權利要求1或2所述的工業化化學水浴法沉積薄膜的反應藥液加熱裝置，其特征在于所述的反應槽（102）入口高度高于出口高度，所述反應槽（102）深度為0.5-5cm；所述反應槽（102）內安裝的阻擋條（204）布置成與反應藥液垂直流向之間的夾角為45度至90度；所述加熱板（202）的發熱裝置包括紅外線加熱板、鎧裝加熱板、燈管加熱板中的任一一種。

4.根據權利要求3所述的工業化化學水浴法沉積薄膜的反應藥液加熱裝置，其特征在于所述的阻擋條（201）材質為金屬、石墨、合金的一種；所述反應槽（102）的寬度比襯底寬度窄，且所述襯底搭在反應槽兩側、由襯底正面與反應液接觸進行單層鍍膜；所述加熱板（202）與襯底上表面距離為10-500mm。